JPS61236607A - 活性ケイ素粉の処理方法 - Google Patents
活性ケイ素粉の処理方法Info
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- JPS61236607A JPS61236607A JP60075140A JP7514085A JPS61236607A JP S61236607 A JPS61236607 A JP S61236607A JP 60075140 A JP60075140 A JP 60075140A JP 7514085 A JP7514085 A JP 7514085A JP S61236607 A JPS61236607 A JP S61236607A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
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- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
- C01B33/10742—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
この発明は、金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化
水素とから、オルガノクロルシランもしくはクロルシラ
ンを合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉
の処理方法に関する。
水素とから、オルガノクロルシランもしくはクロルシラ
ンを合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉
の処理方法に関する。
[従来の技術1
金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化水素とから、
オルガノクロルシランもしくはクロルシランを合成する
反応は工業的に広く行なわれている。その際、金属ケイ
素を微粉末化してから反応させるとか、触媒を使用して
反応させるなど、種々の試みがなされているか、金属ケ
イ素を全部反応させることは不可能であり、原料の金属
ケイ素の一部が反応残渣として残ることは避けがたい。
オルガノクロルシランもしくはクロルシランを合成する
反応は工業的に広く行なわれている。その際、金属ケイ
素を微粉末化してから反応させるとか、触媒を使用して
反応させるなど、種々の試みがなされているか、金属ケ
イ素を全部反応させることは不可能であり、原料の金属
ケイ素の一部が反応残渣として残ることは避けがたい。
この反応残渣であるケイ素粉は反応活性か゛残っていて
、空気中で自然発火しやすく、また水と反応して水素を
発生して危険で・あるという問題がある。
、空気中で自然発火しやすく、また水と反応して水素を
発生して危険で・あるという問題がある。
また、粉状であるため廃棄処分や有効利用のため他所に
輸送する際の取り扱いか難しいという問題がある。
輸送する際の取り扱いか難しいという問題がある。
しかし、従来、該活性ケイ素粉の反応活性を低下させた
り、取り扱いを容易にする方法は提案さ゛れていない。
り、取り扱いを容易にする方法は提案さ゛れていない。
[発明が解決しようとする問題点1
この発明は金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化水
素とから、オルガノクロルシランもしくはタロルシラン
を合成における反応残渣である活性ケイ素粉の反応活性
を実用上安全な程度までに低下させるとともに、取り扱
いを容易(こすることを目的とする。
素とから、オルガノクロルシランもしくはタロルシラン
を合成における反応残渣である活性ケイ素粉の反応活性
を実用上安全な程度までに低下させるとともに、取り扱
いを容易(こすることを目的とする。
[問題点を解決するための手段1
この目的は、金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化
水素とからオルガノクロルシランもしくはクロルシラン
を合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉に
水を添加して造粒することによって達成される。
水素とからオルガノクロルシランもしくはクロルシラン
を合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉に
水を添加して造粒することによって達成される。
これを説明するに、金属ケイ素と炭化水素塩化物もしく
は塩化水素とからオルガノクロルシランもしくはタロル
シランを合成する反応の代表例としては、金属ケイ素と
メチルクロライドとからメチルクロルシラン類、例えば
メチルトリクロルシラン、ツメチルジクロルシラン、ト
リメチルクロルシランまたはメチルハイドロジエンジク
ロルシランを合成する反応や金属ケイ素とフェニルクロ
ライドとから7エニルクロルシラン類、例えば、フェニ
ルトリクロルシラン、ノフェニルノクロルシランまたは
フェニルハイドロンエンシ゛クロルシランを合成する反
応、金属ケイ素とエチルクロライドとからエチルクロル
シラン類を合成する反応、金属ケイ素と塩化水素とから
テトラクロルシランまたはハイドロジエントリクロルシ
ランを合成する反応かある。
は塩化水素とからオルガノクロルシランもしくはタロル
シランを合成する反応の代表例としては、金属ケイ素と
メチルクロライドとからメチルクロルシラン類、例えば
メチルトリクロルシラン、ツメチルジクロルシラン、ト
リメチルクロルシランまたはメチルハイドロジエンジク
