JPS61259746A - 真空容器の開閉装置 - Google Patents
真空容器の開閉装置Info
- Publication number
- JPS61259746A JPS61259746A JP10341185A JP10341185A JPS61259746A JP S61259746 A JPS61259746 A JP S61259746A JP 10341185 A JP10341185 A JP 10341185A JP 10341185 A JP10341185 A JP 10341185A JP S61259746 A JPS61259746 A JP S61259746A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum container
- pressure
- value
- opening
- pressure sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、真空容器の開閉時の圧力差を略零に抑えられ
るようにした真空容器の開閉装置に関する。
るようにした真空容器の開閉装置に関する。
近年、半導体デバイスの加工寸法は縮小化の一途を辿り
、その歩留りも数−のほこりに左右されるようになって
いる。特に、減圧環境下で行われるエツチング、スパッ
タリング等においては、真空容器を大気圧に戻して蓋を
開けた際の、真空容器内部と大気との圧力差に起因した
空気の巻込みによるほこりが問題となる。 ゛ 従来は真空容器の内部が大気圧付方（０，９５気圧）に
ある時に０Ｎ１０ＦＦする圧力スイッチを用い、真空容
器の内部にＮ２ガスを導入して上記圧力スイッチがＯＮ
になってからタイマーを作動させ、一定時間経過の後に
Ｎ２ガスの供給を停止するようにしていた。
、その歩留りも数−のほこりに左右されるようになって
いる。特に、減圧環境下で行われるエツチング、スパッ
タリング等においては、真空容器を大気圧に戻して蓋を
開けた際の、真空容器内部と大気との圧力差に起因した
空気の巻込みによるほこりが問題となる。 ゛ 従来は真空容器の内部が大気圧付方（０，９５気圧）に
ある時に０Ｎ１０ＦＦする圧力スイッチを用い、真空容
器の内部にＮ２ガスを導入して上記圧力スイッチがＯＮ
になってからタイマーを作動させ、一定時間経過の後に
Ｎ２ガスの供給を停止するようにしていた。
しかしながら、このような方法では、第３図に示すよう
に、圧力スイッチのヒステリシス等に起因するドリフト
−δ（またはδ′）によって、本来ＴＲでＯＮすべきも
のが、Ｔｏ （またはＴｏ’）でＯＮしてしまい、タ
イマーのタイムアツプ時間がＴｓ （またはＴ！′）
となって容器内部と大気圧との間に−ΔＰＩ （若し
くはΔＰ２′ ）の圧力差を生じてしまうことがあった
。また、このような圧力差は、Ｎ２供給ガス圧の変動や
タイマーのタイムアツプ時間のばらつきなどによっても
発生し、最悪の場合、５％もの誤差を生じさせることが
あり、真空容器の開放時に空気の巻込みによって大きな
音を発することもあった。
に、圧力スイッチのヒステリシス等に起因するドリフト
−δ（またはδ′）によって、本来ＴＲでＯＮすべきも
のが、Ｔｏ （またはＴｏ’）でＯＮしてしまい、タ
イマーのタイムアツプ時間がＴｓ （またはＴ！′）
となって容器内部と大気圧との間に−ΔＰＩ （若し
くはΔＰ２′ ）の圧力差を生じてしまうことがあった
。また、このような圧力差は、Ｎ２供給ガス圧の変動や
タイマーのタイムアツプ時間のばらつきなどによっても
発生し、最悪の場合、５％もの誤差を生じさせることが
あり、真空容器の開放時に空気の巻込みによって大きな
音を発することもあった。
本発明は、かかる問題に基づきなされたものであり、そ
の目的とするところは、真空容器の開放時の真空容器内
部と大気との圧力差を少なくでき、真空容器内部への空
気の巻込み現象を効果的に防止できる真空容器の開閉装
置を提供することにある。
の目的とするところは、真空容器の開放時の真空容器内
部と大気との圧力差を少なくでき、真空容器内部への空
気の巻込み現象を効果的に防止できる真空容器の開閉装
置を提供することにある。
本発明は、真空容器に接続されて該真空容器内部の圧力
を検出する圧力センサと、前記真空容器の開放状態下で
