JPS61254362A - 熱線放射ヘツド - Google Patents
熱線放射ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61254362A JPS61254362A JP60096093A JP9609385A JPS61254362A JP S61254362 A JPS61254362 A JP S61254362A JP 60096093 A JP60096093 A JP 60096093A JP 9609385 A JP9609385 A JP 9609385A JP S61254362 A JPS61254362 A JP S61254362A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hollow
- substrate
- etching
- forming material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真型プリンタ等に用いるヘッドに関し
、特に赤外線、近赤外線、可視光などを放射するヘッド
に関する。
、特に赤外線、近赤外線、可視光などを放射するヘッド
に関する。
電子写真型プリンタとしては、熱線放射ヘッドから発す
る熱線放射により、感光ドラムを感光して印字出力を得
るものがある。
る熱線放射により、感光ドラムを感光して印字出力を得
るものがある。
従来の熱線放射ヘッドを第2図及び第3図に基づいて説
明する。第2図は要部平面図、第3図は要部断面図であ
シ、この従来例は、基板1上にSiO2膜2を被着して
、その上に発熱体層による発熱部3全形成し、この発熱
部3上に給電体4を設けてS i02膜2を被せである
。
明する。第2図は要部平面図、第3図は要部断面図であ
シ、この従来例は、基板1上にSiO2膜2を被着して
、その上に発熱体層による発熱部3全形成し、この発熱
部3上に給電体4を設けてS i02膜2を被せである
。
このように熱線放射ヘッド全構成することによって、複
数の発熱部3に通電してジュール熱による熱線放射を行
い、この熱線放射を感光ドラムに放射して、感光ドラム
の感光体を感光して印字を行う。
数の発熱部3に通電してジュール熱による熱線放射を行
い、この熱線放射を感光ドラムに放射して、感光ドラム
の感光体を感光して印字を行う。
しかしながら、このような従来例は、発熱部全平板状に
形成するため、発熱部への供給電力を太きくしなければ
、感光ドラムの感光体が感光しない。そのため、消費電
力が著しく大きくなる問題がある。
形成するため、発熱部への供給電力を太きくしなければ
、感光ドラムの感光体が感光しない。そのため、消費電
力が著しく大きくなる問題がある。
本発明は、前記問題を解決するためになされたものであ
シ、その目的は、低消費電力化を可能にすると共に、高
速、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供するこ
とにある。
シ、その目的は、低消費電力化を可能にすると共に、高
速、低価格で熱分離のよいプリントヘッドを提供するこ
とにある。
前記した目的ヲ燵成するため、本発明は、断面形状が大
略半円形の可塑性の中空形成部材により、中空部を設け
て基板に形成するS i02膜と、5t02び酸化防止
膜とからなることを特徴とする。
略半円形の可塑性の中空形成部材により、中空部を設け
て基板に形成するS i02膜と、5t02び酸化防止
膜とからなることを特徴とする。
前記特徴を有する本発明は、先ず断面形状が大略半円形
の可塑性の中空形成部材全基板上に形成し、その上にS
iO2膜、発熱抵抗体膜、電気良導給電体及び酸化防止
膜を形成する。その後、前記中空形成部材を取除き、低
消費電力化をはかる。
の可塑性の中空形成部材全基板上に形成し、その上にS
iO2膜、発熱抵抗体膜、電気良導給電体及び酸化防止
膜を形成する。その後、前記中空形成部材を取除き、低
消費電力化をはかる。
〔実施例〕 ゛
以下、本発明の一実施例を第1図a、 b、 b。
c=dに基づいて説明する。
第1図は熱線放射ヘッドの製造工程を示す本発明の一実
施例の説明図であシ、aは側面図、b〜dは断面図、b
′は平面図である。
施例の説明図であシ、aは側面図、b〜dは断面図、b
′は平面図である。
第1図において、5は基板で、表面が平滑でガラスやグ
レーズアルミナなどからなる絶縁材である。6はCr膜
、7は中空形成材で、断面が段切シになった大略半円形
状のNtまたはCu等を用いる。
レーズアルミナなどからなる絶縁材である。6はCr膜
、7は中空形成材で、断面が段切シになった大略半円形
状のNtまたはCu等を用いる。
8はSiO2膜、9はTa2Nなどの発熱抵抗体膜、1
0は電気良導給電体、11はS i02などの酸化防止
膜、12は中空部である。尚、前記S i02膜8の代
わシに基板5と密着性のよいNiCr膜としてもよい0 次に、熱線放射ヘッドの製造方法を説明する。
0は電気良導給電体、11はS i02などの酸化防止
膜、12は中空部である。尚、前記S i02膜8の代
わシに基板5と密着性のよいNiCr膜としてもよい0 次に、熱線放射ヘッドの製造方法を説明する。
先ず、第1図aに示す如く基板5にCr膜6及び中空形
成材Tを真空中で連続蒸着して、さらにその蒸着膜上に
厚付けが可能で溶解し易い中空形成材1を電気メッキに
よシ数10#I形成し、フォトリソエツチングによシ第
1図すに示すパターンを形成して、再びフォトリソエツ
チングを繰返して第1図すのように断面が段切シとなっ
た大略半円状の中空形成材Tを形成する。
成材Tを真空中で連続蒸着して、さらにその蒸着膜上に
厚付けが可能で溶解し易い中空形成材1を電気メッキに
よシ数10#I形成し、フォトリソエツチングによシ第
1図すに示すパターンを形成して、再びフォトリソエツ
チングを繰返して第1図すのように断面が段切シとなっ
た大略半円状の中空形成材Tを形成する。
ここで、形成されたメッキ膜は平滑性やレベリングに非
常に優れたものでなければならない。例えば、本実施例
において使用したメッキ浴、作業条件は次に述べる通p
である。
常に優れたものでなければならない。例えば、本実施例
において使用したメッキ浴、作業条件は次に述べる通p
である。
(1)浴組成:硫酸銅 CuSO4’5H202209
/A?硫酸H2S0q 30cc/A! 塩化ナトリウムNa(J LOOmi/11(2)
