JPS61252207A - 光デイスク成形材料用樹脂 - Google Patents
光デイスク成形材料用樹脂Info
- Publication number
- JPS61252207A JPS61252207A JP60075004A JP7500485A JPS61252207A JP S61252207 A JPS61252207 A JP S61252207A JP 60075004 A JP60075004 A JP 60075004A JP 7500485 A JP7500485 A JP 7500485A JP S61252207 A JPS61252207 A JP S61252207A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- radical
- compound
- polymerizing
- heat resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光で読みだしを行う方式のディスク（ビデオ
ディスク、メモリーディスク、デジタルオーディオディ
スク等）の成形材料用樹脂に関する。
ディスク、メモリーディスク、デジタルオーディオディ
スク等）の成形材料用樹脂に関する。
（従来技術）
光ディスクは、記録密度が著しく高く、又、それから再
生される画質、音質が優れることなど多くの特徴を有す
ることから、画像や音声の記録再生、多量の情報の記憶
再生等に広く実用されることが期待されている。
生される画質、音質が優れることなど多くの特徴を有す
ることから、画像や音声の記録再生、多量の情報の記憶
再生等に広く実用されることが期待されている。
メモリーディスクを例にとると、ディスク材料としては
、無機ガラス、ポリメチルメタアクリレート樹脂が実用
されている。しかし、ディスク材料としての無機ガラス
の場合、透湿性がないために記録層への悪影響は少ない
が、重量が重く、割れやすい。又、ガラスの精密加工が
高価である等の欠点がある。一方、ポリメチルメタアク
リレート樹脂の場合、ガラスに比べて割れにくい及び価
格が安い等の長所があるが、傷がつき易いことから光学
的安定性に欠ける。また、耐熱性が低い、及び吸湿性が
高いことによりディスクがそりやすく、そのそりのため
に記録再生光学系における絞り込みレンズの焦点が合わ
なくなり、誤動作が起こるという致命的欠陥を有してお
り、かかる欠点の改良が強く望まれている。
、無機ガラス、ポリメチルメタアクリレート樹脂が実用
されている。しかし、ディスク材料としての無機ガラス
の場合、透湿性がないために記録層への悪影響は少ない
が、重量が重く、割れやすい。又、ガラスの精密加工が
高価である等の欠点がある。一方、ポリメチルメタアク
リレート樹脂の場合、ガラスに比べて割れにくい及び価
格が安い等の長所があるが、傷がつき易いことから光学
的安定性に欠ける。また、耐熱性が低い、及び吸湿性が
高いことによりディスクがそりやすく、そのそりのため
に記録再生光学系における絞り込みレンズの焦点が合わ
なくなり、誤動作が起こるという致命的欠陥を有してお
り、かかる欠点の改良が強く望まれている。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、前記した状況に鑑み、高耐熱性、高硬度、低
吸水性を有するディスク成形材料を提供することにある
。
吸水性を有するディスク成形材料を提供することにある
。
（問題点を解決する具体的手段）
本発明は一般式
〔式中、ＲはＨまたはＣＨａである。〕で表わされる化
合物を主成分とするビニル化合物をラジカル重合するこ
とにより得られた樹脂からなることを特徴とする光デイ
スク成形材料用樹脂を提供するものである。
合物を主成分とするビニル化合物をラジカル重合するこ
とにより得られた樹脂からなることを特徴とする光デイ
スク成形材料用樹脂を提供するものである。
光デイスク用樹脂は前記一般式で表わされるアクリル系
化合物を、一般的に用いられるラジカル重合法と同様に
して硬化させることにより得ることができる。例えば、
このアクリル系化合物に有機過酸化物、アゾ化合物等の
ラジカル開始剤を配合し、加熱硬化する方法及び光増感
剤を配合し、紫外線、電子線、放射線等を照射し硬化す
る方法等によりラジカル重合することができる。又、そ
の際に使用されるラジカル開始剤は特に限定されず、例
えば過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキサイド
、ターシャリ−ブチルパーオキシビバレート、ラウロイ
ルパーオキサイド等有機過酸化物、アゾイソブチロニト
リル等アゾ化合物；ベンゾフェノン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジル、アセトフェノン、アントラキノン
等光増感剤、ジフェニルスルフイツト、チオカーバメー
ト等硫黄化合物などラジカル開始剤が使用できる。
化合物を、一般的に用いられるラジカル重合法と同様に
して硬化させることにより得ることができる。例えば、
このアクリル系化合物に有機過酸化物、アゾ化合物等の
ラジカル開始剤を配合し、加熱硬化する方法及び光増感
剤を配合し、紫外線、電子線、放射線等を照射し硬化す
る方法等によりラジカル重合することができる。又、そ
の際に使用されるラジカル開始剤は特に限定されず、例
えば過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキサイド
、ターシャリ−ブチルパーオキシビバレート、ラウロイ
ルパーオキサイド等有機過酸化物、アゾイソブチロニト
リル等アゾ化合物；ベンゾフェノン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジル、アセトフェノン、アントラキノン
等光増感剤、ジフェニルスルフイツト、チオカーバメー
ト等硫黄化合物などラジカル開始剤が使用できる。
ラジカル開始剤の使用量は前記一般式で表わされるアク
リル系化合物１００部に対して０．０１〜２０部、更に
好ましくは０．０１〜１０部の範囲である。
リル系化合物１００部に対して０．０１〜２０部、更に
好ましくは０．０１〜１０部の範囲である。
更に、前記一般式で表わされるアクリル系化合物に加え
て、公知のディスク成形材料として用いられるラジカル
重合性モノマー、具体的にはジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、ジアリルフタレ−１’、４１４’
−ビス（β−メタアクロイルエトキシ）ジフェニルプロ
パン等を本発明の優れた特性を低下させない範囲（２０
モル多以下）で併用すること゛も可能である。
て、公知のディスク成形材料として用いられるラジカル
重合性モノマー、具体的にはジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、ジアリルフタレ−１’、４１４’
