JPS61254361A - 電子写真プリンタ用記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
電子写真プリンタ用記録ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61254361A JPS61254361A JP60096091A JP9609185A JPS61254361A JP S61254361 A JPS61254361 A JP S61254361A JP 60096091 A JP60096091 A JP 60096091A JP 9609185 A JP9609185 A JP 9609185A JP S61254361 A JPS61254361 A JP S61254361A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- resistant organic
- organic material
- substrate
- high heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/345—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors
Landscapes
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真型プリンタ等に用いるヘッドに関し
、特に赤外線、近赤外線、可視光などを放射するヘッド
の製造方法に関する。
、特に赤外線、近赤外線、可視光などを放射するヘッド
の製造方法に関する。
電子写真型プリンタとしては、熱線放射ヘッドから発す
る熱線放射により、感光ドラムを感光して印字出力を得
るものがある。
る熱線放射により、感光ドラムを感光して印字出力を得
るものがある。
従来の熱線放射ヘッドを第２図及び第３図に基づいて説
明する。先ず、第２図は要部平面図、第３図は要部断面
図であシ、この従来例は、基板１上にＳ ｉ０２膜２を
平板状に被着して、その上に発熱体層による発熱部３を
形成し、この発熱部３上に給電体４を設けて５ｉ０２膜
２を被せである。
明する。先ず、第２図は要部平面図、第３図は要部断面
図であシ、この従来例は、基板１上にＳ ｉ０２膜２を
平板状に被着して、その上に発熱体層による発熱部３を
形成し、この発熱部３上に給電体４を設けて５ｉ０２膜
２を被せである。
このように熱線放射ヘッド全構成することによって、複
数の発熱部３に通電してジュール熱による熱線放射を行
い、この熱線放射を感光ドラムに放射して、感光体ドラ
ムの感光体を感光して印字を行う。
数の発熱部３に通電してジュール熱による熱線放射を行
い、この熱線放射を感光ドラムに放射して、感光体ドラ
ムの感光体を感光して印字を行う。
しかしながら、このような従来例は、発熱部を平板状に
形成するため、発熱部への供給電力を太きくしなければ
、感光ドラムの感光体が感光しない。そのため、消費電
力が著しく大きくなる問題がある。
形成するため、発熱部への供給電力を太きくしなければ
、感光ドラムの感光体が感光しない。そのため、消費電
力が著しく大きくなる問題がある。
本発明は、前記問題を解決するためになされたものでア
シ、その目的は、低消費電力化を可能にすると共に、高
速、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供するこ
とにある。
シ、その目的は、低消費電力化を可能にすると共に、高
速、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供するこ
とにある。
前記した目的を達成するため、本発明は、溶解除去でき
る高耐熱性有機物質によシ基板から浮上らせて形成でき
る絶縁層と、その上から形成する発熱体、給電体及び保
護膜とを具備することを特徴とする。
る高耐熱性有機物質によシ基板から浮上らせて形成でき
る絶縁層と、その上から形成する発熱体、給電体及び保
護膜とを具備することを特徴とする。
前記特徴を有する本発明は、基板上に発熱体のパターン
に応じて高耐熱性有機物質を形成し、その上から絶縁層
、発熱体、給電体及び保護膜全形成して、その後前記保
護膜を部分的に除去し、その除去部分から高耐熱性有機
物質全基板から除去する。
に応じて高耐熱性有機物質を形成し、その上から絶縁層
、発熱体、給電体及び保護膜全形成して、その後前記保
護膜を部分的に除去し、その除去部分から高耐熱性有機
