JPS58121124A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS58121124A JPS58121124A JP164982A JP164982A JPS58121124A JP S58121124 A JPS58121124 A JP S58121124A JP 164982 A JP164982 A JP 164982A JP 164982 A JP164982 A JP 164982A JP S58121124 A JPS58121124 A JP S58121124A
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- Japan
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- gap forming
- magnetic head
- forming surface
- ion beam
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は再生効率の良い磁気ヘッドの製造方法に関する
ものであるっ 通常、磁気ヘッドコアは１組のコア半休を質さ合わせて
構成するよりにしており、６コア十体は両者間に＃磁性
体を配して対向組直さｎるようＫなっている９例えは、
第１図の如く、コア十体山と（２）の各対向面を所定距
Ｗ＆（ギャップＭｔ３１に相当する距離）だけ空けて実
質的に平行配置するようにしている。これは、各コア半
休１ｌｌ（２１のバンクギャップ構成面間にも７０ント
ギギッグ構成面間の距離すなわちギＡ′ノブ長（３）に
相当する６＃気ダ瞭を持つことになるから、ｌ耳生時、
この磁気４剰（よる磁気抵抗で再生効率を低下させるこ
とが川らｔしているうこの再生効゛率の低Ｆを防市する
ため、第２図に示す如く、少くとも一方のコア半休（例
え面との間に、上記ギＡ′ツブ長（３）に相当する段差
（４）を設け、バンクギャップ側の各コア牛体倉天買的
に而−となるように衝き合わせるものが提案されている
。しかし、この段差を機械加工により成形することは、
段差を管理すること及び加工面の平面度を出すことなど
が難しく、困難であるとさｔＬているうヤこで、この段
差を得るための加工面を、ケミカルエツチング法で製出
する方法が試行されているう磁気ヘッドコア材がフェラ
イトである場合、エッチャントとして濃リン酸がよく利
用されるが、エツチング速度の不安定性によりエツチン
グ量の不同を招くという欠点があり、作動ギャップの精
度として要求される±５％以内を実現させるこ七が難し
いう 本発明はかかる欠点に鑑みなされたものにして、磁気へ
ラドコアのバックギャップ構成面に対して段差を持つべ
く形成される作動ギャップ構成面を、該バックギャップ
構成面と実質的に而−なる表面を有するコア素材の、該
作動ギャップ構成面を形成すべき部分に、イオンビーム
を付与することにより得る磁気ヘッドの製造方法を提供
しようとするものである。
ものであるっ 通常、磁気ヘッドコアは１組のコア半休を質さ合わせて
構成するよりにしており、６コア十体は両者間に＃磁性
体を配して対向組直さｎるようＫなっている９例えは、
第１図の如く、コア十体山と（２）の各対向面を所定距
Ｗ＆（ギャップＭｔ３１に相当する距離）だけ空けて実
質的に平行配置するようにしている。これは、各コア半
休１ｌｌ（２１のバンクギャップ構成面間にも７０ント
ギギッグ構成面間の距離すなわちギＡ′ノブ長（３）に
相当する６＃気ダ瞭を持つことになるから、ｌ耳生時、
この磁気４剰（よる磁気抵抗で再生効率を低下させるこ
とが川らｔしているうこの再生効゛率の低Ｆを防市する
ため、第２図に示す如く、少くとも一方のコア半休（例
え面との間に、上記ギＡ′ツブ長（３）に相当する段差
（４）を設け、バンクギャップ側の各コア牛体倉天買的
に而−となるように衝き合わせるものが提案されている
。しかし、この段差を機械加工により成形することは、
段差を管理すること及び加工面の平面度を出すことなど
が難しく、困難であるとさｔＬているうヤこで、この段
差を得るための加工面を、ケミカルエツチング法で製出
する方法が試行されているう磁気ヘッドコア材がフェラ
イトである場合、エッチャントとして濃リン酸がよく利
用されるが、エツチング速度の不安定性によりエツチン
グ量の不同を招くという欠点があり、作動ギャップの精
度として要求される±５％以内を実現させるこ七が難し
いう 本発明はかかる欠点に鑑みなされたものにして、磁気へ
ラドコアのバックギャップ構成面に対して段差を持つべ
く形成される作動ギャップ構成面を、該バックギャップ
構成面と実質的に而−なる表面を有するコア素材の、該
作動ギャップ構成面を形成すべき部分に、イオンビーム
を付与することにより得る磁気ヘッドの製造方法を提供
しようとするものである。
イオンビームを使うエツチング（イオンビームミリング
）はエツチングガスの物理的な作用によってエツチング
されることや、イオンビーム室と加工室が分離されてい
るため加工室の真空度を高くできるなどの特徴を有し、
そのためエツチング速度の再現性が極めて良い（±５％
以内）とされているっ従い、このイオンビームミリング
はこれを磁気ヘッドコアのパンクギャップ構成面と作動
ギャップ構成面との間の段差を形成するために利用すれ
ば、該段差の管理を比較的簡単にすることができて有利
であるから、該作動ギャップ構成面の形成に適している
といえるうしかし、このビーム加工前のコア素材の表面
が仮に鏡面に研摩されていてもその表面状態は均質でな
い（例えば−見フラットな鏡面に見えても実際には目す
まりが生じてそのように見えるなど）場合があり、この
場合上記イオンビーム加工を施してもエツチング速度が
部分的に異なるため、エツチング終了後の表面状態が最
初の状態より却って悪くなることがあろうこれを防止す
