JPS61261386A - 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 - Google Patents
砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤Info
- Publication number
- JPS61261386A JPS61261386A JP60101461A JP10146185A JPS61261386A JP S61261386 A JPS61261386 A JP S61261386A JP 60101461 A JP60101461 A JP 60101461A JP 10146185 A JP10146185 A JP 10146185A JP S61261386 A JPS61261386 A JP S61261386A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lapping
- lubricant
- polishing
- ether
- abrasive grains
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フェライト、セラミック、ガラス、金属等の
被削材を修正輪(リング)型ラッピング・ポリッシング
機によりラッピング又はポリッシング加工、即ち表面の
研削又は研磨をする際に使用する潤滑剤組成物に関する
ものである。
被削材を修正輪(リング)型ラッピング・ポリッシング
機によりラッピング又はポリッシング加工、即ち表面の
研削又は研磨をする際に使用する潤滑剤組成物に関する
ものである。
【釆立且遣
このタイプのラッピング又はポリッシング機構は、上板
に錫又は銅、下板に鉄又はアルミニウムを使用した二層
構造のラップ板(ポリッシュ板)を回転させ、その板上
にワーク(フェライト、セラミック等の被削材を貼った
面板)を載せて、潤滑剤を注入しながら共すり又は強制
回転させてラッピング又はポリッシングを行うものが一
般的である。
に錫又は銅、下板に鉄又はアルミニウムを使用した二層
構造のラップ板(ポリッシュ板)を回転させ、その板上
にワーク(フェライト、セラミック等の被削材を貼った
面板)を載せて、潤滑剤を注入しながら共すり又は強制
回転させてラッピング又はポリッシングを行うものが一
般的である。
この際使用する潤滑剤として、主成分としてメタノール
、エタノール等の一価のアルコールに水及び非イオン又
は陰イオン等の界面活性剤を配合し、これに各種砥粒を
分散せしめた市販品があるが、これらはラッピング又は
ポリッシングの際に成分中のアルコール及び水が蒸発す
るため残存液の粘度が高−くなり、砥粒の粒子以上に液
膜の厚みが増し、ポリッシング効果が悪くなる。まして
ラッピング性能は著しく低下する。
、エタノール等の一価のアルコールに水及び非イオン又
は陰イオン等の界面活性剤を配合し、これに各種砥粒を
分散せしめた市販品があるが、これらはラッピング又は
ポリッシングの際に成分中のアルコール及び水が蒸発す
るため残存液の粘度が高−くなり、砥粒の粒子以上に液
膜の厚みが増し、ポリッシング効果が悪くなる。まして
ラッピング性能は著しく低下する。
また−価のアルコールは水と共沸するので乾燥を促進し
、潤滑剤の寿命を短くしているばかりでなく、危険でも
あり、アルコールによっては毒性も高い。
、潤滑剤の寿命を短くしているばかりでなく、危険でも
あり、アルコールによっては毒性も高い。
が解・ しようとする問題点
本発明者等は上記のような従来の潤滑剤の欠点を解決し
、高能率でラッピング又はポリッシングを行なえると共
に、危険性、毒性のない潤滑剤を提供することを目的と
して研究した結果、ラッピング・ポリッシング潤滑剤の
必要性状として、(1)粘度範囲としては40℃で1.
0〜100センチストークスの範囲のものが好ましい、
粘度が1.0未満のものは潤滑膜切れの原因となり、ま
たlOOを越える場合については、砥粒粒子具1の液厚
になり、いずれの場合もラッピング及びポリッシングの
効果が阻害される; (2)比熱範囲としては0 、45 c a 1 /
g ・”C以上が好ましい、0.45cal/g・℃未
満では研削熱の発生により冷却効果を阻害し、ラップ板
(ポリッシュ板)の変形が見られ、被削材の平行度に悪
影響を及ぼし好ましくない;。
、高能率でラッピング又はポリッシングを行なえると共
に、危険性、毒性のない潤滑剤を提供することを目的と
して研究した結果、ラッピング・ポリッシング潤滑剤の
必要性状として、(1)粘度範囲としては40℃で1.
