JPS61233733A - 光重合性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は光重合性組成物に関するものであり、さらに詳
しくは、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始系と、必要とするならば結合剤とからな
る光重合性組成物に関し、特に感光性印刷版の感光層、
フォトレジスト等に有用な光重合性組成物に関するもの
である。

「従来の技術」 エチレン性本飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を存する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は現在知
られるところである。

すなわち、米国特許λ、タコ７．０λλ号、同一。

り０２，３４１４号あルイハ同３．１７０．１２８号に
記載されているように、この種の感光性組成物は光照射
により硬化し不溶化することから、この感光性組成物を
適当な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照射を
行ない、適当な溶媒により未露光部のみを除去すること
により所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させるこ
とができる。

このタイプの感光性組成物は印刷版あるいはオ７トレジ
スト等を作成するために使用されるものとして極めて有
用であることは論をまたない。

従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物
のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるために光
重合開始剤を添加することが提唱されており、かかる光
重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベンゾイン
エチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラ中ノン、ア
クリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、コーエチルア
ントラ中ノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物の硬化
の感応度が低いので画像形成における像露光に長時間を
要するため、細密な画像の場合には操作にわずかな振動
があると良好な画質の画像が再現されず、また露光の光
源のエネルギー放射量を増大しなければならないために
それに伴なう多大な発熱の放散を考慮する必要があり、
さらに熱による組成物の皮膜の変形および変質も生じ易
い等の問題があった。

またこれらの光重合開始剤は１４００　ｎｍ以下の紫外
領域の光源に対する光重合能力に比較し、弘ｏｏｎｍ以
上の可視光線領域の光源に対するそれは顕著に低（、従
ってそれらを含む光重合性組成物の応用範囲を著しく限
定して来た。

可視光線に感応する光重合系に関しては従来い（つかの
提案がなされて来た。古くは米国特許第２ｔｒｏｕＩＡ
Ｊ号によればある。糧の光還元性染料、例、？−ハｃｌ
−スヘンガル、ニオシン、エリスロシン等が効果的な可
視光感応性を有していると報告されている。その後改良
技術として染料とアミンの複合開始系（特公昭≠μｍ２
ｏｉｒり）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル
発生剤および染料の系（特公昭＜４！−３７３７７）、
ヘキサアリールビイミダゾールとＰ−ジアルキルアミノ
ベンジリデンケトンの系（特開昭４ｃ７−４ｊコｊ１特
開昭！μ−７ｊ！λタコノ、置換トリアジンとメロシア
ニン色素の系（特開昭！≠−／！ｒ１０２４Ａ）などの
提案がなされて来た。これらの技術は確かに可視光線に
対して有効ではあるが、未だその感光速度は充分満足子
べきものではな（さらに改良技術が望まれていた。

「発明が解決しようとする問題点」 したがって、本発明の目的は、高感度の光重合性組成物
を提供することである。

本発明の他の目的は広く一般にエチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物の光重合
速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合性組成物
を提供することである。

また本発明の他の目的は弘００ｎｍ以上の可視光線、特
にＡｒ　レーザーの出力に対応する４ｃｒｔｎｍ付近の
光に対しても感度の高い開始系を含んだ光重合性組成物
を提供することにある。

「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく精意研究を重ねてい
たが、ある特定の光重合開始系がエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、またｌｔ００Ｑｍ以上の可視光線に対しても高感度
を示すことを見出し、本発明に到達したものである。

