JPS61257485A - 磁気ヘツド用スライダ−の加工方法 - Google Patents
磁気ヘツド用スライダ−の加工方法Info
- Publication number
- JPS61257485A JPS61257485A JP9698185A JP9698185A JPS61257485A JP S61257485 A JPS61257485 A JP S61257485A JP 9698185 A JP9698185 A JP 9698185A JP 9698185 A JP9698185 A JP 9698185A JP S61257485 A JPS61257485 A JP S61257485A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- rail surface
- etching
- acidic solution
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/26—Acidic compositions for etching refractory metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、磁気ヘッド用スライダーの加工方法に関し、
特にレール面に磁気媒体吸着防止用の凹部を形成する方
法に関する。
特にレール面に磁気媒体吸着防止用の凹部を形成する方
法に関する。
「従来技術およびその問題点」
周知の如く、磁気ヘッドは、磁気記録媒体に当接され、
移動する磁気記録媒体との間で記録、再生、消去を行な
う。この場合、磁気コアが直接磁気記録媒体に接触しな
いようにするため、磁気記録媒体が摺接する部分には磁
気コアの先端部を囲んでスライダーが配置されている。
移動する磁気記録媒体との間で記録、再生、消去を行な
う。この場合、磁気コアが直接磁気記録媒体に接触しな
いようにするため、磁気記録媒体が摺接する部分には磁
気コアの先端部を囲んでスライダーが配置されている。
スライダーとしては、ＴｉＧａ、α−Ｆｅ２０３ 、
Ｓｉ３ Ｎ ４ 、ＺｒＱ２）結晶化ガラスなどが使用
されており、磁気記録媒体との摺接面は鏡面研磨されて
いる。
Ｓｉ３ Ｎ ４ 、ＺｒＱ２）結晶化ガラスなどが使用
されており、磁気記録媒体との摺接面は鏡面研磨されて
いる。
ところで、高速で回転する磁気ディスクなどに当接され
る磁気ヘッドは、スライダーが磁気ディスクから浮上す
ることによって、円滑な操作がなされるようになってい
る。この場合、スライダーが磁気ディスクから浮上しや
すくするため、スライダーのレール面に微細な溝等を形
成したものが知られている。そして、この微細な溝等は
、研削加工により形成されるのが一般的であった。
る磁気ヘッドは、スライダーが磁気ディスクから浮上す
ることによって、円滑な操作がなされるようになってい
る。この場合、スライダーが磁気ディスクから浮上しや
すくするため、スライダーのレール面に微細な溝等を形
成したものが知られている。そして、この微細な溝等は
、研削加工により形成されるのが一般的であった。
しかしながら、研削加工により微細な溝等を形成する場
合は、高精度の加工が難しく、溝幅等がバラツキを生じ
て、スライダーの浮上量を一定にすることが難しかった
。スライダーの浮上量は、記録密度に影響を与えるため
、一定の範囲とされることか必要である。また、研削加
工は、生産性の点でも問題があった。
合は、高精度の加工が難しく、溝幅等がバラツキを生じ
て、スライダーの浮上量を一定にすることが難しかった
。スライダーの浮上量は、記録密度に影響を与えるため
、一定の範囲とされることか必要である。また、研削加
工は、生産性の点でも問題があった。
［発明の目的」
本発明の［１的は、スライダーのレール面に、微細な溝
や窪み等の凹部を精度よく、かつ、生産性よく形成でき
るようにした磁気ヘッド用スライダーの加工方法を提供
することにある。
や窪み等の凹部を精度よく、かつ、生産性よく形成でき
るようにした磁気ヘッド用スライダーの加工方法を提供
することにある。
「発明の構成」
本発明による磁気ヘッド用スライダーの加］一方法は、
スライダーのレール面に所定パターンのレジストを形成
し、酸性溶液でエツチングして凹部を形成することを特
徴とする。
スライダーのレール面に所定パターンのレジストを形成
し、酸性溶液でエツチングして凹部を形成することを特
徴とする。
このように、本発明では、スライダーの加工を研削加工
によらず、レジストを施した後、酸性溶液でエツチング
するようにしたので、精度よく、かつ、作業性よく行な
