JPS6124577A - ヒドロキシフエニルトリアジンとその製造方法ならびに紫外線吸収剤としてのその使用 - Google Patents

ヒドロキシフエニルトリアジンとその製造方法ならびに紫外線吸収剤としてのその使用

Info

Publication number
JPS6124577A
JPS6124577A JP13583985A JP13583985A JPS6124577A JP S6124577 A JPS6124577 A JP S6124577A JP 13583985 A JP13583985 A JP 13583985A JP 13583985 A JP13583985 A JP 13583985A JP S6124577 A JPS6124577 A JP S6124577A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
formulas
alkyl
carbon atoms
tables
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13583985A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0517226B2 (ja
Inventor
マリオ フライバーグ
ジエラルド ジヤン
ラウル マリアカ
エツクハード クランプ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS6124577A publication Critical patent/JPS6124577A/ja
Publication of JPH0517226B2 publication Critical patent/JPH0517226B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/22Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to two ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/815Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
    • G03C1/8155Organic compounds therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヒドロキシフェニルトリアジン、その製造方法
ならびに紫外線吸収剤としてのその使用に関する。
例えば下記式のヒドロキシフェニルトリアジンは米国特
許第3444164号明細書から公知である。
(式中、A1  はアルキレン、Mはたとえば水素また
は゛アルカリ金属そしてZl と22はたとえば式 の基を意味する)。
これらの化合物は式 の化合物を式 、A、。
゛・、 0−=802 のスルトンと反応させて製造される。
紫外光線を吸収するのでこのヒドロキシフェニルト“リ
アジンはたとえば天然または合成重合体のだめの光保護
剤として適用することができる。
すなわち、たとえば写真材料のゼラチン層内に紫外線吸
収剤として使用することができる。
しかし々から上記した米国特許第3444164号明細
書に記載されている化合物は写真材料に使用する場合、
次のような欠点がある。第1にはその水溶解性が低いと
とそして第2にはゼラチン水溶液に添加すると大きな粘
度上昇を惹起することである。
したがって本発明の目的は向上された使用特性を持つヒ
ドロキシフェニルトリアジンタイプの新規な紫外線吸収
剤を提供することである。
しかしてここに本発明によってトリアジン環のフェニル
置換基内に第2のヒドロキシル基を導入することによっ
て水溶性が顕著に向上されしかも同時にゼラチン水溶液
の粘度一対する影響がはるかに小さい化合物が得られる
ことか見出された。
−tなわち、本発明は下記式(1)の化合物を発明の対
象とするものである。
式中、置換基R+ 、R2、R3のうちの少なくとも1
つは式 C式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属、ア
ンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムを意味し
、 mは1または2、 −R4は1乃至4個の炭素原子を有するアルキルまたは
アルコキシ、ヒドロキシまたは式−CORの基(ここで
Rは1乃至8個の炭素原子を有するアルキルまたはフェ
ニルである)を意味し、 n i二□、1.2または3である〕の基を意味しそし
て”I % R2、R3のうちの残りの置換基は互に独
立的にアルキル、アリールまたは1つのへテロ原子を介
してトリアジニル基に結合されたアルキルまたはアリー
ル、あるいは複素環を意味する。
本発明の対象にはさもに上記式(1)の化合物を製11
1iする方法、有機化合物、特に写真材料中の紫外線吸
収剤としての式(1)の化合物の使用および式(1)の
化合物を含有している写真材料も包含される。
上記のととく式(1)の化合物中の置換基R1、R2、
R3のうちの少なくとも1つは下記式%式% 式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属たとえ
ばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、
あるいはアンモニウムあるいはまたテトラアルキルアン
モニウム(この場合、各アルキル基は互に独立的に1乃
至4個の炭素原子を含有しうる。たとえばブチル、プロ
ピル、エチルおよび特にメチルが考慮される)である。
Mはナトリウムまたはカリウムであるのが好ましい。数
値mは1または2であり、Mの価数を示す。
R11R2s R3はさらにアルキルまたはアリールを
意味しうる。アルキルおよびアリールは未置換のものば
かりでなく置換されたアルキルおよびアリールも含むも
のと理解されるべきである。好ましいアルキル基は炭素
数が1乃至12個であるアルキル基であり、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルまたはドデ
シルあ乙いはこれらの基の異性体がその例である。特に
好寸しいアルキル基は炭素数が1乃至4個のものである
適当なアリール基R+ 、R2、及びR3の例はナフチ
ルおよび特にフェニルである。
これらのアルキル基およびアリール基は直接的に(それ
自身の炭素原子の1つによって)あるいは1つのへテロ
原子を介してトリアジニル基に結合されている。適当な
ペテロ原子d:たとえば酸素原子、硫黄原子、窒素原子
、あるいはイミノ基またはアルキルイミノ基の一部とし
ての窒素原子などである。。なお、アルキルイミノ基は
そのアルキル基中に1乃至4個の炭素原子を有している
ものが好ましい。
式(1)の化合物中の駿すアジニル基は上記したアルキ
ル基およびアリール基以外に、そのアルキル基またはア
リール基が前記へテロ原子を介してトリアジニル基に結
合している場合には、さらにアルコキシ基、チオアル午
ル基、(ジ)アルキルアミノ基〔すなわち式 %式%) および(C1−CI2−アルキル)−N−)(の置換基
〕、フェノキシ基、チオフェニル基およびアニリノ置換
基〔すなわち式C,H,−Y−HまたばC6I5−’f
’ (CH−C4−アルキル)の置換基〕を含有しつる
したがってトリアジニル基にはそれぞれ1乃至12個の
炭素原子を有するアルコキシ−基−、アルキルアミノ基
、チオアルキル基あるいは全部で2乃至16個の炭素原
子を有するジアルキルアミノ基が存在しうる。好ましい
アルコキシおよびアルキルアミノ置換基は1乃至4個の
炭素原子を含有し、特に適当なチオアルキル置換基は8
乃至12個の炭素原子を含有し、そして特に適当なジア
ルキルアミノ置換基は2乃至8個の炭素原子を含有する
R11R2% Rsは場合によってはさらに置換されて
いてもよい。例えばアルキル基またはへテロ原子−アル
キル基である場合にはメトキシ、ヒドロキシル、フェニ
ル、ピペリジニル、ピロリジニルあるいは2乃至9個の
炭素原子を有するカルボアルコキシによって置換されて
いてもよい。
R1% R2、R3がアリール基またはへテロ原子・ア
リール基である場合、特にフェニル基、フェノキシ基、
チオフェニル基またはアニリノ基である場合には、それ
