JPS6124107A - エナメル撚線製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はエナメル撚線製造装置に関するものである。

［従来の技術］ 近年、高周波を利用する機器は電磁調理器をはじめとし
て大幅に増加しつつある。この場合、コイルは高周波に
よる渦電流損を減少させるため、エナメル線の撚線が一
般的に使用されるが、現在は工程数が多いことが主因と
なって非常に高価なものとなっている。

即ち、従来、例えば０．５ｍｍφのエナメル線の２０本
撚りのエナメル撚線を製造する場合は、第７図に示ずよ
うに、例えば８＃φの荒引線１を第１の伸線装置２で５
．７履φに伸線してスプール３に巻取り、満巻になった
スプール３を外して、第２の伸線装置４にセットして芯
線５を１．６ｓφに伸線し、スプール６に巻取り、満巻
になったスプール６を外して第３の伸線装置７にセット
して芯線５を０．５＃φに伸線し、スプール８に巻取っ
て要求のサイズの芯線５を得る。次に、このようにして
得られた２０個のスプール８をア二一ラ９のザブライ部
にセットし、アニーラ９で各芯線５を焼鈍し、次いで焼
鈍した各芯線５を連続的にワニス塗布装置１０に送って
ワニスを塗布した後、焼付装置１１で焼付けを行ってエ
ナメル線１２を得、各エナメル線を巻取装置１３で各ボ
ビン１４に巻取る。得られた２０個のボビン１４を撚線
１１１５のサプライ部にセットし、撚合せてエナメル撚
線１６を得、これをドラム１７に巻取っていた。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、このようにしてエナメル撚線１６を製造
するのでは、工程数が非常に多く、作業人員も多く必要
とし、コストアップをまねく欠点があった。また、従来
の製造の仕方では各工程毎に芯線５をスプール取りする
ため、５０〜２００幻単位で芯線５のジヨイントが必要
になり、工数増に加えて品質的にも低下する欠点があっ
た。更に、従来の製造の仕方では、芯線スプール３．Ｍ
。

８やエナメル線ボビン１４の運搬が必要で、工数増に加
え、ハンドリング中に製品に傷等がつき易く、この面で
も品質低下をまねく欠点があった。

これらの欠点を避けるためには、各装置を１つのライン
上に配置して、伸線゛、ワニス塗布、焼付。

撚合せを連続した工程で行うことが考えられているが、
伸線工程から撚線工程に達するまでには各芯線の伸びの
相違等による張力のバラツキが生ずるので、撚線状態が
悪くなり、連続した工程でのエナメル撚線の製造はでき
ないのが現状である。

本発明の目的は、撚線工程に達するまでの各エナメル線
の張力のバラツキの問題を解決してエナメル撚線を伸線
から撚線まで連続して行うことができるエナメル撚線製
造装置を提供するにある。

［問題点を解決するための手段］ 本発明に係るエナメル撚線製造装置は、複数の芯線を個
々に伸線して引取りキャプスタンで引取りつつ送り出す
伸線装置と、前記伸線装置から送り出される各芯線にワ
ニスを塗布するワニス塗布装置と、前記ワニス塗布装置
から送り出されるワニス付の各芯線の焼付を行う焼付装
置と、前記焼付装置から送り出される各エナメル線の個
々の張力を検出する複数の張力個別検出器と、前記各張
力検出器のうちの何れかが適正張力より大きいか或は小
さい張力を検出したときその張力個別検出器で検出した
エナメル線の張力を逆に小さく或は大きくするように制
御する張力個別制御装置と、前記各エナメル線の一括蓄
線を行うアキュームレータと、前記各エナメル線の撚合
せを行う撚線機とから成っていることを特徴としている
。

［発明の効果］ このようなエナメル撚線製造装置によれば、各工程を連
続させてエナメル撚線の製造が行える。

このように各工程を連続させても、撚線機に入る各エナ
メル線の張力はそれぞれの張力個別検出器で検出されて
いて、いずれかの張力個別検出器が許容張力より大きい
或は小さい張力を検出したと。