添加剤:商品名 MaKe up Cupracid
2105cc/A 商品名 Cupracid 210 (pQ
、5cc/1 商品名 Cupracid 210 (B)
補充用 前記添加剤は、ドイツ・シエーリング社製のものを使用
した。
/A?硫酸H2S0q 30cc/A! 塩化ナトリウムNa(J LOOmi/11(2)
添加剤:商品名 MaKe up Cupracid
2105cc/A 商品名 Cupracid 210 (pQ
、5cc/1 商品名 Cupracid 210 (B)
補充用 前記添加剤は、ドイツ・シエーリング社製のものを使用
した。
(3)メッキ条件二メッキ浴濃度 比重 1.17、p
H1,0以下、 浴温20〜35℃、陰極電流密度1 〜6 A /dyr? (平均45 A /dm’ )
陽極電流密度25A/、−を起えないこ と、浴電圧1〜4v 激しい空気撹 拌、連続濾過、陽極含燐鋼(燐α02 〜0.06%) 膜の積出速度は、電流密度が45 A /<−で1分間
にlμであシ、このような条件のもとて表面粗さがRm
ax 100 X以下、RZ 200 X以下の非常に
平滑でレベリングに優れた膜を10〜50μ形成する。
H1,0以下、 浴温20〜35℃、陰極電流密度1 〜6 A /dyr? (平均45 A /dm’ )
陽極電流密度25A/、−を起えないこ と、浴電圧1〜4v 激しい空気撹 拌、連続濾過、陽極含燐鋼(燐α02 〜0.06%) 膜の積出速度は、電流密度が45 A /<−で1分間
にlμであシ、このような条件のもとて表面粗さがRm
ax 100 X以下、RZ 200 X以下の非常に
平滑でレベリングに優れた膜を10〜50μ形成する。
次に、第1図CのようにCr膜全全蒸着てフォトリソエ
ツチングによシ幅、I’m、長さ60醜の帯状パターン
を形成し、その上にSiO2膜8を2〜5μ、発熱抵抗
体膜9 ? 2000〜3000χスパツタによシ形成
する。そして、フォトリンエツチングによシ発熱体を形
成する。さらに、NiCrとAui連続蒸着して、メッ
キによ、9Auを2μ形成し、フォトリンエツチングに
よシミ気良導給電体10を形成する。この後、酸化防止
膜11を2〜5μスパツタする。
ツチングによシ幅、I’m、長さ60醜の帯状パターン
を形成し、その上にSiO2膜8を2〜5μ、発熱抵抗
体膜9 ? 2000〜3000χスパツタによシ形成
する。そして、フォトリンエツチングによシ発熱体を形
成する。さらに、NiCrとAui連続蒸着して、メッ
キによ、9Auを2μ形成し、フォトリンエツチングに
よシミ気良導給電体10を形成する。この後、酸化防止
膜11を2〜5μスパツタする。
それから、蒸着によ、9500OAのNi膜を形成して
、それをマスクとして発熱体にかからない部分をエツチ
ングし、ドライエツチングで下層SiO2層8をエツチ
ングして穴をあけ、そこから前記Cr膜6及び中空形成
部材7を溶解して取除き中空部12t−形成し、最後に
Niミラ解して基板5に駆動用ICチップ等全搭載する
。
、それをマスクとして発熱体にかからない部分をエツチ
ングし、ドライエツチングで下層SiO2層8をエツチ
ングして穴をあけ、そこから前記Cr膜6及び中空形成
部材7を溶解して取除き中空部12t−形成し、最後に
Niミラ解して基板5に駆動用ICチップ等全搭載する
。
前記した如く、本発明に係る熱線放射ヘッドによれば、
断面形状が大略半円形の可塑性の中空形成部材を基板上
に形成し、その上にSiO2膜、発熱抵抗体膜、電気良
導給電体及び酸化防止膜を形成することによって、低消
費電力で感光ドラムの感光体を感光でき、高速、低価格
で熱分離のよいプリントヘッドを提供できる効果がある
。
断面形状が大略半円形の可塑性の中空形成部材を基板上
に形成し、その上にSiO2膜、発熱抵抗体膜、電気良
導給電体及び酸化防止膜を形成することによって、低消
費電力で感光ドラムの感光体を感光でき、高速、低価格
で熱分離のよいプリントヘッドを提供できる効果がある
。
また、本発明によれば、基板上の一部分に中空形成部材
を形成することにより、発熱抵抗体膜で容易に取除くこ
とができ、また取除くことによシショートの原因を減少
させることができ、さらに、S i02膜と酸化防止膜
とによシ発熱抵抗体膜を覆うため、発熱抵抗体は上下、
側面からエツチングの作用を受けることなく、酸化防止
の向上が期待できる効果がある。
を形成することにより、発熱抵抗体膜で容易に取除くこ
とができ、また取除くことによシショートの原因を減少
させることができ、さらに、S i02膜と酸化防止膜
とによシ発熱抵抗体膜を覆うため、発熱抵抗体は上下、
側面からエツチングの作用を受けることなく、酸化防止
の向上が期待できる効果がある。
第1図は熱線放射ヘッドの製造工程を示す本発明の一実
施例の説明図であシ、aは側面図、b〜dは断面図、b
′はbの平面図である。第2図は従来例の要部平面図、
第3図は従来例の要部断面図である。 5・・・基板 6・・・C!j膜 T・・・中空形成部
材 8・・・S i02膜 9・・・発熱抵抗体膜 1
0・・・電気良導給電体 11・・・酸化防止膜 12
・・・中空部特許 出 願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 金 倉 喬 二 (a) (b) @ 1 国 77酸化防止膜 (C) 72中空部 (d) 熱線放射ヘッドの製造工晶旨イ本Mの一実施例の説明図
従来例の要部平面図 従来例の要部断面図 M 3 ロ 手続補正書(自発) 昭和60年9月27日
施例の説明図であシ、aは側面図、b〜dは断面図、b
′はbの平面図である。第2図は従来例の要部平面図、
第3図は従来例の要部断面図である。 5・・・基板 6・・・C!j膜 T・・・中空形成部
材 8・・・S i02膜 9・・・発熱抵抗体膜 1
0・・・電気良導給電体 11・・・酸化防止膜 12
・・・中空部特許 出 願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 金 倉 喬 二 (a) (b) @ 1 国 77酸化防止膜 (C) 72中空部 (d) 熱線放射ヘッドの製造工晶旨イ本Mの一実施例の説明図
従来例の要部平面図 従来例の要部断面図 M 3 ロ 手続補正書(自発) 昭和60年9月27日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、断面形状が大略半円形の可塑性の中空形成部材によ