は例えばつぎのような置換基によってさらに置換されて
いてもよい。1乃至12個の炭素原子を有するアルキル
またはアルコキシ基、たとえばメチル、t−ブチル、ペ
ンチル、オクチル、デシル、ドデシル、メトキン、ブト
キシまたはペントキシ(場合によってはヒドロキシル、
メトキシまたは2乃至9個の炭素原子を有するカルボア
ルコキシによって置換されていてもよい)、または置換
されたアルキル基たとえば−CH2CH(OH)CH2
So3K 、さらにはシクロペンチル、シクロヘキシル
、フェニル、ヒドロキシル、ハロゲン原子特に塩素、ア
ルキル基中に1乃至4個の炭素原子を有する(ジ)−ア
ルキルアミノ、ニトロ、シアノ、2乃至9個の炭素原子
を有するカルボアルコキシおよびスルホ基たとえば一8
O3’H、−8O3Na s−8O3Kまたは一8O3
NH4゜ 特にRI 、R2、R3がアニリノ基の場合には、たと
えばチアゾール、ベンズチアソール、オキサゾール、イ
ンオキサゾール、ベンズオキサゾールのととき複素環式
基を含有していてもよい。好ましいこの種置換基はベン
ズチアゾール基、特に式 のベンズチアゾール基、およびインオキサゾール基、特
に式 −のイソオキサゾールである。
R,、R2、R3はさらに複素環をも意味しうる。特に
窒素含有複素環が考慮され、環は原子の数は3乃至6が
好1しくそして第2へテロ原子はたとえば酸素でありう
る。これら複素環は飽和または不飽和、置換または未置
換のいずれでもよい。これらは固有のへテロ煮干を介し
て、あるいは1個の炭素原子を介してトリアジニル基に
結合されていてもよい。この適当な複素環の基の例を示
せば次のものである。
置換基R4は1乃至4個の炭素原子を有するアルキルま
たはアルコキシであシ、たとえはブチル、t−ブチル、
プロピル、エチル、エトキシ、好ましくはメチル、メト
キシである。
R4はさらにヒドロキシルまたは−COHの基を意味し
うる。ここでRは炭素数が1乃至8、好ましくは1乃至
4のアルキル、特にメチル、あるいはフェニルを意味す
る。
nは0.1.2または3であり、好ましくは0または1
である。
置換基R1% R2、R3は互に独立的に上記に列挙し
た意味を有することができる。
好ましい式(1)の化合物は、置換基R2およびR3が
式 (式中、R4はメチル、メトキシ、ヒドロキシルたはア
セチル、 nは1.2または3、好ましくは1、 Mとmは上記の意味を有する)の基であり、そしてR1
がアルキル、アリール、1つのへテロ原子を介してトリ
アジニル基に結合されたアルキル〜まだはアリール、ま
たは複素環を意味するものである。
特に好ましい式(1)の化合物はR,がアリール特にフ
ェニルあるいは1つのへテロ原子を介してトリアジニル
基に結合されたアリール特にアニリノであるものである
。この場合、」二記の基は場合によっては次のような置
換基でさらに置換されていてもよい。1乃至12個の炭
素原子を有するアルキルまたはアルコキシ、フェニル、
ヒドロキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノまたは2乃至
9個の炭素原子を有するカルボアルコキシ特に−CO2
CH3、チアゾール、ベンズチアソール、オキサゾール
、イソオキサゾール、またはベンズオキサゾール。
好ましい式(1)の化合物のいま1つのグループはR2
とR3が式 (式中、Mおよびmは前記の意味を有する)の基を意味
し、そしてR,がR2およびR3と同じ意味を有するか
、あるいはR8がアルキル、アリール、1つのへテロ原
子を介してトリアジニル基に結合されたアルキルまたは
アリール、あるいは複素環を意味するものである。
さらにい−!1つの特に好ま、しい式(1)の化合物の
グループはR2とR3が式 C式中、 Mはナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム
、アンモニウム、またはアルキル−基にそれぞれ1乃至
4個の炭素原子を有するテトラアルキルアンモニウムを
一意味し、そしてmは1または2である)の基を意味し
、そしてR1がR2およびR3と同じ意味を有するか、
あるいはR1が1乃至12個の炭素原子を有するアルキ
ル、フェニル、酸素原子または硫黄原子またはイミノ基
、またはアルキル基中に1乃至4個の炭素原子を有する
アルキルイミノ基を介してトリアジニル基に結合された
l乃至12個の炭素原子を有するアルキルまたはフェニ
ル、あるいは複素環を意味するもの、あるいはまたR2
とR3とが上記の意味を有し、そしてR1がR2および
R3と同じ意味を有するか、あるいはR1がそれぞれ1
乃至12個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、
アルキルアミノまたはチオアルキル(これらの基は場合
によってはヒドロキシル、フェニル、メトキシ、ピペリ
ジニル、ピロリジニルまたは2乃至9個の炭素原子を有
するカルボアルコキシによって置換されていてもよい)
を意味するものである。これらの中でも特に重要な化合
物は、R1が1乃至4個の炭素原子を有するアルキルま
たはアルコキシ、8乃至12個の炭素原子を有するチオ
アルキルあるいはベンジルアミノを意味するもの、ある
いはまたRloが下記式の基を意味するものである。
式中、n′は0または1、 Xは酸素、硫黄、イミノまだはアルキル基中に1乃至4
個の炭素原子を有するアルキルイミノを意味し、 Y+ 、Y2 、Y3は互に独立的に水素、場合によっ
てはヒドロキシル、メトキシまたは2乃至9個の炭素原
子を有するカルボアルコキシによって置換されていても
よい1乃至12個の炭素原子を有するアルキルまたはア
ルコキシ基、−CH,CH(OH)C)(2So、K 
、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ヒドロ
キシル、スルホ、ハロゲン、アルキル基中に1乃至4個
の炭素原子を有するアルキルアミノまたはジアルキルア
ミノ゛、ニトロ、シアノまたは2乃至4個の炭素原子を
有するカルボアルコキシを意味するか、あるいは Xは酸素または硫黄、 Y4、Y2、Y3は互に独立的に水素、場合によっては
ヒドロキシル、メトキシまたは2乃至9個の炭素原子を
有するカルボアルコキシによって置換されていてもよい
1乃至4個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキ
シ基、フェニル、ヒドロキシル、ニトロ、シアノ、−C
o2CH3または塩素を意味し、そしてn′は上記の意
味を有する。
R,が下記式の複素環を意味するものも好適である。
R1とR2が式 (式中、Mはナトリウムまたはカリウムである)の基で
あり、そしてR1がフェニル、ジフェニル、トリルまだ
はp−クロルフェニル−である式(1)の化合物が特に
適当である。
本発明によれば式(1)の化合物は下記反応式に従って
製造される。
式中、RI 、R4、Mz m s nは前記の意味を
有する。
段階■の反応はそれ自体公知であり、たとえば(E、 
M、 Smoljn and L、 Rapoport
 、 TheChemirtry of Hetero
cyclic Compounds :s Triaz
ines and Derivatives )イー、
エム、スモリンとエル、ラボボートの「ザ、ケミストリ
イ、オブ、ヘテロサイクリック、コンパウンズ:エス、
トリアジンズ、アンド、デリバテイブズ」(インターサ
イエンス・パブリツシャーズ・インコーボレーテツド、
ニューヨーク、1959年発行)の第1頁から258頁
までに記載されている。
段階■と■の化学反応工程は新規である。
段階Hにおいてはトリアジン環にまだ存在している塩素
原子がフリーデル・クラフッの方法によってルイス酸た
とえば塩化アルミニウムの存在下でレソルシニル基によ
って置換さ′ れる。従来はこのような反応は溶剤とし
てのニトロベンゼン中高温で実施されていた。しかしな
がらこの反応は特に80℃以上の反応温度においては完
全に制御不可能となることが判明している。
驚くべきことながら今回本発明によって、溶剤としてニ
トロベンゼンに代えてスルホラン(テトラメチレンスル
ホン)を使用することによってこのような反応がはるか
に良く制御可能となることが見出された。しかも溶剤と
してスルホランを使用するとさらに別の利点も得られる
。すなわち反応制御性が改善されるばかりでなく、中間
生成物がより高純度かつより高収率で得られるようにな