うことができる。特に、酸性溶液を用いることにより、
エツチング速度を高めることができる。
によらず、レジストを施した後、酸性溶液でエツチング
するようにしたので、精度よく、かつ、作業性よく行な
うことができる。特に、酸性溶液を用いることにより、
エツチング速度を高めることができる。
本発明において、スライダーの材質としては、Ｔ１Ｃａ
、ａ Ｆｅ２Ｑ３ 、 Ｓｉ３ Ｎ ４ 、 ＺｒＯ
２）結晶化ガラスなど各種のものが使用できる。エツチ
ングに用いる酸＋／ｌ溶靜は、下記スライダーの材質に
よって選択する必要があるが、例えば材質がＴ１Ｃａの
場合、酸性溶液は、フッ酸、硝耐、ヨウ化カリおよびヨ
ウ素の混合液を用いることが好ましい。この場合、配合
組成は、ｔ（Ｆ：ＨＮＯ３：Ｋｒ： ｂ ＝２＋７．８
＋０．に０．１程度とすることが好ましい。なお、−１
−記組成において、ヨウ化カリおよびヨウ素は、Ｔ１Ｃ
ａ表面を均一にエツチングするのに効果がある。また、
酸性溶液としては、 ）ＩＦ ：Ｈ２Ｏ−１： ｌの混
合液なども使用できる。
、ａ Ｆｅ２Ｑ３ 、 Ｓｉ３ Ｎ ４ 、 ＺｒＯ
２）結晶化ガラスなど各種のものが使用できる。エツチ
ングに用いる酸＋／ｌ溶靜は、下記スライダーの材質に
よって選択する必要があるが、例えば材質がＴ１Ｃａの
場合、酸性溶液は、フッ酸、硝耐、ヨウ化カリおよびヨ
ウ素の混合液を用いることが好ましい。この場合、配合
組成は、ｔ（Ｆ：ＨＮＯ３：Ｋｒ： ｂ ＝２＋７．８
＋０．に０．１程度とすることが好ましい。なお、−１
−記組成において、ヨウ化カリおよびヨウ素は、Ｔ１Ｃ
ａ表面を均一にエツチングするのに効果がある。また、
酸性溶液としては、 ）ＩＦ ：Ｈ２Ｏ−１： ｌの混
合液なども使用できる。
本発明において、スライダーのレール面に形成する凹部
は、微細な溝でもよく、あるいは窪みでもよい。凹部の
深さは、通常５００人程１隻が適当である。このように
、凹部を形成することにより、スライダーが磁気ディス
クなどに吸着されるのを防１にし、コンタスト、スター
ト、スト・ンプなどの操作を確実にすることができる。
は、微細な溝でもよく、あるいは窪みでもよい。凹部の
深さは、通常５００人程１隻が適当である。このように
、凹部を形成することにより、スライダーが磁気ディス
クなどに吸着されるのを防１にし、コンタスト、スター
ト、スト・ンプなどの操作を確実にすることができる。
「発明の実施例」
第２図には、加工を旅す前のスライダーが示されている
。このスライダー１１は、磁気ディスク等に当接される
一対のレール面１２．１２を有し、レール面１２の一部
に溝１３が形成され、この溝１３に磁気コア１４が組伺
けられて溶融ガラス１５により接着固定されている。磁
気コア１４にはコイル１Ｂが巻回されている。また、磁
気コア１４のレール面１２より露出した部分には所定の
磁気ギャップ１７が形成されている。
。このスライダー１１は、磁気ディスク等に当接される
一対のレール面１２．１２を有し、レール面１２の一部
に溝１３が形成され、この溝１３に磁気コア１４が組伺
けられて溶融ガラス１５により接着固定されている。磁
気コア１４にはコイル１Ｂが巻回されている。また、磁
気コア１４のレール面１２より露出した部分には所定の
磁気ギャップ１７が形成されている。
本発明では、」−記スライダー１１のレール面１２．１
２に凹部を形成する。すなわち、第１図に示すように、
レール面１２．１２の凹部１８．１８を残した部分に公
知のフォトレジストによりレジストを形成する。そして
、レール面１２．１２を酸性溶液に接触させてレジスト
以外の部分をエツチングし、それによって凹部１８．１
８を形成する。この実施例では、スライダー１１の材質
としてＴ１Ｃａを用い、酸性溶液としてＨＦ：ＨＮＯ３
：ＫＩ： ｌ２＝２ニア、８：０．１：０．１の混合液
を用いたところ、極めて作業性よくエツチングすること
ができた。なお、凹部１８の深さは約５００人とした。
２に凹部を形成する。すなわち、第１図に示すように、
レール面１２．１２の凹部１８．１８を残した部分に公
知のフォトレジストによりレジストを形成する。そして
、レール面１２．１２を酸性溶液に接触させてレジスト
以外の部分をエツチングし、それによって凹部１８．１
８を形成する。この実施例では、スライダー１１の材質
としてＴ１Ｃａを用い、酸性溶液としてＨＦ：ＨＮＯ３
：ＫＩ： ｌ２＝２ニア、８：０．１：０．１の混合液
を用いたところ、極めて作業性よくエツチングすること
ができた。なお、凹部１８の深さは約５００人とした。
なお、レジストは最後に除去した。
このスライダー１１を有する磁気ヘッドを公知の態様で
磁気ディスクに当接し、操作を行なったところ、スライ