るには、このビーム加工を行なう前に被加工面について
鏡面研摩時に生じうる加工変質層を除去したり、平面度
及び面粗度を充分なものにしておく必要がある。このた
め、本発明では鏡面に、研摩された被加工面（少なくと
もバックギャップ構成面と′実質的に面一なる表面を有
するコア素材の作動ギャップ構成面に相当する部分、す
なわちイオンビーム加工を旌こす部分、を含む）に、工
作物に機械的エネルギーを与えそこに誘起する化学的反
応を積極的に研摩に利用するメカノクミカル研摩を施こ
し研庫面の均質性を向上させるようにし、その後、Ｅ記
イオンビームミリングを行なうようにして上記段差を、
作動ギャップ構成面の面積度を保障して歩留まり良く形
成することができる。
）はエツチングガスの物理的な作用によってエツチング
されることや、イオンビーム室と加工室が分離されてい
るため加工室の真空度を高くできるなどの特徴を有し、
そのためエツチング速度の再現性が極めて良い（±５％
以内）とされているっ従い、このイオンビームミリング
はこれを磁気ヘッドコアのパンクギャップ構成面と作動
ギャップ構成面との間の段差を形成するために利用すれ
ば、該段差の管理を比較的簡単にすることができて有利
であるから、該作動ギャップ構成面の形成に適している
といえるうしかし、このビーム加工前のコア素材の表面
が仮に鏡面に研摩されていてもその表面状態は均質でな
い（例えば−見フラットな鏡面に見えても実際には目す
まりが生じてそのように見えるなど）場合があり、この
場合上記イオンビーム加工を施してもエツチング速度が
部分的に異なるため、エツチング終了後の表面状態が最
初の状態より却って悪くなることがあろうこれを防止す
るには、このビーム加工を行なう前に被加工面について
鏡面研摩時に生じうる加工変質層を除去したり、平面度
及び面粗度を充分なものにしておく必要がある。このた
め、本発明では鏡面に、研摩された被加工面（少なくと
もバックギャップ構成面と′実質的に面一なる表面を有
するコア素材の作動ギャップ構成面に相当する部分、す
なわちイオンビーム加工を旌こす部分、を含む）に、工
作物に機械的エネルギーを与えそこに誘起する化学的反
応を積極的に研摩に利用するメカノクミカル研摩を施こ
し研庫面の均質性を向上させるようにし、その後、Ｅ記
イオンビームミリングを行なうようにして上記段差を、
作動ギャップ構成面の面積度を保障して歩留まり良く形
成することができる。
次に、本発明方法の実施例を簡単に説明するっ第６図は
本発明方法の加工工程の概要を示すものであり、（５）
は磁性材例えば単結晶フェライト材よりなるクエハで該
クエン・の衝合向となる表面は従来通りの方法で鏡面に
研摩されている。この加工面は微視的には上述の如く加
工変質層（６）が形成されている（第３図（イ））っこ
のクエハ（５）について、該加工変質層（６）を除去す
るためメカノケミカル研摩を施こし、加工変質層の浅い
良好な仕上面（５ａ）を得る（第６図（ロ））っ次いで
、通常の方法と同様、巻線溝１７）を成形しまた該巻ｍ
溝と直交する方向に延在するトラック巾規定溝（図示査
略）を成形する（第３図（ハ））っ次いで、イオンビー
ムミリングを実行する…１を除き通常のホトリソグラフ
ィーによるパターニングを行ない保Ｊｕｔｓ）を形成す
る（第３図に））っ次いで、この試料を１０″マイクロ
エツチシステムに入れ下記条件で加工をすれば、被加工
面（５ｂ）を０．６７μｍエツチングすることができ、
バックギャップ＃！ｌｆｆ１面に対して段差（４）を有
する作動ギャップ構成面（５ｃ）を成形することができ
るつエネルギー（ｖ／ｍＡ ） ５００／４４ Ｑ電流
密度（μｌ’、／ｄ ） ６００、角度（０）３０、時
間け２０、アルゴン圧力（Ｔｏｒｒ） ２．０ Ｘ １
０ ’、アーク（Ｖ／Ａ ） ６０／６０．カソード（
Ｖ／Ａ）＋１／３９、コイル（Ｖ／Ａ ） １９１０．
４５、サブレ７ｆ （Ｖ／ｍＡ）３００／４０、ニュー
トラ（Ｖ／Ａ）５０／１０．５゜咲、コノイオンビーム
ミリングは第６図（ハ）の溝加工前に実行するようにし
ても良い。第６図（ホ）は保ｆｉ １１！ ｔ８）を除
去した状態を示している。次いで、このイオンビームミ
リングを行なったクエハ（５Ａ）と、第６図（ロ）のり
エ・・（５Ｂ＋とを相４の衝合面が対向するように衝き
合わせ、両者の各バックギャップ構成面を直接当接させ
かつ各作１ギャップ構成而が上記段差（４）Ｖこ相当す
るスペースをあけて対向させるうその後、該スペース内
にガラス（９）を充填させ、また図示省略した結合材で
各ウェハを一体化する（第３図（へ））っこの一体化ｅ
まトランク中規定？角内に１だバックギャップ構成面の
下端部に結合材を充てんするこ七ンてより実現すること
ができる。次いで、一体化したグロックについて従来通
りテープ当接面の成形、スラインング、コアの厚み加工
を弛こし、・＼ノドチップを得るっそして、このヘッド
千ノブを−・ラドベースに収付け、コイルを巻回して磁
気ヘッドを製出する。上記スペース内へのガラス浸・ｌ 透に代え、適当なスペーサ材を該段差を解消するように
付着させても良い。また、各ウェハを衝き合わせたとき
所定のギャップ長を形成するように、巻線溝を有するウ
ェハとは別のウェハに咬いは衝＆ｔべき６ウエハにイオ
ンビーム加工を施こすよりにしても良いっ 本発明方法になる磁気ヘッドは衝合せるコア主体のバッ
クギャップ構成面が直接当接するからこの衝合部におけ
る磁気抵抗を著しく低下させることができ磁気ヘッドの
再生効率の低減を防ぐことがでさるっ−また、このバン
クギャップ構成面に対して段差を有する作動ギャップ構
成面はイオンビームミリング法でエツチングされたもの
でありその表面精度を向上させることができ、製造歩留
まりの向上ひいては磁気ヘッドの低価格化に寄与できる
。
本発明方法の加工工程の概要を示すものであり、（５）
は磁性材例えば単結晶フェライト材よりなるクエハで該
クエン・の衝合向となる表面は従来通りの方法で鏡面に