る。さらに、ルイス酸として塩化アルミニウムのほかに
例えば四塩化チタンの使用が可能となる。
本発明によれば段階Hは次のような方法で実施される。
すなわち、例えば2−位置がR1で置換された4、6−
ジクロルトリアジンを好ましくは塩化アルミニウムと共
に、石油エーテルとスルホランとの混合物中に溶解する
。石油エーテルは沸騰範囲が120乃至140℃である
ものが好ましい。石油エーテルとスルホランとの混合比
は一般にo:1乃至10:1の範囲である(容量ベース
)。次にスルホランに適当量のレゾルシンを溶解してこ
れをゆつ〈シと上記反応混合物に添加する。反応温度と
反応時間は広い範囲で選択可能である。それは主として
すでに存在している置換基R,の種類を考慮して決定さ
れる。
反応温度は例えば10乃至95℃、好ましくは20乃至
80℃の範囲で選択される。この反応は一般に約1時間
乃至6時間で終了する。
段階Hの中間生成物は常法によって単離することができ
る。例えば結晶質反応生成物を沈殿させ、濾過、洗浄、
乾燥することによって単離することができる。
次の段階■では段階■からの中間生成物を下記式の化合
物と塩基触媒反応させることによって式(1)の目的生
成物へ導く。
(3)  CIIClI2−CHCH2−8o3(茄 (式中、Mおよびmは前記の意味を有する)。
触媒としては無機塩基も有機塩基も使用できる。たとえ
ばアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、炭
酸塩またはメタル−ト例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムまたは水酸化カルシウム、炭酸ナトリウムまた
は炭酸カリウム、またはナトリウムメタル−ト、または
カリウムメタル−ト、さらにはピリジンあるいはテトラ
アルキルアンモニウム水酸化物たとえばテトラメチル水
酸化アンモニウムなどが使用できる。反応のために適当
な有機溶剤は例えばエタノール、ブタノールのごときア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトンのごときケ
トン類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、2
−メトキシエタノール、ジオキサンのとときエーテル類
である。反応時間は一般に約6時間であり、この場合そ
の反応温度は2o乃至150℃、好捷しくは2o乃至1
00℃である。
本発明に従って段階■で式(2)または(3)の化合物
を使用することによって、米国特許第3444164号
による毒物学的に危険性があるスルトンの使用が回避さ
れる。このため、式(1)の化合物の製造が付加的な安
全手段の必要なしに実施可能となる。式(1)の化合物
は従来よりも高純度かっ高収率で得られる。
R1、R2% R3が式 の基を意味する式(1)の化合物の製造はトリクロルト
リアジンから出発して直接的に段階(n)および(■)
に従って実施することができる。
−本発明による化合物が写真材料内に紫外線吸収剤とし
て有利に使用できることはすでに前記した。本発明によ
る化合物は通常の発色材料中にも銀色素漂白写真材料中
にも使用可能である。そして本発明による化合物は被覆
層内、支持体内、中間層内、画像色素含有層内、あるい
は、またハロゲン化銀乳剤層内に存在させることができ
る。本発明の化合物は該当する写真材料の紫外線から保
護されるべき層の直接上に存在する層の中に配合するの
が好ましい。本発明による紫外線吸収剤の適当な付与量
は100乃至600、好ましくは200乃至400虜佃
である。
本発明による化合物の良好な水溶性は特に次のような利
点をもたらす。すなわち、本化合物がその中に配合され
た銀色素漂白写真材料の検査を早期に、すでに配合作業
中に、すなわち湿潤状態において実施することが可能と
なる。これに対し、米国特許第344’1164号によ
る化合物のごとき水溶性の良くない化合物が使用された
場合にはそのような早期の材料検査は不可能である。な
ぜならば湿潤状態では強度の濁シがあるからである。
原則的には紫外線によって傷害を受ける可能性のあるす
べての有機材料を本発明による式(1)の化合物を使用
して保護することができる。たとえば上記に例示した天
然および合成重合体のほかに染料または染料組成物、化
粧品、薬品などに対して式(1)の化合物を使用するこ
とが考慮される。
本発明の方法の段階Hの実施例を以下に示す。
実施例1 下記式(lOl)の化合物の製造 (1,01) 2−フェニル−4,6−ジクロル−8−トリアジン22
6gと塩化アルミニウム302Iを620 mlの石油
エーテル(沸点範囲120〜140℃)に懸濁しそして
スルホラン70’Ome ’:i m )IIIす゛る
。40’Cまで加熱し、そしてスルホラン270ゴ中の
レゾルシン261gを2時間半で添加する。添加1時間
後に下側の相を分離しそして4000dのメタノール中
に注入する。この生成物を水1350−を加えて沈殿さ
せ、濾過し、塩酸を加えた水(pH10)の中にもう一
度懸濁してから再度p過する。80℃で乾燥して式(]
 01 )の出発化合物300g(収率80%)が得ら
れる。
元素分析: 計算値:C67,56ヂ N11.26% H4,,0
5%測定値二〇66.28% N10.94% H4゜
16%融点: )240℃ 実施例2 下記式(102)の化合物の製造 2−チオフェニル−4,6−ジクロル−8−トリアジン
5.2gと塩化アルミニウム5.6Iとの混合物を12
艷の石油エーテル(沸点範囲120〜140℃)に懸濁
する。次にスルホラン10−を加えそしてこれにスルホ
ラン6 mll中ソゾルシン48gの溶液をゆっくりと
添加する。どの反応混合物をさらに2時間80℃に保持
して反応させる。この生成物を塩酸を加えた水(p)I
tO) 200m/+中に沈殿させる。これによって得
られた生成物を2回水に懸濁して乾燥した後、式(10
2)の出発物質4.8g(収率60%)が得られる。
元素分析: 計−昏:1直 :C59,39% N990%  H4
,07%d11j定1直:  C5933% N997
%  H4,22%融点: )240℃ 実、殉例3 下記式(103)の化合物の製造 0■ 塩化シアヌール184.4gと塩化アンモニウム400
gとを700−の石油エーテル(沸点範囲120〜14
0℃)に懸濁し、そしてスルホラン700−を加える。
このちと40分間でスルホラン350d中レゾルシン3
66Iの溶液を添加する。90乃至95℃で5時間撹拌
し、下側相を分離して、これをメタ/−/L4000W
Leと水1000−との混合物中に注−人する。得られ
た懸濁物をさらに3時間還流加熱し、次いで濾過し、塩
112酸性(pH1,0)の水4000−に懸濁する。
濾過して、温水で洗ったのち、この生成物をメタノール
3000ml中に懸濁し、そして熱時に濾過する。しか
して、式(103)の出発物質313g(収率77%)
が得られる。この化合物1モルには1モルの結晶水が含
まれている。
元素分析: 計算値:C59,52% N989% H4,25%測
定値:C59,79% N9.91% H4,33%融
点: )240℃ 実施例4 下記式(104)の化合物の製造 スルホン[ヒフラスコに石油エーテル(沸点4而囲10
0乃至120℃)60ml中の2−メトキシ−4,6−
ジクロル−s−トリアジン189と塩化アルミニウム2
9.3gとを装填し、そして、これに撹拌しながら10
℃でスルホラン50−を加える。1時間後にスルホラン
30 #+7!中レゾルシン24.2gの溶液全添加し
、そして、この混合物をさらに20〜25℃で5時間撹
拌する。このちとその反応混合物を0℃まで冷却し、塩
酸酸性の水(pH’1.、 O)350−を加え、1時
間還流沸騰させ、濾過し、そして400ゴのメタノール
に@渇する。
e−1過して、乾燥した後、式(104)の出発化合物
29.5g(収率89,8チ)が得られる。
元素分析: 計’#’mj :  C58,35%  N 12.7
5%  H4,05%測定1直 :  C5B、03%
  N12.70%  H3,99チ融点〉240℃ 上記実施例1乃至4に記載した方法に従って次の表]に
示す化合物がさらに製造された。
本発明の方法の段階■の実施例を以下に記す。
実施例5 下記式(201)の化合物の製造 OH0H 2−フェニル−4,6−(2’、  4’−ジヒドロキ
シ)−フェニル7、46 gを粉末水酸化カリウム3.