ロルシランを合成する反応や金属ケイ素とフェニルクロ
ライドとから7エニルクロルシラン類、例えば、フェニ
ルトリクロルシラン、ノフェニルノクロルシランまたは
フェニルハイドロンエンシ゛クロルシランを合成する反
応、金属ケイ素とエチルクロライドとからエチルクロル
シラン類を合成する反応、金属ケイ素と塩化水素とから
テトラクロルシランまたはハイドロジエントリクロルシ
ランを合成する反応かある。
かかる反応においては金属ケイ素を微粉末化して反応に
供するのが一般的であり、金属ケイ素粉と炭化水素塩化
物もしくは塩化水素を流動床で反応させるのが一般的で
ある。
供するのが一般的であり、金属ケイ素粉と炭化水素塩化
物もしくは塩化水素を流動床で反応させるのが一般的で
ある。
その際、銅粉などの触媒を添加するのが一般的である。
金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化水素とを反応
させ、生成したオルガノクロルシラン類もしくはクロル
シラン類を留去すると活性ケイ素粉か残渣として得られ
る。 ゛反応残渣の比率は原料や目的の種類
、反応条件などによって異なる。反応残渣である活性ケ
イ素粉の粒径は種々様々であるが1〜200μ■が多い
。
させ、生成したオルガノクロルシラン類もしくはクロル
シラン類を留去すると活性ケイ素粉か残渣として得られ
る。 ゛反応残渣の比率は原料や目的の種類
、反応条件などによって異なる。反応残渣である活性ケ
イ素粉の粒径は種々様々であるが1〜200μ■が多い
。
この反応残渣の活性ケイ素粉に水を添加して造粒+るに
は、まず、活性ケイ素を造粒機内に投入し、攪拌しつつ
水を投入することが好ましい。このために使用する好ま
しい造粉機としては転勤型造粒機や混合型造粒機がある
。
は、まず、活性ケイ素を造粒機内に投入し、攪拌しつつ
水を投入することが好ましい。このために使用する好ま
しい造粉機としては転勤型造粒機や混合型造粒機がある
。
水の添加量は活性ケイ素粉の反応活性や粒径により異な
るので一律に規定できないが、活性=3− ケイ素粉の5〜50重量%が好ましく、15〜40重量
%がより好ましい。あまり少ないと活性ケイ素粉と水と
の親和が不十分で造粒ができず、あまり多すぎるとペー
スト状ないしスラリー状となりやはり造粒できないから
である。
るので一律に規定できないが、活性=3− ケイ素粉の5〜50重量%が好ましく、15〜40重量
%がより好ましい。あまり少ないと活性ケイ素粉と水と
の親和が不十分で造粒ができず、あまり多すぎるとペー
スト状ないしスラリー状となりやはり造粒できないから
である。
活性ケイ素と水とを混合する際、窒素ガス、ヘリウムガ
スなどの不活性雰囲気中で混合することが発火防止上好
ましい。なお、水の池に不活性な黒磯粉体、例えば、炭
酸カルシウム、消石灰、酸化マグネシウム、タルク、粘
土などを添加してもよい。
スなどの不活性雰囲気中で混合することが発火防止上好
ましい。なお、水の池に不活性な黒磯粉体、例えば、炭
酸カルシウム、消石灰、酸化マグネシウム、タルク、粘
土などを添加してもよい。
1作用1
水は活性ケイ素粉と発熱反応して活性ケイ素を酸化し、
二酸化ケイ素に変える作用をする。
二酸化ケイ素に変える作用をする。
活性ケイ素粉が二酸化ケイ素に変化することにより不活
性となる。
性となる。
水は、更には、活性ケイ素粉が造粒される際のバインダ
ーとなり、造粒を促進するとともに、その反応熱に上り
造粒物を乾燥させ、粒子を強固なものとする作用をする
。
ーとなり、造粒を促進するとともに、その反応熱に上り
造粒物を乾燥させ、粒子を強固なものとする作用をする
。
[実施例]
以下に本発明の実施例を示す。
一4=
実施例1
パンの直径1000mmの転勤型造粒機を使用し、金属
ケイ素粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン
類を直接に合成する反応の残渣である活性ケイ素粉の造
粒を行なった。
ケイ素粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン
類を直接に合成する反応の残渣である活性ケイ素粉の造
粒を行なった。
まず、該造粉機のパン内に活性ケイ素粉3゜0kgを入
れた状態で傾斜角45°にセットしたパンを20r、p
、mで回転させながら水を少しづつ連続的に添加した。
れた状態で傾斜角45°にセットしたパンを20r、p
、mで回転させながら水を少しづつ連続的に添加した。
この間活性ケイ素粉と水との反応による発熱が観察され
た。造粒機内には窒素ガスを流し続けた。1分かけて計
1゜0kgの水を添加したところ直径2〜50mm程度
の球形の粒子が得られた。造粒前の活性ケイ素の発火点
は約100°Cであるのに対し造粒直後のこの粒子の発
火点は約220°Cであった。この粒子は相互にくっつ
かず、2I11の高さからコンクリート床に落としても
壊れなかった。
た。造粒機内には窒素ガスを流し続けた。1分かけて計
1゜0kgの水を添加したところ直径2〜50mm程度
の球形の粒子が得られた。造粒前の活性ケイ素の発火点
は約100°Cであるのに対し造粒直後のこの粒子の発
火点は約220°Cであった。この粒子は相互にくっつ
かず、2I11の高さからコンクリート床に落としても
壊れなかった。
また、この粒子の主成分は活性ケイ素と二酸化ケイ素で
あった。
あった。
実施例2
金属ケイ素粉と塩化水素とからタロルシラン類を合成す
る反応の残渣である活性ケイ素粉の造粒を実施例1と同
様の条件で行ない、同様の結果を得た。
る反応の残渣である活性ケイ素粉の造粒を実施例1と同
様の条件で行ない、同様の結果を得た。
実施例3
槽の内径350mmの混合型造粒機を使用し金属ケイ素
粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン類を直
接に合成する反応の残渣である活性ケイ素粉の造粒を行
なった。
粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン類を直
接に合成する反応の残渣である活性ケイ素粉の造粒を行
なった。
該造粉機の槽内に活性ケイ素粉5.0kgを入れた状態
で槽内の回転羽根を2110 r、+1.Illで回転
させながら、槽内に窒素ガスを流しつつ水1.3kgを
添加した。その後も羽根の回転を続けたところ5分後に
直径が1〜4. +n +n程度の球形の粒子か゛得ら
れた。この間活性ケイ素粉と水との反応1こよる発熱が
観察された。造粒前の活性ケイ素粉の発火点は約100
°Cであるのに対し、造粒直後の粒子の発火点は約25
0 ’Cであった。
で槽内の回転羽根を2110 r、+1.Illで回転
させながら、槽内に窒素ガスを流しつつ水1.3kgを
添加した。その後も羽根の回転を続けたところ5分後に
直径が1〜4. +n +n程度の球形の粒子か゛得ら
れた。この間活性ケイ素粉と水との反応1こよる発熱が
観察された。造粒前の活性ケイ素粉の発火点は約100
°Cであるのに対し、造粒直後の粒子の発火点は約25
0 ’Cであった。
この粒子は相互にくっつかず、2 +nの高さからコン
クリート床に落としても壊れなかった。
クリート床に落としても壊れなかった。
また、この粒子の主成分は活性ケイ素と二酸化ケイ素で
あった。
あった。
実施例4
槽の内径1200m+nの混合型造粒機を使用し、金属
ケイ素粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン
類を直接に合成する残渣である活灰粉20kgを入れた
状態で槽内の回転羽根を7Or、p、mで回転させなか
ら、槽内に窒素ガスを流しつつ水85kgを添加した。
ケイ素粉とメチルクロライドとからメチルクロルシラン
類を直接に合成する残渣である活灰粉20kgを入れた
状態で槽内の回転羽根を7Or、p、mで回転させなか
ら、槽内に窒素ガスを流しつつ水85kgを添加した。
その後も羽根の回転を続けたところ5分後に直径が1〜
4++on程度の球形の粒子が得られた。この間活性ケ
イ素粉と水との反応による発熱が観察された。
4++on程度の球形の粒子が得られた。この間活性ケ
イ素粉と水との反応による発熱が観察された。
造粒前の活性ケイ素粉の発火点は約100 ’Cである
のに対し造粒直後の粒子の発火点は約250°Cであっ
た。この粒子は相互にくっつかず、2111の高さから
コンクリート床に落としても壊れなかった。また、この
粒子の主成分は活性ケイ素、と二酸化ケイ素であった。
のに対し造粒直後の粒子の発火点は約250°Cであっ
た。この粒子は相互にくっつかず、2111の高さから
コンクリート床に落としても壊れなかった。また、この
粒子の主成分は活性ケイ素、と二酸化ケイ素であった。
[発明の効果1
この発明では、金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩
化水素とからオルガノクロルシランもしくはクロルシラ
ンを合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉
に水を添加して造粒するので、活性ケイ素粉の反応活性
を短詩点で実用」二安全な程度までに低下させることか
でき、水のバインダー作用で造粒が促進され、活性ケイ
素粉と水との反応熱により造粒物の乾燥が促進され、強
固な粒子を得ることがでトる。
化水素とからオルガノクロルシランもしくはクロルシラ
ンを合成する反応における反応残渣である活性ケイ素粉
に水を添加して造粒するので、活性ケイ素粉の反応活性
を短詩点で実用」二安全な程度までに低下させることか
でき、水のバインダー作用で造粒が促進され、活性ケイ
素粉と水との反応熱により造粒物の乾燥が促進され、強
固な粒子を得ることがでトる。
そのため、廃棄処分や有効利用のための輸送等が外わめ
て容易となる。
て容易となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属ケイ素と炭化水素塩化物もしくは塩化水素とか
らオルガノクロルシランもしくはクロルシランを合成す
る反応における反応残渣である活性ケイ素粉に水を添加
して造粒することを特徴とする、活性ケイ素粉の処理方
法。 2 水の添加量が活性ケイ素粉の10〜50重量%であ
る特許請求の範囲第1項記載の処理方法。
Priority Applications (7)
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---|---|---|---|
JP60075140A JPS61236607A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 活性ケイ素粉の処理方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004505879A (ja) * | 2000-08-14 | 2004-02-26 | ザ ユニバーシティ オブ ブリティッシュ コロンビア | 水分解反応による水素の発生 |
JP2006273644A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Yuzuru Kaneko | 水素ガスの発生方法 |