−ビス（β−メタアクロイルエトキシ）ジフェニルプロ
パン等を本発明の優れた特性を低下させない範囲（２０
モル多以下）で併用すること゛も可能である。
本発明のラジカル重合は、大気中、１０〜１５０℃の温
度で行うのが好ましい。
度で行うのが好ましい。
このようにして得た樹脂は、光透過率が８５％以上で、
複屈折率がＩ Ｘ １０−’以下、２００℃以上の耐熱
性、鉛筆硬度が２部以上のものである。
複屈折率がＩ Ｘ １０−’以下、２００℃以上の耐熱
性、鉛筆硬度が２部以上のものである。
以下、実施例を示す。なお、例中の部は重量部、％は重
量基準である。
量基準である。
又、実施例において得られる諸物性は下記の試験法によ
り測定した。
り測定した。
（１）光透過率二分光光度計にて５００ ｎｍの光透過
率を測定。
率を測定。
（２）複屈折率：偏光顕微鏡にて測定。
（３）耐熱性：ＡＳＴＭ−Ｄ−６４８に従い熱変形試験
装置にて測定。
装置にて測定。
（４）硬 度：ＪＩＳ−に−６９１１に従い鉛筆硬度
試験機にて測定。
試験機にて測定。
（５）吸水率：ＪＩＳ−に−６９１１に従い測定。
実施例１
１．４−シクロヘキサンジメタクリレートｌｏ。
部に対してベンゾイルパーオキサイド０．５部加え、６
０℃に加熱し、均一に攪拌混合した後、脱泡し、この液
を直径１２０ｍのガラス板とシリコーンゴムのスペーサ
ーで構成された鋳型の中へ注入し、６０℃で２４時間、
８０℃で２時間、１００℃で２時間保持して重合を行な
った。
０℃に加熱し、均一に攪拌混合した後、脱泡し、この液
を直径１２０ｍのガラス板とシリコーンゴムのスペーサ
ーで構成された鋳型の中へ注入し、６０℃で２４時間、
８０℃で２時間、１００℃で２時間保持して重合を行な
った。
鋳型より硬化物を取シ出して直径１２０ｍのディスク基
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。
実施例２
１．４−シクロヘキサンジアクリレート１００部ｌして
ベンゾインエチルエーテル３部加工、６０℃に加熱し均
一に攪拌混合した後、脱泡し、この液をｌ径１２０ｍの
ガラス板とシリコーンゴムのス、ベーナーで構成された
鋳型の中へ注入し、出力８０ Ｗ／ ｃｓの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。
ベンゾインエチルエーテル３部加工、６０℃に加熱し均
一に攪拌混合した後、脱泡し、この液をｌ径１２０ｍの
ガラス板とシリコーンゴムのス、ベーナーで構成された
鋳型の中へ注入し、出力８０ Ｗ／ ｃｓの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。
鋳型より硬化物を取り出して直径１２０■のデイスク基
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。
比較例１
実施例１のビス（オキシメチル）トリシクロ（５，２，
１゜０２，５）デカンジメタアクリレートの代りにメチ
ルメタアクリレート１００部とベンゾイルパーオキサイ
ド０．５部用いて、実施例１と同様の手法によ抄直径１
２０ｍのディスク基板を得た。
１゜０２，５）デカンジメタアクリレートの代りにメチ
ルメタアクリレート１００部とベンゾイルパーオキサイ
ド０．５部用いて、実施例１と同様の手法によ抄直径１
２０ｍのディスク基板を得た。
そのディスク基板の諸物性評価結果を表−１に示した。
比較例２
比較例１のメチルメタアクリレートの代りに４゜４′−
ビス（β−メタアクロイルオキシエトキシ）ジフェニル
プロパン１００部とベンゾイルパーオキサイド０．５部
用いて、実施例１と同様の手法により直径１２０ｍのデ
ィスク基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結果
を表−１に示した。
ビス（β−メタアクロイルオキシエトキシ）ジフェニル
プロパン１００部とベンゾイルパーオキサイド０．５部
用いて、実施例１と同様の手法により直径１２０ｍのデ
ィスク基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結果
を表−１に示した。
（以下余白）
第１図は実施例１で得た硬化物の赤外線吸収スペクトル
図である◎
図である◎
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ＲはＨまたはＣＨ＿３である。〕 で表わされる化合物を主成分とするビニル化合物をラジ
カル重合することに得られる樹脂よりなることを特徴と
する光ディスク成形材料用樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60075004A JPS61252207A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 光デイスク成形材料用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60075004A JPS61252207A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 光デイスク成形材料用樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61252207A true JPS61252207A (ja) | 1986-11-10 |
Family
ID=13563616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60075004A Pending JPS61252207A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 光デイスク成形材料用樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61252207A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010510256A (ja) * | 2006-11-24 | 2010-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP60075004A patent/JPS61252207A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010510256A (ja) * | 2006-11-24 | 2010-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
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