きその張力個別検出器で検出したエナメル線の張力を逆
に小さく或は大きくするように張力個別制御装置で制御
するので、その張力制御の状態が伸線装置の引取りキャ
プスタンに伝わり、張力個別制御Ｉ装置が張力を小さく
するように制御した際にはそのエナメル線がゆるみ、引
取りキャプスタンに対するエナメル線の巻付き状態がゆ
るんで該エナメル線の送り速度が遅くなるように制御さ
れ、張力個別制御装置が張力を大きくするように制御し
た際にはそのエナメル線が張り、引取りキャプスタンに
対するエナメル線の巻付き状態が締まって該エナメル線
の送り速度が速くなるように制御され、各エナメル線の
張力が揃うように制御される。従って、前後の工程での
線速の違いを容易に修正して連続した工程でエナメル撚
線の製造を行うことができる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を第１図乃至第５図を参照して詳
細に説明する。図示のように本実施例のエナメル撚線製
造装置においては、荒引線１は伸線装置１８で伸線され
、次にアニーラ１９で焼鈍され、得られた芯線５は巻取
りスタンド２０にコイル取りされる。このようにして芯
線５をコイル取りした複数の巻取りスタンド２０が多頭
伸線装置（インライン伸線装置）２１のサプライ部にセ
ツトされて各芯線５が再び伸線される。多頭伸線装置２
１の出口側においては、各芯線５は第２図に示づ−よう
な引取りキャプスタン２２の外周に複数回それぞれ巻付
けられ、該引取りキャプスタン２２の回転により引取ら
れて送り出されるようになっている。伸線装置２１から
送り出された各芯線５はワニス塗布装置１０に送り込ま
れて各表面にワニスが塗布され、次いで焼付装置１１に
送り込まれてワニスのｍ　（ｄけが行われ、エナメル線
１２が得られる。各エナメル線１２はそれぞれの張力個
別検出器２３と張力個別制御装置２４とに送り込まれる
。

各張力個別検出器２３は、エナメル線１２の上に乗って
該エナメル線１２に常時接触しているようにアーム２５
を介して付勢されているダンサ−シーブ２６と、エナメ
ル線１２の張力の変化によるダンサ−シーブ２６の位置
の変化をアーム２５を介して検出して電気信号を出力す
る検出器本体２７とから成っている。即ち、各張力個別
検出器２３はエナメル線１２が適正張力にあるか否がを
検出して、その適正張力から外れた場合、張力が大きく
なる方向に外れたか或は小さくなる方向に外れたかによ
り極性が異なり且つ外れた値に応じて値の異なるシーブ
移動信号を出力するようになっている。

張力個別制御装置２４は、各エナメル線１２が各テーパ
面に掛は渡される複数のテーパキャプスタン２８の群か
らなるキャプスタンユニット２９を備えている。各テー
パキャプスタン２８は一体化されていて一定の速度で回
転駆動され、各エナメル線１２を焼付装＠１１から引取
りつつその張力の個別調整が行えるようになっている。

各テーパキャプスタン２８上の各テーパ面におけるエナ
メル線１２の位置を制御するため各テーパキャプスタン
２８に隣接して各エナメル線１２には移動シーブ３０が
それぞれ係合されている。各移動シーブ３０はそれぞれ
のシーブ移動アーム３１に回転自在に支持され、各シー
ブ移動アーム３１にはラック３２がそれぞれ刻設されて
いる。各ラック３２にはビニオン３３がそれぞれ噛み合
わされ、各ピニオン３３はそれぞれシーブ移動モータ３
４により個別に回転駆動されるようになっている。

各シーブ移動モータ３４は、対応する張力個別検出器２
３からの検出信号により張力を適正張力に近づけるため
の正逆の回転駆動が行われるようになっている。

張力個別制御装置２４で張力の制御を受は線速が揃えら
れた各エナメル線１２は共通のアキュームレータ３５を
経て撚線機３６１．：、供給され、撚合わされてエナメ
ル撚線１６となり、巻取ドラム３７に巻取られる。

このようなエナメル撚線製造装置においては、焼付装置
１１を出た各エナメル線１２の張力はそれぞれ張り個別
検出器２３で検出される。焼イ１装置１１を出１ｃ段階
でいずれかのエナメル線１２の。