の前記圧力センサの値を記憶する記憶手段と、前記真空
容器にガスを導くガス導入経路に介設された流路開閉弁
と、上記ガス導入経路を介して前記真空容器の内部にガ
スを導入して前記真空容器の内部を真空状態から大気圧
状態に高める過程において前記圧力センサの検出値が前
記記憶手段に記憶された値と一致した時に前記流路開閉
弁を閉状態に制御する制御手段とを具備してなることを
特徴としている。
を検出する圧力センサと、前記真空容器の開放状態下で
の前記圧力センサの値を記憶する記憶手段と、前記真空
容器にガスを導くガス導入経路に介設された流路開閉弁
と、上記ガス導入経路を介して前記真空容器の内部にガ
スを導入して前記真空容器の内部を真空状態から大気圧
状態に高める過程において前記圧力センサの検出値が前
記記憶手段に記憶された値と一致した時に前記流路開閉
弁を閉状態に制御する制御手段とを具備してなることを
特徴としている。
本発明によれば、測定前に真空容器の開放時の圧力セン
サの値を記憶して、ガス供給後、該圧力センサの値と上
記記憶値とが一致した状態で真空容器内部へのガスの供
給を停止するようにしているので、圧力センサの値に誤
差が含まれていてもこの誤差は完全に相殺され、真空容
器内部と大気との圧力差を略零にすることができる。し
たがって、本発明によれば、従来のように真空容器の開
放時に生じていた空気の巻込み現象を防止でき、半導体
装置のほこりによる汚染を効果的に防止できるという効
果を奏する。
サの値を記憶して、ガス供給後、該圧力センサの値と上
記記憶値とが一致した状態で真空容器内部へのガスの供
給を停止するようにしているので、圧力センサの値に誤
差が含まれていてもこの誤差は完全に相殺され、真空容
器内部と大気との圧力差を略零にすることができる。し
たがって、本発明によれば、従来のように真空容器の開
放時に生じていた空気の巻込み現象を防止でき、半導体
装置のほこりによる汚染を効果的に防止できるという効
果を奏する。
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例に
１ついて説明する。
１ついて説明する。
第１図は本実施例に係る真空容器の開閉装置の概略構成
を示したものである。
を示したものである。
すなわち、真空容器１は、容器本体２と、この容器本体
２の開口部を閉塞するＮ３とで構成されており、その側
面部にガスの導入管４が、また底部にガスの排気管５が
それぞれ接続されている。
２の開口部を閉塞するＮ３とで構成されており、その側
面部にガスの導入管４が、また底部にガスの排気管５が
それぞれ接続されている。
導入管４には流路開閉弁となる電磁弁６が介設され、排
気管５には排気弁７が介設されている。
気管５には排気弁７が介設されている。
真空容器１には、該真空容器１の内部の圧力を検出する
圧力センサ８が接続されている。この圧力センサ８は、
例えば力平衡方式、静電容量方式、ストレンゲージ方式
等の絶対圧検出センサ、あるいは大気との差圧を測定す
る差圧方式のセンサからなるものである。この圧力セン
サ８の出力は、例えば１２ビツトのＡ／Ｄ変換器９に入
力されている。Ａ／Ｄ変換器９の出力は、制御手段とな
るマイクロコンピュータ１０に入力されている。このマ
イクロフンピユータ１ｏからの制御出力は、前述した電
磁弁６に与えられている。一方、真空容器１の側面には
、蓋３の開閉に応動するリミットスイッチ１１が取付け
られている。このリミットスイッチ１１の開閉信号も前
記マイクロコンビ ゛コータ１０に与えられてい
る。
圧力センサ８が接続されている。この圧力センサ８は、
例えば力平衡方式、静電容量方式、ストレンゲージ方式
等の絶対圧検出センサ、あるいは大気との差圧を測定す
る差圧方式のセンサからなるものである。この圧力セン
サ８の出力は、例えば１２ビツトのＡ／Ｄ変換器９に入
力されている。Ａ／Ｄ変換器９の出力は、制御手段とな
るマイクロコンピュータ１０に入力されている。このマ
イクロフンピユータ１ｏからの制御出力は、前述した電
磁弁６に与えられている。一方、真空容器１の側面には
、蓋３の開閉に応動するリミットスイッチ１１が取付け
られている。このリミットスイッチ１１の開閉信号も前
記マイクロコンビ ゛コータ１０に与えられてい
る。