研摩されている。この加工面は微視的には上述の如く加
工変質層（６）が形成されている（第３図（イ））っこ
のクエハ（５）について、該加工変質層（６）を除去す
るためメカノケミカル研摩を施こし、加工変質層の浅い
良好な仕上面（５ａ）を得る（第６図（ロ））っ次いで
、通常の方法と同様、巻線溝１７）を成形しまた該巻ｍ
溝と直交する方向に延在するトラック巾規定溝（図示査
略）を成形する（第３図（ハ））っ次いで、イオンビー
ムミリングを実行する…１を除き通常のホトリソグラフ
ィーによるパターニングを行ない保Ｊｕｔｓ）を形成す
る（第３図に））っ次いで、この試料を１０″マイクロ
エツチシステムに入れ下記条件で加工をすれば、被加工
面（５ｂ）を０．６７μｍエツチングすることができ、
バックギャップ＃！ｌｆｆ１面に対して段差（４）を有
する作動ギャップ構成面（５ｃ）を成形することができ
るつエネルギー（ｖ／ｍＡ ） ５００／４４ Ｑ電流
密度（μｌ’、／ｄ ） ６００、角度（０）３０、時
間け２０、アルゴン圧力（Ｔｏｒｒ） ２．０ Ｘ １
０ ’、アーク（Ｖ／Ａ ） ６０／６０．カソード（
Ｖ／Ａ）＋１／３９、コイル（Ｖ／Ａ ） １９１０．
４５、サブレ７ｆ （Ｖ／ｍＡ）３００／４０、ニュー
トラ（Ｖ／Ａ）５０／１０．５゜咲、コノイオンビーム
ミリングは第６図（ハ）の溝加工前に実行するようにし
ても良い。第６図（ホ）は保ｆｉ １１！ ｔ８）を除
去した状態を示している。次いで、このイオンビームミ
リングを行なったクエハ（５Ａ）と、第６図（ロ）のり
エ・・（５Ｂ＋とを相４の衝合面が対向するように衝き
合わせ、両者の各バックギャップ構成面を直接当接させ
かつ各作１ギャップ構成而が上記段差（４）Ｖこ相当す
るスペースをあけて対向させるうその後、該スペース内
にガラス（９）を充填させ、また図示省略した結合材で
各ウェハを一体化する（第３図（へ））っこの一体化ｅ
まトランク中規定？角内に１だバックギャップ構成面の
下端部に結合材を充てんするこ七ンてより実現すること
ができる。次いで、一体化したグロックについて従来通
りテープ当接面の成形、スラインング、コアの厚み加工
を弛こし、・＼ノドチップを得るっそして、このヘッド
千ノブを−・ラドベースに収付け、コイルを巻回して磁
気ヘッドを製出する。上記スペース内へのガラス浸・ｌ 透に代え、適当なスペーサ材を該段差を解消するように
付着させても良い。また、各ウェハを衝き合わせたとき
所定のギャップ長を形成するように、巻線溝を有するウ
ェハとは別のウェハに咬いは衝＆ｔべき６ウエハにイオ
ンビーム加工を施こすよりにしても良いっ 本発明方法になる磁気ヘッドは衝合せるコア主体のバッ
クギャップ構成面が直接当接するからこの衝合部におけ
る磁気抵抗を著しく低下させることができ磁気ヘッドの
再生効率の低減を防ぐことがでさるっ−また、このバン
クギャップ構成面に対して段差を有する作動ギャップ構
成面はイオンビームミリング法でエツチングされたもの
でありその表面精度を向上させることができ、製造歩留
まりの向上ひいては磁気ヘッドの低価格化に寄与できる
。
第１図は従来の４ｍ気ヘッドの県架的な構成図、第２図
は再生効率の向上に資する従来の磁気ヘッドの構成図、
第３図（イ）〜（へ）は本発明方法を含む磁気ヘッドの
製造工程図を示すものであるっ主な図番の説明 （５Ａ）（５Ｂ）・・・１組のコア半休となるウェハ、
（４）・・・段差。 第２図
は再生効率の向上に資する従来の磁気ヘッドの構成図、
第３図（イ）〜（へ）は本発明方法を含む磁気ヘッドの
製造工程図を示すものであるっ主な図番の説明 （５Ａ）（５Ｂ）・・・１組のコア半休となるウェハ、
（４）・・・段差。 第２図
Claims (1)
- （１） １組のコア半休を衝き合わせてなる磁気ヘッド
コアの少なくとも一方のコア半休の作動ギャップ構成面
を、該一方のコア半休のバンクギャップ構成面に対して
段差を持つように構成してなる磁気ヘッドの製造方法に
おいて、前記段差を、前記バックギャップ構成面と実質
的に面一なる表面分有するコア素材の、該作動ギャップ
構成面を形成すべき部分に、イオンビームを付与するこ
トニより形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
決っ １２＋ 特許請求の範囲第（１）項において、前記相
当部分はメカノケミカル研摩により前処理を受けている
ものでめることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP164982A JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP164982A JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121124A true JPS58121124A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0416842B2 JPH0416842B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=11507359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP164982A Granted JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121124A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60211608A (ja) * | 1984-04-04 | 1985-10-24 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| WO2001026097A1 (en) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Seagate Technology, Llc | Longitudinal magnetic recording heads with variable-length gaps |