り、中空部を設けて基板に形成するSiO_2膜と、 SiO_2膜上に形成する発熱抵抗体膜、電気良導給電
体及び酸化防止膜とからなることを特徴とする熱線放射
ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60096093A JPS61254362A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 熱線放射ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60096093A JPS61254362A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 熱線放射ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61254362A true JPS61254362A (ja) | 1986-11-12 |
Family
ID=14155780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60096093A Pending JPS61254362A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 熱線放射ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61254362A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0767065A4 (en) * | 1994-06-21 | 1997-02-11 | Rohm Co Ltd | THERMAL PRINT HEAD, SUBSTRATE USED THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING THIS SUBSTRATE |
US5861902A (en) * | 1996-04-24 | 1999-01-19 | Hewlett-Packard Company | Thermal tailoring for ink jet printheads |
EP1247653A2 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-09 | Alps Electric Co., Ltd. | Thermal head enabling continuous printing without print quality deterioration |
EP1834794A2 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-19 | Sony Corporation | Thermal head and printing device equipped with the same |
EP1834791A3 (en) * | 2006-03-17 | 2008-10-08 | Sony Corporation | Thermal head and printing device |
-
1985
- 1985-05-08 JP JP60096093A patent/JPS61254362A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0767065A4 (en) * | 1994-06-21 | 1997-02-11 | Rohm Co Ltd | THERMAL PRINT HEAD, SUBSTRATE USED THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING THIS SUBSTRATE |
US5949465A (en) * | 1994-06-21 | 1999-09-07 | Rohm Co., Ltd. | Thermal printhead, substrate for the same and method for making the substrate |
US5861902A (en) * | 1996-04-24 | 1999-01-19 | Hewlett-Packard Company | Thermal tailoring for ink jet printheads |
EP1247653A2 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-09 | Alps Electric Co., Ltd. | Thermal head enabling continuous printing without print quality deterioration |
EP1247653A3 (en) * | 2001-04-05 | 2004-06-09 | Alps Electric Co., Ltd. | Thermal head enabling continuous printing without print quality deterioration |
EP1834794A2 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-19 | Sony Corporation | Thermal head and printing device equipped with the same |
EP1834791A3 (en) * | 2006-03-17 | 2008-10-08 | Sony Corporation | Thermal head and printing device |
EP1834794A3 (en) * | 2006-03-17 | 2010-01-20 | Sony Corporation | Thermal head and printing device equipped with the same |
US7907158B2 (en) | 2006-03-17 | 2011-03-15 | Sony Corporation | Thermal head and printing device |
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