次に、このように構成された真空容器の開閉装置の動作
説明を第２図のフローチャートに従って説明する。
説明を第２図のフローチャートに従って説明する。
装置を作動させると、マイクロコレピユータ１０は、リ
ミットスイッチ１１がらの開閉情報を ｉ入力す
る。リミットスイッチ１１の状態を判断しく２１）、リ
ミットスイッチ１が”ＯＦＦ’ （蓋３が開状態）であ
れば、その時の圧力センサ８の値ＰＭをＡ／Ｄ変換器９
を介して読込み、その値 □ＰＨを内部メモリに
記憶する（２２）。この記憶動作は、真空容器”１内で
の処理が開始される直前に行Ｉ″１″８設が望れい・
：５゜真空容器１内で、例えば
ドライエツチング、ス ；ぴ□バッタ１．．グな
５．Ｉ）処理を行なう場合１．よ、容器 パ：□
゛本体２の開口部は蓋３によってｒＩＩ′ａされる。排
気弁７を開放し、図示しないポンプを作動させると、真
空容器１の内部は次第に低圧になり、真空状態になる。
ミットスイッチ１１がらの開閉情報を ｉ入力す
る。リミットスイッチ１１の状態を判断しく２１）、リ
ミットスイッチ１が”ＯＦＦ’ （蓋３が開状態）であ
れば、その時の圧力センサ８の値ＰＭをＡ／Ｄ変換器９
を介して読込み、その値 □ＰＨを内部メモリに
記憶する（２２）。この記憶動作は、真空容器”１内で
の処理が開始される直前に行Ｉ″１″８設が望れい・
：５゜真空容器１内で、例えば
ドライエツチング、ス ；ぴ□バッタ１．．グな
５．Ｉ）処理を行なう場合１．よ、容器 パ：□
゛本体２の開口部は蓋３によってｒＩＩ′ａされる。排
気弁７を開放し、図示しないポンプを作動させると、真
空容器１の内部は次第に低圧になり、真空状態になる。
この状態で所定の処理が行われる（２３）。図示しない
手段、または入力装置からマイクロコンピュータに処理
の終了を知らせる信号Ｓｅが入力されると、マイクロフ
ンピユータ１０は、電磁弁６を開放状態に１１１１１Ｉ
ｌｉする（２４）。これによって、真空容器１の内部に
は例えばＮ２ガスが導入される。マイクロコンピュータ
１０は、所定のタイミングで圧力センサ８の測定値Ｐａ
をＡ／Ｄ変換器９を介して導入する。そしてマイクロコ
ンピュータ１０は、この測定値Ｐｓｓと内部メモリに記
憶した値ＰＭとを逐次比較して（２５）、両者が一致し
た時点で電磁弁６を閉状態にする（２Ｂ＞。
手段、または入力装置からマイクロコンピュータに処理
の終了を知らせる信号Ｓｅが入力されると、マイクロフ
ンピユータ１０は、電磁弁６を開放状態に１１１１１Ｉ
ｌｉする（２４）。これによって、真空容器１の内部に
は例えばＮ２ガスが導入される。マイクロコンピュータ
１０は、所定のタイミングで圧力センサ８の測定値Ｐａ
をＡ／Ｄ変換器９を介して導入する。そしてマイクロコ
ンピュータ１０は、この測定値Ｐｓｓと内部メモリに記
憶した値ＰＭとを逐次比較して（２５）、両者が一致し
た時点で電磁弁６を閉状態にする（２Ｂ＞。
このように、本実施例によれば、蓋３が開放されている
処理前の真空容器１内部の圧力（すなわち大気）ＰＭと
、処理後のＮ２ガス導入過程における圧力センサ８の測
定値Ｐ８とを逐次比較して、両者が一致した時点で電磁
弁６を遮断するようにしているので、圧力センサ６のド
リフト値を吸収して大気圧と真空容器１内部の圧力とを
略一致させるごとができる。本発明者による実験では、
１２ビツトのＡ／Ｄコンバータを用いて圧力差を０．０
２５％の範囲に抑えることができ、従来に比べて２００
倍の精度を達成することができた。
処理前の真空容器１内部の圧力（すなわち大気）ＰＭと
、処理後のＮ２ガス導入過程における圧力センサ８の測
定値Ｐ８とを逐次比較して、両者が一致した時点で電磁
弁６を遮断するようにしているので、圧力センサ６のド
リフト値を吸収して大気圧と真空容器１内部の圧力とを
略一致させるごとができる。本発明者による実験では、
１２ビツトのＡ／Ｄコンバータを用いて圧力差を０．０
２５％の範囲に抑えることができ、従来に比べて２００
倍の精度を達成することができた。
なお、本発明は、上述した実施例に限定されるものでは
ない、例えば、上記実施例では記憶手段と制御手段とに
マイクロコンピュータを用いたが、専用回路によって構
成するようにしても同様の効果を奏することができる。
ない、例えば、上記実施例では記憶手段と制御手段とに
マイクロコンピュータを用いたが、専用回路によって構