物質全基板から除去する。
以下、本発明の一実施例を第１図ａ、ｂ、ｂ及びｃ ％
ｉと第４図に基づいて説明する。
ｉと第４図に基づいて説明する。
第１図は熱線放射ヘッドの製造工程を示す本発明の一実
施例の説明図であシ、ａは側面図、ｂ〜ｄは断面図、ｂ
′はｂの平面図である。第４図は第１図ｇの平面図であ
る。
施例の説明図であシ、ａは側面図、ｂ〜ｄは断面図、ｂ
′はｂの平面図である。第４図は第１図ｇの平面図であ
る。
第１図において、５はガラス等からなる基板、６．６ａ
、６ｂは感光性を有する高耐熱性ポリイミド等の高耐熱
性有機物質、７は５ｉ０２等の絶縁層、８はＴａ２Ｎ、
ｇはＴａ２Ｎ等の発熱体、１０はＮｉＣｒ ／Ａｕ
等からなる給電体、１１は５ｉ０２膜等の保護膜、１２
はＮｉ膜、１３は高耐熱性有機物質６ｂ上でかつ発熱体
９にかからない除去部分、１４は発熱体９上でないと共
に保護膜１１を必要としない除去部分、１５は空間であ
る。
、６ｂは感光性を有する高耐熱性ポリイミド等の高耐熱
性有機物質、７は５ｉ０２等の絶縁層、８はＴａ２Ｎ、
ｇはＴａ２Ｎ等の発熱体、１０はＮｉＣｒ ／Ａｕ
等からなる給電体、１１は５ｉ０２膜等の保護膜、１２
はＮｉ膜、１３は高耐熱性有機物質６ｂ上でかつ発熱体
９にかからない除去部分、１４は発熱体９上でないと共
に保護膜１１を必要としない除去部分、１５は空間であ
る。
次に、熱線放射ヘッドの製造方法を説明する。
先ず、第１図ａに示す如く基板５上の全面にポリイミド
の高耐熱性有機物質６を厚さ６μになるようにスピン塗
布する。プリベーク後、通常のフォトリンエツチング工
程で第１図す、ｂ’の如く長さ２００鰭、幅０．４ ｍ
の高耐熱性有機物質６ａとする。この後、２００℃ Ｉ
Ｈ，３７０℃ＩＨのベークを窒素雰囲気内で行う。この
時、２００℃のベークによシ高耐熱性有機物質６ａは、
第１図Ｃに示す如くエッヂの角が取れた高耐熱性有機物
質６ｂすなわち断面形状が半円形となったパターンとな
シ、後工程での上部薄膜形成が容易に行えるようになる
。
の高耐熱性有機物質６を厚さ６μになるようにスピン塗
布する。プリベーク後、通常のフォトリンエツチング工
程で第１図す、ｂ’の如く長さ２００鰭、幅０．４ ｍ
の高耐熱性有機物質６ａとする。この後、２００℃ Ｉ
Ｈ，３７０℃ＩＨのベークを窒素雰囲気内で行う。この
時、２００℃のベークによシ高耐熱性有機物質６ａは、
第１図Ｃに示す如くエッヂの角が取れた高耐熱性有機物
質６ｂすなわち断面形状が半円形となったパターンとな
シ、後工程での上部薄膜形成が容易に行えるようになる
。
尚、前記工程は、感光性のないポリイミドにおいても、
有機レジ入トヲマスクとしてエツチング工程で形成する
ことが可能でアシ、また印刷法でも同様なパターンを基
板５上に形成することができる。
有機レジ入トヲマスクとしてエツチング工程で形成する
ことが可能でアシ、また印刷法でも同様なパターンを基
板５上に形成することができる。
そして、第１図ｄに示す如く前記ポリイミドパターンの
形成された基板５上に、全面スパッタ法によｊ） ５ｉ
０２膜の絶縁層Ｔを２μ形成する。この時、基板５は水
冷にしてスパッタを行うが、ポリイミドの変質、絶縁層
７との密着性に関しては問題がない。
形成された基板５上に、全面スパッタ法によｊ） ５ｉ
０２膜の絶縁層Ｔを２μ形成する。この時、基板５は水
冷にしてスパッタを行うが、ポリイミドの変質、絶縁層
７との密着性に関しては問題がない。
前記絶縁層１全面に発熱抵抗体材料としてＴａ２Ｎ８ｉ
第１図ｅに示す如くスパッタし、第１図ｆに示す如く通
常のフォトリンエツチング工程で発熱体９を作る。さら
に、給電体８としてＮｉＣｒ／Ａｕを連続蒸着し、Ａｕ
メッキによｐＡｕの厚さを２ａ程度にして、フォトリン
エツチングによシ第１図ｇ及び第４図に示すパターンの
給電体８を形成する。
第１図ｅに示す如くスパッタし、第１図ｆに示す如く通
常のフォトリンエツチング工程で発熱体９を作る。さら
に、給電体８としてＮｉＣｒ／Ａｕを連続蒸着し、Ａｕ
メッキによｐＡｕの厚さを２ａ程度にして、フォトリン
エツチングによシ第１図ｇ及び第４図に示すパターンの
給電体８を形成する。
次に、保護膜１１として５ｔ０２を２μ第１図りに示す
如く全面にスパッタし、さらにＮｉ膜１２を全面に５０
００ Ｘ蒸着して、フォトリソエツチング工程で第４図
に示す除去部分１３及び第１図ｉに示す除去部分１４の
Ｎｉ膜１２をエツチング除去する。前記Ｎｉ膜１２をマ
スクとして、ＣＦＩ４＋０２（５％）ガスで保護膜１１
及び絶縁層７をドライエツチングする。このとき、Ａｕ