ダー１１が磁気ディスクに吸着されることが防止され、
コンタスト、スタート、ストップの信頼性が向上した。
磁気ディスクに当接し、操作を行なったところ、スライ
ダー１１が磁気ディスクに吸着されることが防止され、
コンタスト、スタート、ストップの信頼性が向上した。
なお、上記の実施例では凹部１８．１８が窪みからなっ
ているが、凹部１８．１８をレール面１２．１２の長手
方向に泊った微細溝とした場合にも同様な効果が得られ
た。
ているが、凹部１８．１８をレール面１２．１２の長手
方向に泊った微細溝とした場合にも同様な効果が得られ
た。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、スライダーのレ
ール面に所定パターンのレジストを形成し、酸性溶液で
エツチングするようにしたので、精度よく、かつ、作業
性よく、レール面に所望の凹部を形成することができる
。また、酸性溶液を使用することにより、エツチングを
能率的に行なうことができる。
ール面に所定パターンのレジストを形成し、酸性溶液で
エツチングするようにしたので、精度よく、かつ、作業
性よく、レール面に所望の凹部を形成することができる
。また、酸性溶液を使用することにより、エツチングを
能率的に行なうことができる。
第１図は本発明の加工方法により得られたスライダーの
一例を示す斜視図、第２図は加工前の同スライダーを示
す斜視図である。 図中、１１はスライダー、１２はレール面、１８は凹部
である。 第２図
一例を示す斜視図、第２図は加工前の同スライダーを示
す斜視図である。 図中、１１はスライダー、１２はレール面、１８は凹部
である。 第２図
Claims (2)
- （１）スライダーのレール面に所定パターンのレジスト
を形成し、酸性溶液でエッチングして凹部を形成するこ
とを特徴とする磁気ヘッド用スライダーの加工方法。 - （２）特許請求の範囲第１項において、前記酸性溶液と
して、フッ酸、硝酸、ヨウ化カリおよびヨウ素の混合液
を用いる磁気ヘッド用スライダーの加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9698185A JPS61257485A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 磁気ヘツド用スライダ−の加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9698185A JPS61257485A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 磁気ヘツド用スライダ−の加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61257485A true JPS61257485A (ja) | 1986-11-14 |
Family
ID=14179390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9698185A Pending JPS61257485A (ja) | 1985-05-07 | 1985-05-07 | 磁気ヘツド用スライダ−の加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61257485A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4910621A (en) * | 1987-02-09 | 1990-03-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head device having sloped sliding surface which is formed thermally curved |
-
1985
- 1985-05-07 JP JP9698185A patent/JPS61257485A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4910621A (en) * | 1987-02-09 | 1990-03-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head device having sloped sliding surface which is formed thermally curved |
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