JPS61261386A - 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 - Google Patents

砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤

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Publication number
JPS61261386A
JPS61261386A JP60101461A JP10146185A JPS61261386A JP S61261386 A JPS61261386 A JP S61261386A JP 60101461 A JP60101461 A JP 60101461A JP 10146185 A JP10146185 A JP 10146185A JP S61261386 A JPS61261386 A JP S61261386A
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JP
Japan
Prior art keywords
lapping
lubricant
polishing
ether
abrasive grains
Prior art date
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Pending
Application number
JP60101461A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Tanaka
和雄 田中
Shigeaki Matsuno
茂昭 松野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PARESU KAGAKU KK
Original Assignee
PARESU KAGAKU KK
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Filing date
Publication date
Application filed by PARESU KAGAKU KK filed Critical PARESU KAGAKU KK
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Publication of JPS61261386A publication Critical patent/JPS61261386A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Lubricants (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フェライト、セラミック、ガラス、金属等の
被削材を修正輪(リング)型ラッピング・ポリッシング
機によりラッピング又はポリッシング加工、即ち表面の
研削又は研磨をする際に使用する潤滑剤組成物に関する
ものである。
【釆立且遣 このタイプのラッピング又はポリッシング機構は、上板
に錫又は銅、下板に鉄又はアルミニウムを使用した二層
構造のラップ板(ポリッシュ板)を回転させ、その板上
にワーク(フェライト、セラミック等の被削材を貼った
面板)を載せて、潤滑剤を注入しながら共すり又は強制
回転させてラッピング又はポリッシングを行うものが一
般的である。
この際使用する潤滑剤として、主成分としてメタノール
、エタノール等の一価のアルコールに水及び非イオン又
は陰イオン等の界面活性剤を配合し、これに各種砥粒を
分散せしめた市販品があるが、これらはラッピング又は
ポリッシングの際に成分中のアルコール及び水が蒸発す
るため残存液の粘度が高−くなり、砥粒の粒子以上に液
膜の厚みが増し、ポリッシング効果が悪くなる。まして
ラッピング性能は著しく低下する。
また−価のアルコールは水と共沸するので乾燥を促進し
、潤滑剤の寿命を短くしているばかりでなく、危険でも
あり、アルコールによっては毒性も高い。
が解・ しようとする問題点 本発明者等は上記のような従来の潤滑剤の欠点を解決し
、高能率でラッピング又はポリッシングを行なえると共
に、危険性、毒性のない潤滑剤を提供することを目的と
して研究した結果、ラッピング・ポリッシング潤滑剤の
必要性状として、(1)粘度範囲としては40℃で1.
0〜100センチストークスの範囲のものが好ましい、
粘度が1.0未満のものは潤滑膜切れの原因となり、ま
たlOOを越える場合については、砥粒粒子具1の液厚
になり、いずれの場合もラッピング及びポリッシングの
効果が阻害される; (2)比熱範囲としては0 、45 c a 1 / 
g ・”C以上が好ましい、0.45cal/g・℃未
満では研削熱の発生により冷却効果を阻害し、ラップ板
(ポリッシュ板)の変形が見られ、被削材の平行度に悪
影響を及ぼし好ましくない;。
(3)沸点範囲としては90℃以上、好ましくは100
℃以上でなければならない、これはラップ板(ポリッシ
ュ板)が回転することにより遠心力が働き、ざらに被削
材とのクリアランスが非常に小さいことから潤滑膜が薄
膜となり、沸点が90°C未満のものを使用した場合、
直ちに乾燥状体になり、潤滑膜切れが生じることから、
ラッピング又はポリッシング性能が低下するからである
;ということを見出し、これらの性状を満足させるもの
として本発明を完成した。
発明の構成 ・間 点 解決するための手段 本発明のラッピング・ポリッシング潤滑剤は、多価アル
コール、多価アルコールのアルキルエーテル、多価アル
コールのアリルエーテル及びそれらの水溶液からなる群
から選ばれる基材に砥粒を混合・分散させてなる砥粒分
散型スラリー状のものである。
本発明において基材として使用される多価アルコールと
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、イソプロピレングリコール、ブ
チレングリコール、アミレンゲリコール、ヘキシレング
リコール、グリセリン、ポリエチレンゲルコール、ポリ
プロピレングリコールなどが挙げられ、多価アルコール
のアルキルエーテルとしては、ジエチレングリコールエ
チルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル
、ジエチレングリコールブチルエーテル。
ジエチレングリコールペンチルエーテル、ジエチレング
リコールヘキシルエーテルなど、また多価アルコールの