0〜100センチストークスの範囲のものが好ましい、
粘度が1.0未満のものは潤滑膜切れの原因となり、ま
たlOOを越える場合については、砥粒粒子具1の液厚
になり、いずれの場合もラッピング及びポリッシングの
効果が阻害される; (2)比熱範囲としては0 、45 c a 1 /
g ・”C以上が好ましい、0.45cal/g・℃未
満では研削熱の発生により冷却効果を阻害し、ラップ板
(ポリッシュ板)の変形が見られ、被削材の平行度に悪
影響を及ぼし好ましくない;。
(3)沸点範囲としては90℃以上、好ましくは100
℃以上でなければならない、これはラップ板(ポリッシ
ュ板)が回転することにより遠心力が働き、ざらに被削
材とのクリアランスが非常に小さいことから潤滑膜が薄
膜となり、沸点が90°C未満のものを使用した場合、
直ちに乾燥状体になり、潤滑膜切れが生じることから、
ラッピング又はポリッシング性能が低下するからである
;ということを見出し、これらの性状を満足させるもの
として本発明を完成した。
℃以上でなければならない、これはラップ板(ポリッシ
ュ板)が回転することにより遠心力が働き、ざらに被削
材とのクリアランスが非常に小さいことから潤滑膜が薄
膜となり、沸点が90°C未満のものを使用した場合、
直ちに乾燥状体になり、潤滑膜切れが生じることから、
ラッピング又はポリッシング性能が低下するからである
;ということを見出し、これらの性状を満足させるもの
として本発明を完成した。
発明の構成
・間 点 解決するための手段
本発明のラッピング・ポリッシング潤滑剤は、多価アル
コール、多価アルコールのアルキルエーテル、多価アル
コールのアリルエーテル及びそれらの水溶液からなる群
から選ばれる基材に砥粒を混合・分散させてなる砥粒分
散型スラリー状のものである。
コール、多価アルコールのアルキルエーテル、多価アル
コールのアリルエーテル及びそれらの水溶液からなる群
から選ばれる基材に砥粒を混合・分散させてなる砥粒分
散型スラリー状のものである。
本発明において基材として使用される多価アルコールと
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、イソプロピレングリコール、ブ
チレングリコール、アミレンゲリコール、ヘキシレング
リコール、グリセリン、ポリエチレンゲルコール、ポリ
プロピレングリコールなどが挙げられ、多価アルコール
のアルキルエーテルとしては、ジエチレングリコールエ
チルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル
、ジエチレングリコールブチルエーテル。
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、イソプロピレングリコール、ブ
チレングリコール、アミレンゲリコール、ヘキシレング
リコール、グリセリン、ポリエチレンゲルコール、ポリ
プロピレングリコールなどが挙げられ、多価アルコール
のアルキルエーテルとしては、ジエチレングリコールエ
チルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル
、ジエチレングリコールブチルエーテル。
ジエチレングリコールペンチルエーテル、ジエチレング
リコールヘキシルエーテルなど、また多価アルコールの
アリルエーテルとしては、ポリオキシエチレンアルキル
アリルエーテルなどが挙げられる。
リコールヘキシルエーテルなど、また多価アルコールの
アリルエーテルとしては、ポリオキシエチレンアルキル
アリルエーテルなどが挙げられる。
これらは単独で使用してもよいし、2種類以上を混合し
て使用してもよいし、また適量の水を加えて水溶液とし
て使用してもよい。
て使用してもよいし、また適量の水を加えて水溶液とし
て使用してもよい。
適量の水は、前記の如く、粘度範囲として40℃で1.