張力が適正張力より大きいか或は小さいときには、その
エナメル線１２の張力が対応する張力個別検出器２３で
検出され、その検出信号が対応するシーブ移動モータ３
４に与えられる。検出信号が入力されたシーブ移動モー
タ３４は対応するエナメル線１２の張力を適正張力に戻
す方向に入力信号の大きさに応じて回転駆動される。モ
ータ３４の回転によりごニオン３３が回され、これによ
りラック３２を介してシーブ移動アーム３１が移動され
る。このシーブ移動アーム３１の移動により該アーム３
１に支持されている移動シーブ３０が、対応するエナメ
ル、線１２の張力を適正張力に近づりる方向に移動され
、これにより対応するテーパキャプスタン２８のテーパ
面に接しているエナメル線１２が適正張力に近づく方向
にそのテーパ面上の位置が変更される。即ち、エナメル
線１２の張力が適正張力より大きい場合には、テーパキ
ャプスタン２８のテーパ面上のエナメル線１２の位置が
テーパ面の小径方向にその時の張力の大きさに応じて移
動される。また、エナメル線１２の張力が適正張力より
小さい場合には、テーパキャプスタン２８のテーパ面上
のエナメル線１２の位置がテーパ面の大径方向にその時
の張力の大きさに、応じて移動される。エナメル線１２
がテーパ面の小径方向に移動されると、該エナメル線１
２の張力が弛み、その状態が多頭伸線装置２１側に伝わ
り、引取りキャプスタン２２に対する該エナメル線１２
の巻付ぎ状態が弛んで該エナメル線１２の送り速度が遅
くなり、適正張力に近づくように制御がなされる。一方
、エナメル線１２がテーパ面の大径方向に移動されると
、該エナメル線１２の張力が強くなり、その状態が多頭
伸線装置２１側に伝わり、引取りキャプスタン２２に対
する該エナメル線１２の巻付き状態が締まって該エナメ
ル線１２の送り速度が速くなり、適正張力に近づくよう
に制御がなされる。従って、撚線機３６では各エナメル
線１２をそれぞれ適正張力で撚合せることができる。

張力個別制御袋’Ｉｊ　２４は、張力個別検出器２３の
アーム２５の動きを利用して第６図に示すように機械的
に構成することもできる。即ち、この装置２４では、ア
ーム２５と移動シーブ３０とをワイヤー３８で結び、ワ
イヤー３８の途中には動滑車３つを掛け、この動滑車３
９にはウェイ］〜４０を下げてダンサ−シーブ２６がエ
ナメル線１２を常時押し下げる方向に付勢しておき、ま
た移動シーブ３０は反対方向にスプリング４１で付勢し
ておき、移動シーブ３０がダンザーシーブ２６の上下の
動きにつれてガイドレール４２に沿って左右に移動する
構造になっている。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明に係るエナメル撚線製造装置
は、連続した工程でエナメル撚線の製造を行うので、芯
線のジヨイント数が少なくなり、エナメル線の品質の向
上を図ることができると共に工数が減り、コストの低減
も図ることができる。

特に本発明では、このように連続工程でエナメル撚線を
製造する際の最大の障害である撚線工程の手前の段階で
の各エナメル線の伸び等による張力のバラツキを張力個
別検出器で個別に検出し、その検出信号に基いて張力個
別制御装置によってその張力が逆になるように制御し、
その制御結果が伸線装酋の引取りキャプスタンに対する
エナメル線の巻付き状態の変化となって現われ該エナメ
ル線の送り速度を制御し、該エナメル線を適正張力に近
づけるので、撚線機では各エナメル線を適正張力に揃え
っつ撚線作業を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るエナメル撚線製造装置の一実施例
の斜視図、第２図は本実施例で用いている引取りキャプ
スタンの正面図、第３図は本実施例で用いている張力個
別検出器と張力個別制御装置の側面図、第４図及び第５
図は本実施例で用いている張力個別制御装置の斜視図及
び正面図、第６図は張力個別制御装置の伯の例を示す概
略構成図、第７図は従来のエナメル撚線製造装置の各工
程図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 複数の芯線を個々に伸線して引取りキャプスタンで引取
   りつつ送り出す伸線装置と、前記伸線装置から送り出さ
   れる各芯線にワニスを塗布するワニス塗布装置と、前記
   ワニス塗布装置から送り出されるワニス付の各芯線の焼
   付を行う焼付装置と、前記焼付装置から送り出される各
   エナメル線の個々の張力を検出する複数の張力個別検出
   器と、前記各張力個別検出器のうちの何れかが適正張力
   より大きいか或は小さい張力を検出したときその張力個
   別検出器で検出したエナメル線の張力を逆に小さく或は
   大きくするように制御する張力個別制御装置と、前記各
   エナメル線の一括蓄線を行うアキュームレータと、前記
   各エナメル線の撚合せを行う撚線機とから成っているこ
   とを特徴とするエナメル撚線製造装置。