36gを加えて室温で110+iのジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルに溶解する。ナトリウム−1−ク
ロル−2−ヒドロキシプロピルスルホナート978gを
添加しだのちこの混合物をゆっくりと100℃まで加熱
する。6時間後にこの反応混合物を10℃まで冷却し、
酢酸でpH7、Oに調整し、そして沈殿を戸別する。エ
タノールで洗ったのち、その沈殿を8 ’Omlの水に
溶解して、この溶液を90℃まで加熱する。ついで活性
炭を加え、痙過し、泥液を10℃まで冷却する。
4.0mlのエタノールを加えて生成物を沈殿させる。
この沈殿を濾過分2Wシて乾燥する。しかして式(20
1)の化合物8.4g(収率60%)が得られる。
元素分析: 計舞:1直 :  C44,44% N5.75% 8
8.77% H3,97%測定値:  C44,47%
 N5.55%88.60%H4,01%融点:)24
0℃ 実施例6 式(202)の化合物の製造 OHOH 4“−クロル−2,2’、 4. 4’−テトラヒドロ
キシ−トリフェニル−8−トリアジン21.8.9を2
00−の2−メトキシエタノールに懸濁し、この懸濁物
にテトラメチル水酸化アンモニウム25%メタノール溶
C夜38.3Iを滴加する。50℃まで加熱し、そして
深証色に着色するまで反応混合物をこの温度に保持する
。濾過後、ヨウ化ナトリウム0.41と1−クロル−2
−ヒドロキシ−プロパンスルホナート(ナトリウム塩)
20.69とを添加する。この反応混合物を6時間還流
沸騰させる。次に1−クロル−2−ヒドロキシ−プロパ
ンスルホを一ト(ナトリウム塩)4.tgおよびヨウ化
ナトリウム0.08gを添加してさらに22時間沸騰温
度に保持する。冷却後生成物を戸別し、エタノールで洗
い、エタノール400rnlと酢酸5−との混合物中に
懸濁し、吸引沖過し、60℃で真空乾燥する。しかして
式(202)の化は物35g(収率87.5%)が得ら
れる。
元素分析: d−1東向 :C40,53% N5.25%  88
.01% H4,03%測定値: C40,58%N5
.21% 87.79% H4=08%融点: >24
0℃ 式(202)の化合物1モルは結晶水4モルを含有して
いる。
実施例5に記載した方法に従って次の表4に示す化合物
が製造された。
吸収極大値(は式(203)乃至(224)の化合物を
含有しているゼラチン層の紫外部スペクトルによって測
定された。このゼラチン層は透明な写真支持体上に塗布
されていた。
実施例5に記載した方法に従ってさらに次の表6に示す
化合物も製造される。
表  6 R1 吸収極太値は表4に示した化合物の場合と同様の方法で
測定された。
上記の方法に従ってさらに次の表7および8に示す化舒
物も製造された。
この化合物の元素分析の結果は次の通り。
計算値: C52,59H2,86N18.04 S8
.26α18.26測定値:  52.16 2.96
 17.71 8.20 18.392−[2−(4−
アミノフェニル)−6−メチル−ベンゾチアソール]−
4,6−ジクロロ−S−トリアシン(505a)と塩化
アルミニウム5.62とからなる混合物を石油エーテル
(沸点範囲120〜140℃)12αに懸濁する。スル
ホラン16m1とレゾルシン4.81とを添加したのち
、この反応混合物をさらに12時間60℃で攪拌する。
室温1で冷却後水を加え、涙過し、そして水に懸濁し、
そして次にメタノールに懸濁する。渥過して乾燥したの
ち、下記式の出発化合物8.7?(収率85%)がこの
生成物の元素分析結果は次の通り。
計算値:C=59.07 4.69 11.87 5.
43測定値:   59.35 4.13 13.84
 6,40C2−(4−アミノフェニル)−6−メチル
ベンゾチアゾ1九] −2,2’、 4.4’−テトラ
ヒドロキシジフェニル−8−トリアジン(505b)]
 0.7 ? ’z NaOH’2 tと共に2−メト
キシエタノール1 ]、 Omlに室温で溶解する。、
ナトリウム−1−クロル−2−ヒドロキシブロビルスル
ボナート13.7fk添加した後、この混合物を100
℃で3時間攪拌し、次に10℃に1時間保持し、そして
沈殿を炉別する。水210m1とエタノール105m1
とに懸濁したのち、この反応混付物を1時間還流させ、
シリカゲルに通じて涙過し、ヤしてO′cまで冷却する
。このあと生成物k濾過し、エタノールに懸濁しセして
単離する。乾燥後式(505)の化合物5.9f、(収
率35%)が得られる。
この生成物の元素分析結果は次の通り。
計算値: C47,14H3,96N 7.85 31
0.78測定値:  47.20  4.22  8.