| US6707642B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-03-16 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording head with reduced side fringing |
| US6771462B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-08-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular recording head including concave tip |
| US6865056B1 (en) | 1999-10-05 | 2005-03-08 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording heads with variable-length gaps |
| US7475470B2 (en) * | 2001-03-19 | 2009-01-13 | Hitachi Global Storage Technologies, Ltd. | Method for manufacturing a magnetic head for perpendicular recording |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51148412A (en) * | 1975-06-16 | 1976-12-20 | Mitsumi Electric Co Ltd | Head-core and its production method |
| JPS52153715A (en) * | 1976-06-16 | 1977-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head manufacture |
| JPS5311012A (en) * | 1976-07-16 | 1978-02-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
-
1982
- 1982-01-07 JP JP164982A patent/JPS58121124A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51148412A (en) * | 1975-06-16 | 1976-12-20 | Mitsumi Electric Co Ltd | Head-core and its production method |
| JPS52153715A (en) * | 1976-06-16 | 1977-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head manufacture |
| JPS5311012A (en) * | 1976-07-16 | 1978-02-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
| JPS60211608A (ja) * | 1984-04-04 | 1985-10-24 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| US6771462B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-08-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular recording head including concave tip |
| WO2001026097A1 (en) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Seagate Technology, Llc | Longitudinal magnetic recording heads with variable-length gaps |
| US6865056B1 (en) | 1999-10-05 | 2005-03-08 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording heads with variable-length gaps |
| US6707642B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-03-16 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording head with reduced side fringing |
| US7475470B2 (en) * | 2001-03-19 | 2009-01-13 | Hitachi Global Storage Technologies, Ltd. | Method for manufacturing a magnetic head for perpendicular recording |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0416842B2 (ja) | 1992-03-25 |
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