成するようにしても同様の効果を奏することができる。
第１図は本発明の一実施例に係る真空容器の開閉装置の
構成図、第２図は同装置の動作を説明するための流れ図
、第３図は従来の真空容器の開閉装置の問題点を説明す
るための容器内圧力と時間との関係を示す関係図である
。 １・・・真空容器、２・・・容器本体、３・・・蓋、４
・・・導入管、５・・・排出管、６・・・電磁弁、７・
・・排出弁、８・・・圧力センサ、１１・・・リミット
スイッチ。 出願人代理人 弁理士 給圧武彦 第２図 第３図
構成図、第２図は同装置の動作を説明するための流れ図
、第３図は従来の真空容器の開閉装置の問題点を説明す
るための容器内圧力と時間との関係を示す関係図である
。 １・・・真空容器、２・・・容器本体、３・・・蓋、４
・・・導入管、５・・・排出管、６・・・電磁弁、７・
・・排出弁、８・・・圧力センサ、１１・・・リミット
スイッチ。 出願人代理人 弁理士 給圧武彦 第２図 第３図
Claims (1)
- 真空容器に接続されて該真空容器内部の圧力を検出する
圧力センサと、前記真空容器の開放状態下での前記圧力
センサの値を記憶する記憶手段と、前記真空容器にガス
を導くガス導入経路に介設された流路開閉弁と、上記ガ
ス導入経路を介して前記真空容器の内部にガスを導入し
て前記真空容器の内部を真空状態から大気圧状態に高め
る過程において前記圧力センサの検出値が前記記憶手段
に記憶された値と一致した時に前記流路開閉弁を閉状態
に制御する制御手段とを具備してなることを特徴とする
真空容器の開閉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10341185A JPS61259746A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空容器の開閉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10341185A JPS61259746A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空容器の開閉装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61259746A true JPS61259746A (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=14353307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10341185A Pending JPS61259746A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空容器の開閉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61259746A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155669A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-15 | Shinku Kikai Kogyo Kk | 真空雰囲気制御装置 |
| JPS61234924A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 真空パ−ジ装置 |
-
1985
- 1985-05-15 JP JP10341185A patent/JPS61259746A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155669A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-15 | Shinku Kikai Kogyo Kk | 真空雰囲気制御装置 |
| JPS61234924A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 真空パ−ジ装置 |
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