28. 10.90実施例8(比較例) 下記式 の本発明による化合物を、下記式 の米国特許第3.444.164号による化合物と水中
溶解度ならびにゼラチン水浴液の粘度に与エル影響の点
について比較シタ。
a)上記2種の化合物の20℃における最大溶解度の測
定結果は次の表9に示す通りであった。
表9 b)同等量の式(100)の化合物と式(600)の化
合物とがp117の5%ゼラチン水溶液の粘度に与える
影響は次の表10に示す通りであった。
表10 紫外線吸収剤を添加しない時の使用したゼラチン溶液の
粘度は7.7 pa −se、c″71′あった。
上記表9および10の結果から明らかなごとく、本発明
による化合物は米国特許第3、444.164号vCf
る化合物よりも水溶解度がかなり高くかつまたその添加
に1って惹起されるゼラチン溶液の粘度上昇の程度はは
るかに低い。このような有利な特性を有するので、本発
明による化合物はゼラチン層を含む写真材料の中に使用
するのに%に好適である。
次に本発明による化付物の使用実施例を示す。
実施例9 透明な写真支持体上に下記式(’701 )のマゼンタ
カップラーを含有しているハロゲン化銀乳剤を塗布した
l マゼンタカップラーの含有量はその写真材料を露光し、
通常の発色仕上げをし7?:場合に1.0のマゼンタ濃
度が得られるような量であった。この材料の上に式(,
204)の紫外線吸収剤500〜/m”c含有している
ゼラチン層を塗布した(塗布量5j’/y+z2)。比
較のためゼラチン層内に紫外線吸収剤を含有していない
写真材料も同様に製造した。
両方の写真材料全乾燥雰囲気中と湿潤雰囲気中とで交互
に露光し、材料K 20 KJ/(iの光エネルギーを
照射した。
露光後(C測定されたマゼンタ色素の残存濃度は本発明
による紫外線吸収剤を添加した材料の場合が0.82そ
して紫外線吸収剤を添加してない材料の場合にはわずか
0.20であった。
実施例]O 透明な写真支持体上に下記式(702)のマゼンタ画像
色素をマゼンタ濃度が1.0となる工うな量で含有して
いるゼラチン層を塗布した。
この層の上に重ねて式(204)の紫外線吸収剤5 (
l Omy / 7712−2含有しているゼラチン層
全塗布した(塗布量59/m2)。
比較のため紫外線吸収剤をゼラチン層に含有させない写
真材料も同様に製造した。
両刀の材料全乾燥雰囲気中と湿潤雰囲気中とで交互に露
光して写真材料に80 KJ / crIの光エネルギ
ーを照射した。
露光後に測定したマゼンタ色素の残存濃度にr本発明に
よる紫外線吸収剤全添加した材料の場むが帆86であっ
た。これに対−し紫外線吸収剤を添加しなかった材料の
場合はわずかに0.60であった。
実施例11 下記の構成の銀色素漂白法のための写真材料(A)を製
造した。
黄色素(705)、青感光性の、ヨウ化物を含まな中間
N(ゼラチン) 三酢酸セルロース支持体、白不透明 裏側層、ゼラチン ヨウ化物含有乳剤層はヨウ化銀が2.6モル%、臭化銀
が97.4モル%のハロゲン化銀結晶全含有していた。
画像色素はそれらの反射濃度(Rem1ssionsd
ichte )がそれぞf12.0であり、22μ厚さ
の層の全銀含有量が2.0!i′/ m2 となるよう
な濃度で使用された。
さらにい′−11つの写真材料(B)’を製造した。
この材料(B)の構成は上記の材料(Nと同じであった
が、しかしゼラチン保護層内に式(201)の紫外線吸
収剤が210〜/ m”の量だけ含有された。
これらの材料全露光しセして以下のごとく写真仕上げ処
理した。
■ 銀現像、下記組成の浴内で30Cの温度で3分間: エチレンシアミンテトラ酢酸(ナトリウム塩)47亜硫
酸カリウム          19.92亜硫酸ナト
リウム、無水     38.047’ハイドロキノン
           8.021−フェニル−4−メ
チルピラゾリドン  0.5f炭酸カリウム、無水  
     19.5f重炭酸カリウム        
 13.3r臭化カリウム           3.
57ペンズトリアゾール        1.07エチ
ルセロソルブ        57.4fチオ硫酸ナト
リウム、無水      0.97水        
          1.000m1tで2 水洗、1
時間 3 同時的色素漂白と銀漂白、下記組成の浴内で30℃
の温度で3分間: 硫酸(100%)          41.sym−
ニトロベンゼンスルホン酸(ナトリウム塩)7.5S’
エチルセロソルブ        57.4グ2.3.
6 ” トリメチルキノキサリン   1.12ヨウ化
カリウム          9.01ビス−(β−シ
アノエチル)−スルホエチルホスフィン(ナトリウム塩
)      ’   2.9g’水        
        1ooornlまで4 水洗、1分間 5 定着、下記組成の定着浴内で30℃で°3分間:エ
チレンジアミンテトラ酢酸(ナトリウム塩)31チオ硫
酸アンモニウム、60%     3337重亜硫酸ア
ンモニウム、60%   751アンモニア     
       21m1水             
       1000〃lGで64分間の水洗と材料
の乾燥 この材料AとBの300乃至4500m波長域での写真
感光度を測定したところ下の表Hに示す結果が得られた
表■ 波長(nm)の関数としての比写真感度表から材料Bは
紫外領域では材料AJ:り明らかに感度が低いことが判
る。これに対し、可視領域(400,425nm ) 
Tは感iu変っていない。
この写真感度の測定方法はティー・エイチ・シエイムズ
二[ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プ
ロセスJ  (T、 H,、James。
Tl]e Theory of The photog
rapbic process )の第4版(] 99
77年51o頁に記載されている1゜ 実施例12 実施例11に記載した材料AとBの未露光フィルム金直
流電圧コロナ放電の光で露光した。露光時間は0.1秒
から100秒までの範囲で変化させた。このL′)KM
光さnたフィルムケ実施例11に記載したように仕上げ
処理した。宵スペクトル領域における最大濃度の低下を
側足しそして最大濃度の15%低下を惹起するのに必要
な無光時間を求めた。材料Aでは0.3秒の露光によっ
てすでに青感光層の最大濃度が15%失われたことが分
った。
これに対し材料Bでは同じ最大濃度損失が生じるまでに
3倍長い露光時間がかかる、すなわち0.9秒の露光時
間を要することが分った。
実施例13 ある場合には、写真材料の中に使用された紫外線吸収剤
が十分高い水溶性を有することが要求される。本実施例
はたとえば式(200)の本発明による化合物中の置換
基R+に適当に選択することKよってその必要条件を満
足させる方法を示す。置換分R1の種類KLつで、その
紫外線吸収剤は水溶性になったり、水不溶性になったり
する。従って、材料の7−1[]工中に、紫外線吸収剤
がとどまり得るか、又は洗い出されるかの調節ができる
白色のポリエチレン塗工紙支持体上にゼラチン層を塗布
した。このゼラチン層は支持体表面積1m2当り7.2
1のゼラチン、0.067の硬化剤、2−(N−メチル
モルホリノ)−4−アミノ−6−ヒトロキシートリアジ
ンテトラフルオロホウ酸塩および0.25 yの式(2
00)の紫外線吸収剤全含有しているものである。使用
した紫外線吸収剤は式(200)中のR,が[:記入1
2に示す意味ヲ何するものであった。
衣12 このゼラチン層に適当な測色計(ミノルタ社のCHRO
,MA−METERl) 、)によって色点が定められ
た。露光は昼光に近似した紫外線を含む白色光(標準光
種D65)で行われた。色座標Y1X1yから白色度W
がカラー・リサーチ・アンド・アプリケーション(Co
1or Re5earchand Applicati
on ) 5 (1981年)、 107に従って次式
により計算できる: w=y+soo (0,3138−X)+170.0 
(0,3310−y)4 Q (1,nm以上の減員に
おける紫外線吸収剤の光吸収が無視しうるほど小さくは
ないならは゛、白色度は紫外線吸収剤なしの支持体の白
色度以下に低下するはずであり、そしてその層には黄色
味が生じる。この黄色味は紫外線吸収剤に、′cる可視
光線のスペクトル領域内まで及ぶ吸収が顕著になればな
るほど、ニジ濃厚となる。
上記のポリエチレン塗工紙支持体とは異なり、白色不透
明ポリエステル支持体は螢光増白剤を含有している。こ
の螢光増白剤は入射光の不可視紫外線部分を青スペクト
ル領域の可視光線に変え、これによってヤの李持体の白
さの印象を向上させる。したがって、この増白効果は紫
外線吸収剤の存在によって当然ながら太幅に低減される
。この場合はその紫外線吸収剤の可視スペクトルに領域
の光吸収が無祝しつるほど小さい場合であっても、紫外
線吸1区剤によって白色度は劣化される。
上に述べた2つの効果の測定は、次の表13の第3欄K
まとめて示した測定値から理解されるように被験層が測
