JPS61262702A - 合成樹脂製光学部材の反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂製光学部材の反射防止膜Info
- Publication number
- JPS61262702A JPS61262702A JP60105550A JP10555085A JPS61262702A JP S61262702 A JPS61262702 A JP S61262702A JP 60105550 A JP60105550 A JP 60105550A JP 10555085 A JP10555085 A JP 10555085A JP S61262702 A JPS61262702 A JP S61262702A
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- Japan
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- refractive index
- synthetic resin
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、合成樹脂製光学部材の反射防止膜に関する。
［従来の技術］
プラスチックレンズ等の合成樹脂製光学部材は、軽量性
、安いコスト、任意の形状に加工可能であること等の理
由により現在広く使用されるようになってきた。だが、
逆に上記光学部材の表面硬度が低（傷が付き易く、比抵
抗が高いために帯電し易いといった欠点を有している。
、安いコスト、任意の形状に加工可能であること等の理
由により現在広く使用されるようになってきた。だが、
逆に上記光学部材の表面硬度が低（傷が付き易く、比抵
抗が高いために帯電し易いといった欠点を有している。
一方、これらの欠点を克服する機能を合せ持った反射防
止膜を作成する試みが種々なされてきた。
止膜を作成する試みが種々なされてきた。
一般に反射防止膜は、低屈折率材料と高屈折率材料とを
適宜に組み合せ、真空蒸岩等の手段により形成される。
適宜に組み合せ、真空蒸岩等の手段により形成される。
この組み合せと形成方法とを選択する条件は、もちろん
所望の光学特性が得られること、更には上記光学部材に
対する付着力、表面硬度、種々の耐久性が高いこと等で
ある。このような材料としては、付着力、表面硬度等が
優れている等の理由からシリコンオキサイドを使う場合
が多い。
所望の光学特性が得られること、更には上記光学部材に
対する付着力、表面硬度、種々の耐久性が高いこと等で
ある。このような材料としては、付着力、表面硬度等が
優れている等の理由からシリコンオキサイドを使う場合
が多い。
例えば、下地層としてＳｉＯ３の厚膜を形成したり（特
開昭５２−１５６８４３号公報）、あるいは真空蒸着の
蒸着条件を変えることによって高屈折率のシリコンオキ
サイドと低屈折率のシリコンオキサイドとを作り出し、
いわゆるλ／４−λ／４またはλ／４−λ／２の２層構
成で付着力、表面硬度、反射防止効果を得ようとするこ
とも行なわれている（特公昭５３−３０６号公報）。ま
た、Ｓ ｓ Ｏ２の下地層の上に、酸化珪素、酸化ジル
コニウムを酸素の存在下で同時蒸着して屈折率的１．８
の膜を形成し、さらにその上に屈折率的１．５のＳｉＯ
□の膜を形成する方法もある（特開昭５５−１１０１２
７号公報）。この場合の蒸着手段は、真空蒸着またはイ
オンブレーティングあるいはこれらの併用で行なわれて
いる。
開昭５２−１５６８４３号公報）、あるいは真空蒸着の
蒸着条件を変えることによって高屈折率のシリコンオキ
サイドと低屈折率のシリコンオキサイドとを作り出し、
いわゆるλ／４−λ／４またはλ／４−λ／２の２層構
成で付着力、表面硬度、反射防止効果を得ようとするこ
とも行なわれている（特公昭５３−３０６号公報）。ま
た、Ｓ ｓ Ｏ２の下地層の上に、酸化珪素、酸化ジル
コニウムを酸素の存在下で同時蒸着して屈折率的１．８
の膜を形成し、さらにその上に屈折率的１．５のＳｉＯ
□の膜を形成する方法もある（特開昭５５−１１０１２
７号公報）。この場合の蒸着手段は、真空蒸着またはイ
オンブレーティングあるいはこれらの併用で行なわれて
いる。
［発明が解決しようとする問題点］
上述の表面硬度を高めるために、「従来の技術」に示し
たように厚膜層を形成したり、あるいはシリコン系の塗
布剤をコートする手段もある。しかし、いずれの手段を
用いるにしろ形成される膜が厚いために、加工時間が長
かったり、光の吸収が無視できなかったり、分光特性に