0〜100センチストークス、比熱範囲として0 、4
5 c a 1 / g・℃以上という条件を多価アル
コール又はそのエーテル類だけでは満たし得ない場合に
、冷却力の増加及び粘性低下を計る希釈剤として混合さ
れる。
0〜100センチストークス、比熱範囲として0 、4
5 c a 1 / g・℃以上という条件を多価アル
コール又はそのエーテル類だけでは満たし得ない場合に
、冷却力の増加及び粘性低下を計る希釈剤として混合さ
れる。
多価アルコール又はそのエーテル類に対する水の配合量
は0〜95%、好ましくは0〜75%の範囲にあること
が望ましい。水分量が95%以上になると油膜切れが生
じ易く、ラッピング及びポリッシング効果が低下する。
は0〜95%、好ましくは0〜75%の範囲にあること
が望ましい。水分量が95%以上になると油膜切れが生
じ易く、ラッピング及びポリッシング効果が低下する。
本発明における基材は、ラッピング又はポリッシング時
、砥粒の分散性を容易にさせて均−且つ効果的なラッピ
ング又はポリッシング効果を与えるものであり、さらに
研削されて出た微粉等を分散して排出する機能をも有す
る。
、砥粒の分散性を容易にさせて均−且つ効果的なラッピ
ング又はポリッシング効果を与えるものであり、さらに
研削されて出た微粉等を分散して排出する機能をも有す
る。
また多価アアルコール又はそのエーテル類は高佛点で、
危険性、毒性がないので、作業環境が良好になる。
危険性、毒性がないので、作業環境が良好になる。
基材に混合・分散させる砥粒としては従来からこの目的
に一使用されている材料、例えばダイヤモンド、GC,
WA等の砥材の微粒を使用することができる。
に一使用されている材料、例えばダイヤモンド、GC,
WA等の砥材の微粒を使用することができる。
ラッピング又はポリッシング特性の評価方法は単位時間
当りの研削量にて表示される。ラッピングの点から見る
と砥粒粒径が大きいほど研削量が増大するが、その反面
砥粒粒径が小さいほど研削きずが小さく、良好なポリッ
シングが行なわれるので好ましい。
当りの研削量にて表示される。ラッピングの点から見る
と砥粒粒径が大きいほど研削量が増大するが、その反面
砥粒粒径が小さいほど研削きずが小さく、良好なポリッ
シングが行なわれるので好ましい。
本発明の潤滑剤は、小さい砥粒(O〜2JLm)を使用
した場合でも優れた研削効果を示すので、ラッピングに
もポリッシングにも使用できる。
した場合でも優れた研削効果を示すので、ラッピングに
もポリッシングにも使用できる。
本発明のラッピング拳ポリッシング潤滑剤には必要に応
じて防食剤や酸化防止剤を使用することが出来る。
じて防食剤や酸化防止剤を使用することが出来る。
添加し得る防食剤の例を挙げれば、アビエチン酸等のロ
ジン(コロホニウム)塩類、ナフテン酸鉛やステアリン
酸アルミニウム等のカルボン酸金属塩類、スルホン酸カ
ルシウム等のスルホン酸金属塩類、ソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エス
テル類、ポリオキシアルキレンエステル類等の非イオン
界面活性剤が用いられる。しかしこの防食剤は本発明の
目的を達成する上で必ずしも必要となるものではない。
ジン(コロホニウム)塩類、ナフテン酸鉛やステアリン
酸アルミニウム等のカルボン酸金属塩類、スルホン酸カ
ルシウム等のスルホン酸金属塩類、ソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エス
テル類、ポリオキシアルキレンエステル類等の非イオン
界面活性剤が用いられる。しかしこの防食剤は本発明の
目的を達成する上で必ずしも必要となるものではない。
防食剤の好ましい配合量は全組成物基準で約0.1−1
0.0重量%である。
0.0重量%である。
酸化防止剤としては、例えば、ビスフェノール類、ナフ
チルアミン類、ジンクジアルキルジチオフォスフェート
類、ジ−t−ブチルアルキルフェノール類、ケトン−ア
ミン縮合物、ベンゾトリアゾール類等が用いられる。酸
化防止剤の好ましい配合量は全組成物基準で約0.1−
10.0重量%である。
チルアミン類、ジンクジアルキルジチオフォスフェート
類、ジ−t−ブチルアルキルフェノール類、ケトン−ア
ミン縮合物、ベンゾトリアゾール類等が用いられる。酸
化防止剤の好ましい配合量は全組成物基準で約0.1−
10.0重量%である。
以下本発明の実施例及び比較例を挙げて本発明品の構成
及び効果を説明するが、必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
及び効果を説明するが、必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
二 −例1〜9 び比較例1〜2
砥粒として粒径分布0〜2pmのダイヤモンドを使用し
た第1表及び第2表に示す組成(配合比率は重量部)の
砥粒分散型スラリー状ラッピング・ポリッシング潤滑剤
を調製した。
た第1表及び第2表に示す組成(配合比率は重量部)の
砥粒分散型スラリー状ラッピング・ポリッシング潤滑剤
を調製した。
被削物としてNi−Znフェライトのブロック(9X
14mm)を径90mmの面板に200個ホットメルト
より接着したワークを径300 m mのチー2プ板に
載せ、1.8Kgの荷重をワークにかけて、上記各潤滑
剤を毎分的0.5mJILの割合で添加しながら、ラッ
プ板回転数19Orpmで5分間ラッピングを行い、そ
の時の研削量をデジタル式ダイヤルゲージにより測定し
た。結果を第1表及び第2表に示す。
14mm)を径90mmの面板に200個ホットメルト
より接着したワークを径300 m mのチー2プ板に
載せ、1.8Kgの荷重をワークにかけて、上記各潤滑
剤を毎分的0.5mJILの割合で添加しながら、ラッ
プ板回転数19Orpmで5分間ラッピングを行い、そ
の時の研削量をデジタル式ダイヤルゲージにより測定し
た。結果を第1表及び第2表に示す。
零1:粒径分布O〜2#Lm
第 2 表
被削物としてNi−Znフェライトの他、Mn−Zn7
.ライト、BaTi0+ 、CaTfOa及びガラス等
の単体又は複合体を用いた試験を行ったが、いずれも同
様な試験成績を得た。
.ライト、BaTi0+ 、CaTfOa及びガラス等
の単体又は複合体を用いた試験を行ったが、いずれも同
様な試験成績を得た。
&見二皇1
各実施例から、本発明の砥粒分散型スラリー状ラッピン