及びＮｉはほとんどエツチングされないため、エツチン
グ時間は充分に取ることができる。ここで、露出した高
耐熱性有機物質６ｂｔ−全て溶解する。この溶解には、
ヒドラジン（１０５℃）を用いる。このヒドラジンに溶
ける物質は、ポリイミドの高耐熱性有機物質６ｂだけな
ので、ポリイミドが完全に溶は去るまでヒドラジン中に
浸しておく。尚、高耐熱性有機物質をプラズマ酸化して
揮発除去してもよい。
如く全面にスパッタし、さらにＮｉ膜１２を全面に５０
００ Ｘ蒸着して、フォトリソエツチング工程で第４図
に示す除去部分１３及び第１図ｉに示す除去部分１４の
Ｎｉ膜１２をエツチング除去する。前記Ｎｉ膜１２をマ
スクとして、ＣＦＩ４＋０２（５％）ガスで保護膜１１
及び絶縁層７をドライエツチングする。このとき、Ａｕ
及びＮｉはほとんどエツチングされないため、エツチン
グ時間は充分に取ることができる。ここで、露出した高
耐熱性有機物質６ｂｔ−全て溶解する。この溶解には、
ヒドラジン（１０５℃）を用いる。このヒドラジンに溶
ける物質は、ポリイミドの高耐熱性有機物質６ｂだけな
ので、ポリイミドが完全に溶は去るまでヒドラジン中に
浸しておく。尚、高耐熱性有機物質をプラズマ酸化して
揮発除去してもよい。
以上の工程で発熱体９、下層の絶縁層７及び保護膜１１
は、基板５から浮上シ、第１図ｉに示す空間１５が形成
する。そして、５ｉ０２ エツチング用に使ったマスク
用のＮｉ膜１２を硫酸、硝酸系エッチャントで溶解し、
駆動用ＩＣチップ等を基板５上に搭載する。
は、基板５から浮上シ、第１図ｉに示す空間１５が形成
する。そして、５ｉ０２ エツチング用に使ったマスク
用のＮｉ膜１２を硫酸、硝酸系エッチャントで溶解し、
駆動用ＩＣチップ等を基板５上に搭載する。
前記した本発明に係る熱線放射ヘッドの製造方法によれ
ば、基板上に発熱体パターンに応じて高耐熱性有機物質
を形成し、その上から絶縁層、発熱体、給電体及び保護
膜全形成して、その後、前記保護膜を部分的に除去し、
その除去部分から高耐熱性有機物質全基板から除去する
ことによって、以下に示す効果を発揮する。
ば、基板上に発熱体パターンに応じて高耐熱性有機物質
を形成し、その上から絶縁層、発熱体、給電体及び保護
膜全形成して、その後、前記保護膜を部分的に除去し、
その除去部分から高耐熱性有機物質全基板から除去する
ことによって、以下に示す効果を発揮する。
すなわち、発熱体を基板から浮き上らせて形成できるた
め、低消費電力で感光ドラムの感光体を感光でき、高速
、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供できる効
果がある。また予め高耐熱性有機物質によシ基板上に空
間を形成できるようにしたため、高耐熱性有機物質の溶
解に際して選択エツチング性に優れ、さらに表面は平滑
で発熱体のステップカバレッジ不良が発生せず、しかも
高耐熱性有機物質の帯状パターンは、塗布とフォトリソ
の簡単な工程で形成できるので工程数が少ないと言う効
果がある。
め、低消費電力で感光ドラムの感光体を感光でき、高速
、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供できる効
果がある。また予め高耐熱性有機物質によシ基板上に空
間を形成できるようにしたため、高耐熱性有機物質の溶
解に際して選択エツチング性に優れ、さらに表面は平滑
で発熱体のステップカバレッジ不良が発生せず、しかも
高耐熱性有機物質の帯状パターンは、塗布とフォトリソ
の簡単な工程で形成できるので工程数が少ないと言う効
果がある。
第１図は熱線放射ヘッドの製造工程を示す本発明の一実
施例の説明図であＪ 、ａは側面図、ｂ〜ｄは断面図、
ｂ′はｂの平面図である。第２図は従来例の要部平面図
、第３図は要部断面図、第４図は第１図ｇの平面図であ
る。 ５・・・基板 ６．５ａ、ｓｂ・・・高耐熱性有機物質
７・・・絶縁層 ８・・・Ｔａ２Ｎ ９・・・発熱
体 １０・・・給電体 １１・・・保護膜 １２・・・
Ｎｉ膜 １５・・・空間特許 出 願人 沖電気工業株
式会社 代理人 弁理士 金 倉 喬 二 ５：基板 ６．６ａ、６ｂ：高耐熱性有機物質 １０：給電体 １１：保護膜 従来例の要部平面図 従来例の要部断面図 婦 ３ ロ 第１図（ｇ）の平面図 舖 ４［ｍ 手続補正書（自発） 昭和６０年９月２７８
施例の説明図であＪ 、ａは側面図、ｂ〜ｄは断面図、
ｂ′はｂの平面図である。第２図は従来例の要部平面図
、第３図は要部断面図、第４図は第１図ｇの平面図であ