ユラギを生ずるといった欠点があった。
たように厚膜層を形成したり、あるいはシリコン系の塗
布剤をコートする手段もある。しかし、いずれの手段を
用いるにしろ形成される膜が厚いために、加工時間が長
かったり、光の吸収が無視できなかったり、分光特性に
ユラギを生ずるといった欠点があった。
また、逆に反射防止効果を重視して厚膜を用いない構成
では、膜自身は厚膜同様硬いが、その薄さのために基板
と膜との合わさった系においては基板の柔らかさが支配
的に出てしまうという欠点がある。このように表面硬度
と反射防止効果とは、一方を強調すると他方が劣ってし
まうというように反比例の関係にある。本発明は上述の
ような問題点に着目してなされたものであり、厚膜を用
いなくても表面硬度が高く、且つ反射防止効果の高い反
射防止膜を提供することを目的とする。
では、膜自身は厚膜同様硬いが、その薄さのために基板
と膜との合わさった系においては基板の柔らかさが支配
的に出てしまうという欠点がある。このように表面硬度
と反射防止効果とは、一方を強調すると他方が劣ってし
まうというように反比例の関係にある。本発明は上述の
ような問題点に着目してなされたものであり、厚膜を用
いなくても表面硬度が高く、且つ反射防止効果の高い反
射防止膜を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段および作用］上記問題点
を解決するために、本発明では、反射防止膜として合成
樹脂製光学部材の表面に、順にＡｌＮ層と低屈折率材料
層を蒸着して形成したものであり、この低屈折率材料層
としてはＳｉ Ｏ２。
を解決するために、本発明では、反射防止膜として合成
樹脂製光学部材の表面に、順にＡｌＮ層と低屈折率材料
層を蒸着して形成したものであり、この低屈折率材料層
としてはＳｉ Ｏ２。
ＭｇＦ２等を〜用いることができる。このようにすると
、表面硬度が高く、且つ反射防止効果を高めるという二
つの問題点を同時に解決することができる。
、表面硬度が高く、且つ反射防止効果を高めるという二
つの問題点を同時に解決することができる。
Ｃ実 施 例］
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
本発明の第１の実施例の合成樹脂製光学部材の反射防止
膜は、第１図に示すように構成されている。即ち、屈折
率１．４９の合成樹脂製光学部材としてのポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）基板１上に、屈折率が１．８
７で光学的膜厚が４０ｎｍの第１届としてのＡｆＩＮ層
２を５ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの真空槽で電子銃によっ
てＡｇを蒸発させ、同時にＮ２イオンビームを基板に照
射することによって形成する。次いで、第２層としての
Ｓ ｉｏ ２層３を電子銃によって蒸着する。このＳ
１０２層３は、屈折率が１．４７で光学的膜厚は１６８
ｎｍである。
膜は、第１図に示すように構成されている。即ち、屈折
率１．４９の合成樹脂製光学部材としてのポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）基板１上に、屈折率が１．８
７で光学的膜厚が４０ｎｍの第１届としてのＡｆＩＮ層
２を５ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒの真空槽で電子銃によっ
てＡｇを蒸発させ、同時にＮ２イオンビームを基板に照
射することによって形成する。次いで、第２層としての
Ｓ ｉｏ ２層３を電子銃によって蒸着する。このＳ
１０２層３は、屈折率が１．４７で光学的膜厚は１６８
ｎｍである。
このような構成にした場合の分光反射率特性を第２図に
示す。
示す。
次に、第２の実施例の場合は、第３図に示すように屈折
率１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基
板１上に、先ず第１層としてのＡ、ＩＩＮ層１１を、５
Ｘ １０’−５Ｔｏｒｒの真空槽で電子銃によって蒸
発させ、同時にＮ２イオンビームを上記基板１上に照射
する。次いで、第２層としての５１０２層１２を電子銃
によって蒸着する。この場合の屈折率は１．４７で光学
的膜厚は２００ｎｍである。
率１．４９のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基
板１上に、先ず第１層としてのＡ、ＩＩＮ層１１を、５