アリルエーテルとしては、ポリオキシエチレンアルキル
アリルエーテルなどが挙げられる。
これらは単独で使用してもよいし、2種類以上を混合し
て使用してもよいし、また適量の水を加えて水溶液とし
て使用してもよい。
適量の水は、前記の如く、粘度範囲として40℃で1.
0〜100センチストークス、比熱範囲として0 、4
5 c a 1 / g・℃以上という条件を多価アル
コール又はそのエーテル類だけでは満たし得ない場合に
、冷却力の増加及び粘性低下を計る希釈剤として混合さ
れる。
多価アルコール又はそのエーテル類に対する水の配合量
は0〜95%、好ましくは0〜75%の範囲にあること
が望ましい。水分量が95%以上になると油膜切れが生
じ易く、ラッピング及びポリッシング効果が低下する。
本発明における基材は、ラッピング又はポリッシング時
、砥粒の分散性を容易にさせて均−且つ効果的なラッピ
ング又はポリッシング効果を与えるものであり、さらに
研削されて出た微粉等を分散して排出する機能をも有す
る。
また多価アアルコール又はそのエーテル類は高佛点で、
危険性、毒性がないので、作業環境が良好になる。
基材に混合・分散させる砥粒としては従来からこの目的
に一使用されている材料、例えばダイヤモンド、GC,
WA等の砥材の微粒を使用することができる。
ラッピング又はポリッシング特性の評価方法は単位時間
当りの研削量にて表示される。ラッピングの点から見る
と砥粒粒径が大きいほど研削量が増大するが、その反面
砥粒粒径が小さいほど研削きずが小さく、良好なポリッ
シングが行なわれるので好ましい。
本発明の潤滑剤は、小さい砥粒(O〜2JLm)を使用
した場合でも優れた研削効果を示すので、ラッピングに
もポリッシングにも使用できる。
本発明のラッピング拳ポリッシング潤滑剤には必要に応
じて防食剤や酸化防止剤を使用することが出来る。
添加し得る防食剤の例を挙げれば、アビエチン酸等のロ
ジン(コロホニウム)塩類、ナフテン酸鉛やステアリン
酸アルミニウム等のカルボン酸金属塩類、スルホン酸カ
ルシウム等のスルホン酸金属塩類、ソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エス
テル類、ポリオキシアルキレンエステル類等の非イオン
界面活性剤が用いられる。しかしこの防食剤は本発明の
目的を達成する上で必ずしも必要となるものではない。
防食剤の好ましい配合量は全組成物基準で約0.1−1
0.0重量%である。
酸化防止剤としては、例えば、ビスフェノール類、ナフ
チルアミン類、ジンクジアルキルジチオフォスフェート
類、ジ−t−ブチルアルキルフェノール類、ケトン−ア
ミン縮合物、ベンゾトリアゾール類等が用いられる。酸
化防止剤の好ましい配合量は全組成物基準で約0.1−
10.0重量%である。
以下本発明の実施例及び比較例を挙げて本発明品の構成
及び効果を説明するが、必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
二 −例1〜9 び比較例1〜2 砥粒として粒径分布0〜2pmのダイヤモンドを使用し
た第1表及び第2表に示す組成(配合比率は重量部)の
砥粒分散型スラリー状ラッピング・ポリッシング潤滑剤
を調製した。
被削物としてNi−Znフェライトのブロック(9X 
14mm)を径90mmの面板に200個ホットメルト
より接着したワークを径300 m mのチー2プ板に
載せ、1.8Kgの荷重をワークにかけて、上記各潤滑
剤を毎分的0.5mJILの割合で添加しながら、ラッ
プ板回転数19Orpmで5分間ラッピングを行い、そ
の時の研削量をデジタル式ダイヤルゲージにより測定し
た。結果を第1表及び第2表に示す。
零1:粒径分布O〜2#Lm 第  2  表 被削物としてNi−Znフェライトの他、Mn−Zn7
.ライト、BaTi0+ 、CaTfOa及びガラス等
の単体又は複合体を用いた試験を行ったが、いずれも同
様な試験成績を得た。
&見二皇1 各実施例から、本発明の砥粒分散型スラリー状ラッピン
グ・ポリッシング潤滑剤は、従来使用されていたタイプ
のラッピング・ポリッシング潤滑剤に比し、格段に優れ
たラッピング性能を有することが明らかである。
また多価アアルコール又はそのエーテル類は高沸点で、
危険性、毒性がないので、取扱い易く、作業環境が良好
になる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 多価アルコール、多価アルコールのアルキルエーテ
    ル、多価アルコールのアリルエーテル及びそれらの水溶
    液からなる群から選ばれる基材に砥粒を混合・分散させ
    てなる砥粒分散型スラリー状ラッピング・ポリッシング
    潤滑剤。 2 40℃における粘度が1.0〜100センチストー
    クスである特許請求の範囲第1項記載の砥粒分散型スラ
    リー状ラッピング・ポリッシング潤滑剤。
JP60101461A 1985-05-15 1985-05-15 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 Pending JPS61261386A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63150155A (ja) * 1986-12-12 1988-06-22 Nissan Chem Ind Ltd 第3−5族化合物半導体の研磨剤
KR20010105226A (ko) * 2000-05-16 2001-11-28 추후제출 폴리싱액, 및 금속과 금속 산화물의 패턴 형성 방법
US6383239B1 (en) 1999-03-15 2002-05-07 Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same
JP2009105440A (ja) * 2009-02-04 2009-05-14 Sumitomo Electric Ind Ltd GaN基板の研磨方法
US20090283718A1 (en) * 2006-06-05 2009-11-19 Central Glass Co., Ltd. Method for preparing fluorinated nanodiamond liquid dispersion
JP2011040427A (ja) * 2009-08-06 2011-02-24 Yamaguchi Seiken Kogyo Kk 研磨剤組成物

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