る。 ５・・・基板 ６．５ａ、ｓｂ・・・高耐熱性有機物質
７・・・絶縁層 ８・・・Ｔａ２Ｎ ９・・・発熱
体 １０・・・給電体 １１・・・保護膜 １２・・・
Ｎｉ膜 １５・・・空間特許 出 願人 沖電気工業株
式会社 代理人 弁理士 金 倉 喬 二 ５：基板 ６．６ａ、６ｂ：高耐熱性有機物質 １０：給電体 １１：保護膜 従来例の要部平面図 従来例の要部断面図 婦 ３ ロ 第１図（ｇ）の平面図 舖 ４［ｍ 手続補正書（自発） 昭和６０年９月２７８
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（ａ）基板上に発熱体のパターンに応じて高耐熱性
有機物質を形成し、 （ｂ）その上から絶縁層、発熱体、給電体及び保護膜を
形成して、 （ｃ）その後、前記保護膜を部分的に除去し、 （ｄ）その除去部分から高耐熱性有機物質を基板から除
去することを特徴とする熱線放射ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60096091A JPS61254361A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 電子写真プリンタ用記録ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60096091A JPS61254361A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 電子写真プリンタ用記録ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61254361A true JPS61254361A (ja) | 1986-11-12 |
| JPH0414631B2 JPH0414631B2 (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=14155724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60096091A Granted JPS61254361A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 電子写真プリンタ用記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61254361A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613185A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-09 | Ricoh Co Ltd | Luminescent element array for spot scanning and recorder |
| JPS5845072A (ja) * | 1981-06-04 | 1983-03-16 | イング・チイ・オリベツチ・アンド・チイ・エス・ピ−・ア | 印字針装置 |
| JPS5845971A (ja) * | 1981-09-12 | 1983-03-17 | Rohm Co Ltd | サ−マルプリンタヘッドとその製造法 |
-
1985
- 1985-05-08 JP JP60096091A patent/JPS61254361A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613185A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-09 | Ricoh Co Ltd | Luminescent element array for spot scanning and recorder |
| JPS5845072A (ja) * | 1981-06-04 | 1983-03-16 | イング・チイ・オリベツチ・アンド・チイ・エス・ピ−・ア | 印字針装置 |
| JPS5845971A (ja) * | 1981-09-12 | 1983-03-17 | Rohm Co Ltd | サ−マルプリンタヘッドとその製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0414631B2 (ja) | 1992-03-13 |
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