定前にいかなる化学的処理も受けていない場合には結果
がまことに明白である。こfLK対しその層が実施例1
1に記載したような銀色素漂白法のための写真処理全骨
けた場合には、紫外線吸収剤はその良好な水中溶解度の
ために部分的に処理浴内へ拡散してし1つ。これによっ
て生じる被験層内の紫外線吸収剤の含量変化はスペクト
ル測光により測定できる。表13の第4欄に示した例の
場合ではこの含量損失は初期含量の94乃至97%であ
る。したがって当然のことながらその層の白色度は紫外
線吸収剤に含1ない層の白色度とほとんど差がない(1
<+ 3、第:う欄参照)。
と 1;3 衣12の層を有し、後から銀色素漂白法による処理を受
けた白色不透明支持体の白色度α’M。
ΔG ==処理時における紫外線吸収剤の損失、パーセ
ント。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 (1)▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、置換基R_1、R_2、R_3のうちの少なく
    とも1つは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ 土類金属、アンモニウムまたはテトラアル キルアンモニウムを意味し、 mは1または2、 R_4は1乃至4個の炭素原子を有するアルキルまたは
    アルコキシ、ヒドロキシまたは 式−COR(Rは1乃至8個の炭素原子を有するアルキ
    ルまたはフェニルを意味する) の基を意味し、 nは0、1、2または3である〕の基を意 味し、そして残りの置換基は互に独立的に アルキル、アリール、または1つのヘテロ 原子を介してトリアジニル基に結合された アルキルまたはアリールまたは複素環を意 味する}の化合物。 2、R_2とR_3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4はメチル、メトキシ、ヒドロキシまたは
    アセチルを意味し、 nは1、2または3、 Mとmは特許請求の範囲第1項に記載した 意味を有する)の基であり、そしてR_1がアルキル、
    アリール、1つのヘテロ原子を 介してトリアジニル基に結合したアルキル またはアリールまたは複素環であることを 特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の 化合物。 3、R_1がアリールまたは1つのヘテロ原子を介して
    トリアジニル基に結合したアリー ルであることを特徴とする特許請求の範囲 第2項に記載の化合物。 4、R_1がフェニル、アニリノまたはN−アルキル−
    アニリノである、なおこれらの基 は場合によつては1乃至12個の炭素原子 を有するアルキルまたはアルコキシ、フェ ニル、ヒドロキシル、ハロゲン、ニトロ、 シアノまたは2乃至9個の炭素原子を有す るカルボアルコキシ、チアゾール、ベンズ チアゾール、オキサゾール、イソオキサゾ ールまたはベンズオキサゾル基によつて置 換されていてもよい、ことを特徴とする特 許請求の範囲第3項に記載の化合物。 5、R_1がフェニルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基であることを特徴とする特許請求の範 囲第4項に記載の化合物。 6、R_2とR_3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Mとmは特許請求の範囲第1項に 記載した意味を有する)の基であり、R_1がR_2お
    よびR_3と同じ意味を有するかまたはR_4がアルキ
    ル、アリール、1つのヘテロ原子を介してトリアジニル
    基に結合さ れたアルキルまたはアリールまたは複素環 であることを特徴とする特許請求の範囲第 1項に記載の化合物。 7、R_2とR_3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Mはナトリウム、カリウム、カル シウム、マグネシウム、アンモニウムまた はアルキル基中にそれぞれ1乃至4個の炭 素原子を有するテトラアルキルアンモニウ ムを意味しそしてmは1または2である) の基であり、R_1がR_2およびR_3と同じ意味を
    有するか、あるいはR_1が1乃至12個の炭素原子を
    有するアルキル、フェニル、あるいは酸素、硫黄または
    イミノまたはア ルキル基中に1乃至4個の炭素原子を有す るアルキルイミノを介してトリアジニル基 に結合された1乃至12個の炭素原子を有 するアルキルまたはフェニル、あるいは複 素環であることを特徴とする特許請求の範 囲第6項に記載の化合物。 8、R_2とR_3が特許請求の範囲第7項に記載した
    意味を有しそしてR_1がR_2およびR_3と同じ意
    味を有するか、あるいはR_1がそれぞれ1乃至12個
    の炭素原子を有す るアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ またはチオアルキル基(これらの基は場合 によつてはヒドロキシ、フェニル、メトキ シ、ピペリジニル、ピロリジニルまたは2 乃至9個の炭素原子を有するカルボアルコ キシによつて置換されていてもよい)であ ることを特徴とする特許請求の範囲第7項 に記載の化合物。 9、R_1が1乃至4個の炭素原子を有するアルキルま
    たはアルコキシ、ベンジルアミノ または8乃至12個の炭素原子を有するチ オアルキルであることを特徴とする特許請 求の範囲第8項に記載の化合物。 10、R_1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ n′は0または1、 Xは酸素、硫黄、イミノまたはアルキル基 中に1乃至4個の炭素原子を有するアル キルイミノ、 Y_1、Y_2、Y_3は互に独立的に水素、場合によ
    つてはヒドロキシル、メトキシま たは2乃至9個の炭素原子を有するカル ボアルコキシによつて置換されていても よい、炭素原子1乃至12個を有するア ルキルまたはアルコキシ、 −CH_2CH(OH)CH_2SO_3K、シクロペ
    ンチル、シクロヘキシル、フェニル、ヒドロキシ ル、スルホ、ハロゲン、アルキル基中に 1乃至4個の炭素原子を有するアルキル −またはジアルキルアミノ、ニトロ、シ アノまたは2乃至4個の炭素原子を有す るカルボアルコキシを意味する)の基で あることを特徴とする特許請求の範囲第 7項に記載の化合物。 場合によつてはヒドロキシル、メトキシま たは2乃至9個の炭素原子を有するカルボ アルコキシによつて置換されていてもよい アルキルまたはアルコキシ基、フェニル、 ヒドロキシル、塩素、ニトロ、シアノまた はCOOCH_3であることを特徴とする特許請求の範
    囲第10項に記載の化合物。 12、R_1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ の複素環であることを特徴とする特許請求 の範囲第7項に記載の化合物。 13、R_1が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ の複素環であることを特徴とする特許請求 の範囲第12項に記載の化合物。 14、R_2とR_3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Mはナトリウムまたはカリウムで あわ、そしてR_1はフェニル、ジフェニル、トリルま
    たはp−クロルフェニルである) の基であることを特徴とする特許請求の範 囲第10項に記載の化合物。 15、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3は特許請求の範囲第1
    項に記載した意味を有する)の化合 物の製造法において、 ( I )2,4,6−トリクロルトリアジンを常法によ
    つてR_1またはR_1とR_2とで置換された誘導体
    に変換し、 (II)そのトリアジニル基に存在する塩素原子をスルホ
    ランの存在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4とnは特許請求の範囲第1項に記載した
    意味を有する)のレゾルシン誘 導体と反応させ、得られた化合物を単離し そして次にこれを (III)有機溶剤中、塩基の存在で、式 (2)▲数式、化学式、表等があります▼または (3)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Mとmは特許請求の範囲第1項に 記載した意味を有する)の化合物と反応さ せそしてその生成物を単離することを特徴 とする方法。 16、段階(II)において石油エーテルとスルホランの
    0:1乃至10:1の容量比の溶剤 混合物を使用しそして反応温度を10乃至 95℃とすることを特徴とする特許請求の 範囲第15項に記載の方法。 17、段階(III)において塩基としてアルカリ金属水