グ・ポリッシング潤滑剤は、従来使用されていたタイプ
のラッピング・ポリッシング潤滑剤に比し、格段に優れ
たラッピング性能を有することが明らかである。
グ・ポリッシング潤滑剤は、従来使用されていたタイプ
のラッピング・ポリッシング潤滑剤に比し、格段に優れ
たラッピング性能を有することが明らかである。
また多価アアルコール又はそのエーテル類は高沸点で、
危険性、毒性がないので、取扱い易く、作業環境が良好
になる。
危険性、毒性がないので、取扱い易く、作業環境が良好
になる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多価アルコール、多価アルコールのアルキルエーテ
ル、多価アルコールのアリルエーテル及びそれらの水溶
液からなる群から選ばれる基材に砥粒を混合・分散させ
てなる砥粒分散型スラリー状ラッピング・ポリッシング
潤滑剤。 2 40℃における粘度が1.0〜100センチストー
クスである特許請求の範囲第1項記載の砥粒分散型スラ
リー状ラッピング・ポリッシング潤滑剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60101461A JPS61261386A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60101461A JPS61261386A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61261386A true JPS61261386A (ja) | 1986-11-19 |
Family
ID=14301341
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60101461A Pending JPS61261386A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 砥粒分散型スラリ−状ラツピング・ポリツシング潤滑剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61261386A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63150155A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Nissan Chem Ind Ltd | 第3−5族化合物半導体の研磨剤 |
KR20010105226A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 추후제출 | 폴리싱액, 및 금속과 금속 산화물의 패턴 형성 방법 |
US6383239B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-07 | Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. | Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same |
JP2009105440A (ja) * | 2009-02-04 | 2009-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | GaN基板の研磨方法 |
US20090283718A1 (en) * | 2006-06-05 | 2009-11-19 | Central Glass Co., Ltd. | Method for preparing fluorinated nanodiamond liquid dispersion |
JP2011040427A (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-24 | Yamaguchi Seiken Kogyo Kk | 研磨剤組成物 |
-
1985
- 1985-05-15 JP JP60101461A patent/JPS61261386A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63150155A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Nissan Chem Ind Ltd | 第3−5族化合物半導体の研磨剤 |
US6383239B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-07 | Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. | Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same |
KR20010105226A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 추후제출 | 폴리싱액, 및 금속과 금속 산화물의 패턴 형성 방법 |
US20090283718A1 (en) * | 2006-06-05 | 2009-11-19 | Central Glass Co., Ltd. | Method for preparing fluorinated nanodiamond liquid dispersion |
US8790541B2 (en) * | 2006-06-05 | 2014-07-29 | Central Glass Co., Ltd. | Method for preparing fluorinated nanodiamond liquid dispersion |
JP2009105440A (ja) * | 2009-02-04 | 2009-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | GaN基板の研磨方法 |
JP2011040427A (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-24 | Yamaguchi Seiken Kogyo Kk | 研磨剤組成物 |
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