JP2011513057A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-04-28 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 固体不動態化 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5126203A (en) * | 1987-04-22 | 1992-06-30 | General Electric Company | Deactivation of spent silicon powder |
EP0287934A3 (en) * | 1987-04-22 | 1989-03-22 | General Electric Company | Deactivation of spent silicon powder |
US5000934A (en) * | 1989-11-13 | 1991-03-19 | Dow Corning Corporation | Method for quenching silicon spent bed |
US5342430A (en) * | 1993-07-28 | 1994-08-30 | Grocela Kathe Teresa A | Passivation of methylchlorosilane fines |
US5530151A (en) * | 1995-06-26 | 1996-06-25 | General Electric Company | Method of passivating organochlorosilane reactor fines and salvaging chlorosilane values therefrom |
DE19602486C1 (de) * | 1996-01-24 | 1997-06-12 | Elkem Materials | Siliciumhaltige Rückstände enthaltendes Brikett als Additiv für metallurgische Zwecke und Verfahren zu seiner Herstellung |
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DE10056722A1 (de) * | 2000-11-15 | 2002-06-06 | Solarworld Ag | Verfahren zur Inertisierung von staubförmigen siliziummetallhaltigen Rückständen der Trichlorsilansynthese im Wirbelbett |
WO2002060578A1 (fr) * | 2001-01-30 | 2002-08-08 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Dispositif servant a activer une substance au moyen d'une structure active et dispositif servant a generer un gaz |
DE10118483C1 (de) * | 2001-04-12 | 2002-04-18 | Wacker Chemie Gmbh | Staubrückführung bei der Direktsynthese von Chlor- und Methylchlorsilanen in Wirbelschicht |
US9249346B2 (en) | 2008-03-06 | 2016-02-02 | Dow Corning Corporation | Solids passivation |
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DE3523541A1 (de) * | 1985-07-02 | 1987-01-15 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von bei der organochlorsilan-herstellung anfallenden hydrolysierten rueckstaenden |
-
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-
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-
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004505879A (ja) * | 2000-08-14 | 2004-02-26 | ザ ユニバーシティ オブ ブリティッシュ コロンビア | 水分解反応による水素の発生 |
JP2006273644A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Yuzuru Kaneko | 水素ガスの発生方法 |
JP4589779B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2010-12-01 | 譲 金子 | 水素ガスの発生方法 |
JP2011513057A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-04-28 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 固体不動態化 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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