    酸化物またはテトラアルキルアンモニ ウム水酸化物を使用しそして反応温度を20乃至150
    ℃とすることを特徴とする特許 請求の範囲第15項に記載の方法。 18、反応温度を20乃至100℃とすることを特徴と
    する特許請求の範囲第17項に記 載の方法。 19、有機材料中の紫外線吸収剤として特許請求の範囲
    第1項に記載の化合物を使用する 用法。 20、有機材料が写真材料であることを特徴とする特許
    請求の範囲第19項に記載の用法。 21、該写真材料がその少なくとも1つの層または支持
    体内に該紫外線吸収剤を含有する ことを特徴とする特許請求の範囲第20項 に記載の用法。
JP13583985A 1984-06-22 1985-06-21 ヒドロキシフエニルトリアジンとその製造方法ならびに紫外線吸収剤としてのその使用 Granted JPS6124577A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH302884 1984-06-22
CH3028/84-4 1984-06-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6124577A true JPS6124577A (ja) 1986-02-03
JPH0517226B2 JPH0517226B2 (ja) 1993-03-08

Family

ID=4247017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13583985A Granted JPS6124577A (ja) 1984-06-22 1985-06-21 ヒドロキシフエニルトリアジンとその製造方法ならびに紫外線吸収剤としてのその使用

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0165608B1 (ja)
JP (1) JPS6124577A (ja)
DE (1) DE3581002D1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000063366A (ja) * 1998-04-09 2000-02-29 Ciba Specialty Chem Holding Inc ジレゾルシニル―アルコキシ―および―アリ―ルオキシ―s―トリアジン
US6042092A (en) * 1996-12-06 2000-03-28 Inoac Corporation Bellows cylinder
JP2007186516A (ja) * 1994-07-23 2007-07-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 紫外線吸収特性を有する化合物
WO2009148040A1 (ja) * 2008-06-04 2009-12-10 株式会社Adeka 2,4,6-トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物の製造方法
JP2009292753A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Adeka Corp 2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン化合物の製造方法
JP2011105859A (ja) * 2009-11-18 2011-06-02 Seiko Epson Corp インク組成物
WO2012066923A1 (ja) * 2010-11-19 2012-05-24 富士フイルム株式会社 太陽電池封止材及びそれを用いた太陽電池モジュール
WO2016080259A1 (ja) * 2014-11-17 2016-05-26 株式会社Adeka 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物
KR20170086460A (ko) * 2014-11-17 2017-07-26 가부시키가이샤 아데카 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4775386A (en) * 1986-05-05 1988-10-04 Ciba-Geigy Corporation Process for photochemical stabilization of undyed and dyed polyamide fibre material and blends thereof with other fibres: copper complex and light stabilizer treatment
US4826978A (en) * 1987-12-29 1989-05-02 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
AU621082B2 (en) * 1988-02-08 1992-03-05 Ciba-Geigy Ag Tetramethylpiperidino-s-triazines
US5096781A (en) * 1988-12-19 1992-03-17 Ciba-Geigy Corporation Water-soluble compounds as light stabilizers
DE59008517D1 (de) * 1989-08-25 1995-03-30 Ciba Geigy Ag Lichtstabilisierte Tinten.
DE59108923D1 (de) * 1990-09-13 1998-02-19 Ciba Geigy Ag Photochemisches Stabilisieren von Wolle
DE4112971A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Sulfonsaeureester von 2,4,6-tris-(2-hydroxy-ethoxy)-(1,3,5)triazin, ein damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und aufzeichnungsmaterial
DE59203628D1 (de) * 1991-05-02 1995-10-19 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Verbesserung der Lichtechtheit von Leder.
FR2717809B1 (fr) * 1994-03-24 1997-09-19 Sandoz Sa Dérivés de la s-triazine, leur préparation et leur utilisation comme absorbeurs UV.
US5556973A (en) 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
US6255483B1 (en) 1995-03-15 2001-07-03 Ciba Specialty Chemicals Corporation Biphenyl-substituted triazines
MX9706951A (es) * 1995-03-15 1997-11-29 Ciba Sc Holding Ag Triazinas substituidas con bifenilo como estabilizantes para luz.
US5585422A (en) * 1995-09-20 1996-12-17 Ciba-Geigy Corporation Hybrid s-triazine light stabilizers substituted by benzotriazole or benzophenone moieties and compositions stabilized therewith
DE19543730A1 (de) * 1995-11-23 1997-05-28 Ciba Geigy Ag Bis-Resorcinyl-Triazine
US5726309A (en) * 1996-08-27 1998-03-10 Ciba Specialty Chemicals Corporation Tris-aryls-triazines substituted with biphenylyl groups
BE1012529A3 (fr) * 1996-09-13 2000-12-05 Ciba Sc Holding Ag Melange de triaryltriazines et son utilisation pour la stabilisation de materiaux organiques.