Ｘ １０’−５Ｔｏｒｒの真空槽で電子銃によって蒸
発させ、同時にＮ２イオンビームを上記基板１上に照射
する。次いで、第２層としての５１０２層１２を電子銃
によって蒸着する。この場合の屈折率は１．４７で光学
的膜厚は２００ｎｍである。
このような構成にしたときの分光反射率特性を第４図に
示す。
示す。
［発明の効果］
本発明によれば、前記第２．４図に示すように反射防止
効果が高く、また反射防止膜の表面硬度が高い。即ち、
５１０２薄膜の微小硬度は５００〜６００程度であるの
に対し、ＡＩＩＮ薄膜のそれは１５００以上である。し
たがって、Ｓ ｉ Ｏ２だけを使う反射防止膜に比べて
表面硬度ははるかに高くなる。
効果が高く、また反射防止膜の表面硬度が高い。即ち、
５１０２薄膜の微小硬度は５００〜６００程度であるの
に対し、ＡＩＩＮ薄膜のそれは１５００以上である。し
たがって、Ｓ ｉ Ｏ２だけを使う反射防止膜に比べて
表面硬度ははるかに高くなる。
第１．２図は、本発明の第１の実施例を示す合成樹脂製
光学部材の反射防止膜の拡大断面図およびその分光反射
率特性を示す図、 第３．４図は、本発明の第２の実施例を示す合成樹脂製
光学部材の反射防止膜の拡大断面図およびその分光反射
率特性を示す図である。 １・・・・・・・・・・・・・・・合成樹脂製光学部材
２．１１・・・・・・ＡＩＮ層 ３．１２・・・・・・低反射率材料層 ％１ 四 ８２図 ％３図 、＄４図 手 続 補 正 書 （自発）１、事件の表示
昭和６０年特許願第１０５５５０号２、発明
の名称 合成樹脂製光学部材の反射防止膜３、
補正をする者 名 称 （０３７） オリンパス光学工業株
式会社５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄および「図面の簡単
な説明」の欄 ６、補正の内容 ：１）明細書第５頁第１４行中に記載の「照射する。」
の次に、 「屈折率は１．８７で光学的膜厚は２００ｎｍである。 」 を加入します。 ］２）同 第６頁第１８行中に記載の「低反射率材料層
」を、「低屈折率材料層」に訂正します。
光学部材の反射防止膜の拡大断面図およびその分光反射
率特性を示す図、 第３．４図は、本発明の第２の実施例を示す合成樹脂製
光学部材の反射防止膜の拡大断面図およびその分光反射
率特性を示す図である。 １・・・・・・・・・・・・・・・合成樹脂製光学部材
２．１１・・・・・・ＡＩＮ層 ３．１２・・・・・・低反射率材料層 ％１ 四 ８２図 ％３図 、＄４図 手 続 補 正 書 （自発）１、事件の表示
昭和６０年特許願第１０５５５０号２、発明
の名称 合成樹脂製光学部材の反射防止膜３、
補正をする者 名 称 （０３７） オリンパス光学工業株
式会社５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄および「図面の簡単
な説明」の欄 ６、補正の内容 ：１）明細書第５頁第１４行中に記載の「照射する。」
の次に、 「屈折率は１．８７で光学的膜厚は２００ｎｍである。 」 を加入します。 ］２）同 第６頁第１８行中に記載の「低反射率材料層
」を、「低屈折率材料層」に訂正します。
Claims (1)
- 合成樹脂製光学部材の表面上に、先ず、ＡｌＮ層を形成
し、次いで低屈折率材料層を形成したことを特徴とする
合成樹脂製光学部材の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60105550A JPS61262702A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60105550A JPS61262702A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61262702A true JPS61262702A (ja) | 1986-11-20 |
Family
ID=14410676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60105550A Pending JPS61262702A (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61262702A (ja) |
-
1985
- 1985-05-17 JP JP60105550A patent/JPS61262702A/ja active Pending
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