GB2319523B (en) 1996-11-20 2000-11-08 Ciba Sc Holding Ag Hydroxyphenyltriazines
FR2757163B1 (fr) * 1996-12-13 1999-02-05 Oreal Nouveaux derives insolubles de s-triazine, leur procede de preparation, compositions les contenant et leurs utilisations
EP0878469B1 (de) * 1997-05-16 2004-10-27 Ciba SC Holding AG Resorcinyl-Triazine
TW432055B (en) * 1997-05-16 2001-05-01 Ciba Sc Holding Ag Resorcinyl-triazines, their preparation process and a cosmetic composition containing them
DE19735901A1 (de) * 1997-08-19 1999-02-25 Beiersdorf Ag Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzmittel, welche als Festkörper vorliegende UV-Filtersubstanzen und polymere UV-Filtersubstanzen auf Siliconbasis enthalten
DE19735900A1 (de) * 1997-08-19 1999-02-25 Beiersdorf Ag Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzmittel, welche gelöste Triazinderivate und polymere UV-Filtersubstanzen auf Siliconbasis enthalten
DE69941073D1 (de) 1998-03-02 2009-08-20 Ciba Holding Inc Verfahren zur Herstellung von 2,4-Diaryl-6-o-hydroxyphenyl-1,3,5-triazin Derivaten in Anwesenheit eines Protonensäure-Katalysators
TWI259182B (en) * 1998-11-17 2006-08-01 Cytec Tech Corp Process for preparing triazines using a combination of Lewis acids with reaction promoters
ES2264624B1 (es) * 2004-12-16 2007-11-01 Isdin, S.A. Nuevos derivados de triazina, asi como procedimientos para su obtencion y su utilizacion como agentes protectores contra la radiacion uv.
ES2272164B1 (es) * 2005-06-03 2008-04-01 Isdin, S.A. Nuevos derivados de pirroliltriazina asi como procedimientos para su obtencion y su utilizacion como agentes protectores contra la radiacionuv.
WO2008067928A1 (en) * 2006-12-04 2008-06-12 Isdin S.A. Uv absorbing compositions containing a pyrrolyltriazine
JP5448853B2 (ja) 2007-03-15 2014-03-19 データレース リミテッド レゾルシニルトリアジン誘導体を主成分とする感熱性コーティング組成物
ATE538185T1 (de) 2007-08-22 2012-01-15 Datalase Ltd Laserempfindliche beschichtungszusammensetzung
US8900414B2 (en) 2007-11-07 2014-12-02 Datalase, Ltd. Fiber products
WO2010049281A1 (en) 2008-10-27 2010-05-06 Basf Se Aqueous laser-sensitive composition for marking substrates
CN102292397B (zh) 2009-01-19 2014-12-10 巴斯夫欧洲公司 有机黑色颜料及其制备
WO2021064116A1 (en) 2019-10-02 2021-04-08 Basf Se Compositions with polymeric or oligomeric hydroxy phenyl triazine uv filter
CN111072580B (zh) * 2019-12-26 2021-04-16 杭州天马思宏数码科技有限公司 反应型水溶性耐晒牢度增进剂及其制备方法
CN118084811A (zh) * 2024-04-23 2024-05-28 安庆科思化学有限公司 一种防晒剂中间体ret的绿色环保制备方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3278534A (en) * 1964-07-17 1966-10-11 Ciba Ltd New hydroxyphenyl-1, 3, 5-triazines
CH478589A (de) * 1965-09-24 1969-09-30 Ciba Geigy Verwendung von Aryl-1,3,5-triazinen als Stabilisierungsmittel gegen Ultraviolettstrahlung und Hitzeeinwirkung ausserhalb der Textilindustrie
GB1216389A (en) * 1967-09-13 1970-12-23 Konishiroku Photo Ind Improvements relating to photographic coating compositions

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007186516A (ja) * 1994-07-23 2007-07-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 紫外線吸収特性を有する化合物
US6042092A (en) * 1996-12-06 2000-03-28 Inoac Corporation Bellows cylinder
JP2000063366A (ja) * 1998-04-09 2000-02-29 Ciba Specialty Chem Holding Inc ジレゾルシニル―アルコキシ―および―アリ―ルオキシ―s―トリアジン
US8716474B2 (en) 2008-06-04 2014-05-06 Adeka Corporation Method for producing 2,4,6-tris(hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compound
WO2009148040A1 (ja) * 2008-06-04 2009-12-10 株式会社Adeka 2,4,6-トリス(ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物の製造方法
JP2009292753A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Adeka Corp 2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン化合物の製造方法
KR20110026432A (ko) * 2008-06-04 2011-03-15 가부시키가이샤 아데카 2,4,6-트리스(하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 화합물의 제조 방법
JP2011105859A (ja) * 2009-11-18 2011-06-02 Seiko Epson Corp インク組成物
WO2012066923A1 (ja) * 2010-11-19 2012-05-24 富士フイルム株式会社 太陽電池封止材及びそれを用いた太陽電池モジュール
WO2016080259A1 (ja) * 2014-11-17 2016-05-26 株式会社Adeka 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物
KR20170086460A (ko) * 2014-11-17 2017-07-26 가부시키가이샤 아데카 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물
US10144814B2 (en) 2014-11-17 2018-12-04 Adeka Corporation Ultraviolet absorber and synthetic resin composition
TWI665191B (zh) * 2014-11-17 2019-07-11 日商艾迪科股份有限公司 紫外線吸收劑及合成樹脂組合物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0165608A2 (de) 1985-12-27
JPH0517226B2 (ja) 1993-03-08
DE3581002D1 (de) 1991-02-07
EP0165608B1 (de) 1991-01-02
EP0165608A3 (en) 1986-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6124577A (ja) ヒドロキシフエニルトリアジンとその製造方法ならびに紫外線吸収剤としてのその使用
US3843371A (en) Photographic material stabilised against the deleterious effects of ultraviolet radiation
US3705896A (en) Pyrazolo(3,2-c)-s-triazoles and process for the manufacture thereof
JP2568499B2 (ja) ホトクロミック物質
US2322015A (en) Dye and photographic emulsion containing the same
ITMI952053A1 (it) Bis-resorciniltriazine
US2619419A (en) Production of color photographic images
JPH0128938B2 (ja)
US3471293A (en) Antihalation and filter dyes for photographic materials
US2126852A (en) Carbocyanine dyestuffs and a process of preparing them
US4661437A (en) Photographic material with heterocylic azo dye for the silver dye bleach process
JPS59214030A (ja) ハロゲン化銀写真乳剤
CA1105029A (en) Thiacyanine betaine blue sensitizing dyes
US3796576A (en) Photographic material comprising a quinoxaline as dye bleaching catalyst
DE2259746A1 (de) Neues oxonol-farbstoffe enthaltendes photographisches material
US2798067A (en) 2-imino-4-thiazolidones and preparation
US3044875A (en) Cyanine dyes derived from thienylbenzoxazoles and silver halide emulsions sensitized therewith
US3485632A (en) Photographic material containing antihalation or filter dye layer
KR100689260B1 (ko) 항산화성 스틸벤계 형광증백제 및 이의 합성방법
US3630738A (en) Brightening agents
US2484503A (en) Polymethin dyes and intermediates
JPH03192157A (ja) メチン化合物
US2409189A (en) Merocyanine dyes
US4307017A (en) Xanthene compounds
US4310673A (en) Xanthene compounds