本発明は、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物と、必要とするならば結合剤と、光重合開始系を含
む光重合性組成物において、該光重合開始系が （ａ）　　一般式（１）で表わされるベンジリデン化合
物 （式中、Ｒ１ｓ　Ｒ２、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立に水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アリル基または置換アリル基を表わし、
Ｒ３％Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、ハロゲン原子、カルボアルコキシ基またはアルコキ
シ基を表わす。またＲ１とＲ５、Ｒ２とＲ３、Ｒ５とＲ
６、Ｒ３とＲ４は共にそれが結合している原子と共に環
を形成していても良い。Ｘは酸素原子または硫黄原子を
表わす。） （ｂ）　　へキサアリールビイミダゾールまたは一般式
（Ｍ）で表わされるスルホニルオキシム化合物、Ｃ） （式中ｓ　Ｒ１ｓ　Ｒ２はそれぞれ独立にアルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケ
ニル基または置換アルケニル基を表わす。ンおよび （Ｃ）　　α、β−ジカルボニル化合物またはＮ−フェ
ニルグリシンまたは一般式（ＩＩＩ）で表わされるチオ
ール化合物、 （式中、２はへテロ環を形成させるのに必要な非金属原
子を表わす。）からそれぞれ少なくとも１種選ばれる少
なくとも３成分から成ることを特徴とする光重合性組成
物に関するものである。以下本発明について詳細に説明
する。

本発明の組成物におけるエチレン性不飽和結合を存する
重合可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも７
個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であって、モ
ノマー、プレポリマー、すなわち４量体、３量体および
他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。それらの例とし
ては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化合物との
アミド等があげられる。

不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マノイン酸などがある。

不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールトリアクリＶ−）、／。

３−ブタンジオールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリ：７−　ルシ
７　り’）レート、トリメチロールプロ／耐ントリアク
リレート、トリメチロールエタントリアクリレート、’
ｔ”−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールジアクリレート、インタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリス
リトールトリアクリレート、ジはンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソ
ルビトールテトラアクリレート、ンルビトールベンタア
クリレート、ソルビトールへキサアクリレート、ポリエ
ステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸
エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリＶ−ト％）リメチ
ロールエタントリメタクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ｌ、３−ブタンジオールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ｋン
タエリスリトールトリメタクリート、ジペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレ
ート、ンルビトールテトラメタクリＶ−）、ビス−（ｐ
−（Ｊ−メタクリルオ争シー２−ヒドロ午ジプロポキシ
）フェニル〕ジメデルメタン、ビス−（ｐ−（アクリル
オキシエト中シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

イタコン酸エステルとしては、エチレンクリコールシイ
タコネート、フロピレンクリコールシイタコネート、／
、３−ブタンジオールシイタコネート、／、≠−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸
エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート
、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエ
リスリトールジクロトネート、ンルビトールテトラクロ
トネート等がある。インクロトン酸エステルとしては、
エチレンクリコールジインクロトネート、インクエリス
リトールジインクロトネート、ソルビトールテトライン
クロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、
エチレングリコールシマレート、トリエチレングリフー
ルシマレート、ヘンタエリスリトールジマＶ−ト、ソル
ビトールテトラマレート等がある。

さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。

脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、／、６−へキサメチレ
ンビスーアクリルアミド、／、６−へ午すメチレンビス
ーメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、中シリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。

その他の例としては、特公昭４＆ｔ−ｕｔｙｏｒ号公報
中に記載されている７分子に２個以上のインシアネート
基を有するポリインシアネート化合物に、下記の一般式
（ｆＶ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを
付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含
有するビニルウレタン化合物等があげられる。

Ｃ）１２＝Ｃ（ＲＪＣＯＯＣ）１２ＣＨ（Ｒ’　）ＯＨ
（ＩＶ）（ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ３を
示す。） 次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光
線の照射によりラジカルを発生し。

前述のエチレン性不飽和結合を有する化合物の付加重合
反応をもたらすものである。本発明の光重合開始系は３
種類の成分の組合せより成っておりそのｊＸ／成分（ａ
）は前記一般式（Ｉ）で表わされるベンジリデン化合物
である。式中、Ｒ１ｓ　Ｒ２、Ｒ７ｓ　Ｒ８は同一でも
異なっていても良く、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル等の炭素数／＃
／２個のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素
数６〜１０個のアリール基、炭素数３〜ｉｏ個のアリル
基を表わす。これらのアルキル基、アリール基、アリル
基は置換基を有していても良く、置換基としては、メチ
ル基、エチル基等の炭素数／−Ｊ個のアルキル基、メト
キク基、メトキク基等の炭素数／〜を個のアルコキシ基
、塩素、臭素等の・・ロゲン原子、クアノ基、アミノ基
、ジメチルアミノ基等の炭素数ｌ−≠個のアルキル基で
置換されたアミノ基、カルボメト牟シ基等の炭素ａ／−
参個のアルキル基を有するカルボアルコキシ基、７エ二
ル基、ｐ−メトキシフェニル基％ｐ−クロロフェニル基
等の炭素数６〜ＩＯ＠の置換もしくは非置換の７リール
基、カルボン酸基、スルホン酸基、またはそれらの塩等
を挙げることができる。

Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は水素原子、塩素、臭素等のハ
ロゲン原子、カルゼメトキシ、カル〆エトキシ等の炭素
数λ〜を個のカルボアルコキシ基、エトキシ、エトキシ
等の炭素数７〜７個のアルコキシ基の他、Ｒ１、Ｒ２、
Ｒ７、Ｒ８で挙げたものと同様のアル中ル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基を表わす。

またはＲ，とＲ５、Ｒ２とＲ３、Ｒ６とＲ６、Ｒ３とＲ
４は共にそれと結合している原子と共に環を形成してい
ても良い。環としてはシクロヘキセン環などの脂肪族炭
化水素環、モルホリノ環、ジュロリジノ環なとのへテロ
環、ベンゼン環、ナフタリン環などの芳香族環、牟ノリ
ン環などのへテロ芳香族環等を挙げることができる。ま
たこれらの環は置換基を有していても良（、置換基とし
てはＲ１、Ｒ２％　Ｒ７、ＲＢの置換基として挙げたも
のを同様に用いることができる。

本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表わされる第１の成
分（ａ）の具体例を下記に示す。

第１の成分（ｂｌはヘキサアリールビイミダゾールまた
は一般式（Ｉｆ）で表わされるスルホニルオキシム化合
物であるへ牛すアリールビイミダゾールは、コ、ｕ、ｊ
−トリアリールイミダゾリルニ量体とも呼ばれ２個のイ
ミダゾールが１個の共有結合で結ばれた構造を有する化
合物である、ヘキサアリールビイミダゾールのアリール
基としてはフェニル基が好ましい、かかるフェニル基は
置換基を有していても良く、特に２位および２１位のフ
ェニル基のオルト倍が弗素原子、塩素原子、臭素原子、
ニトロ基、メチル基で置換されたヘキサフェニルビイミ
ダゾールが熱安定性、光反応速度の特性面から有利であ
る。

特に好ましいへ午すアリールビイミダゾールの具体例と
しては、２．λ′−ビス（Ｏ−クロロフェニルノーｕ、
ａ’、ｒ、ｓ−’−テトラフェニルビイミダゾール、コ
、２′−ビス（０−ブロモフェニル）−４Ｃ，μ’、！
、に”−テトラフェニルビイミダゾール、２．２′−ビ
ス（ｏ　＋　ｐ−ジクロロフェニル］−μ、ｕ’、ｒ、
！’−テトラフェニルビイミダゾール、！、！’−ビス
（０−クロロフェニルノーμ、ＩＡ’、ｊ、！’−テト
ラ（ｍ−１ト’Ｐジフエニル）ビイミダゾール、コ。

λ′−ビス（ｏ　＊　ｏ’−ジクロロフェニル）−４ｃ
。

≠’、！、ｊ’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙
げられる。

これらのへ中ケアリールビイミダゾール類は例えばプレ
ティン　オブ　ザ　ケミカル　ソサイアテイー　オブ　
シャツ＠７（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ　　ｏｆ　　ｔｈｅＣｈ
ｅｍｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔｙ　　ｏｆ　　Ｊａｐａ
ｎ）３７　曹！ｔｔＪ（１９４０）およびジャーナル　
オブ　オルガニック　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　
　ｏｆＯｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）Ｊ　＆　
（／　Ａ　Ｊ　２２＆λ（／９７／）に開示されている
方法により容易に合成することができる。

一般式Ｃｍ）で示されるスルホニルオキシム化合物にお
いてＲ６ｓ　Ｒ７は同一でも異なっていても良く、メチ
ル基、エチル基等の炭素数／−／Ｊ個のアルキル基、フ
ェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜ＩＯ個のアリール
基、炭素数２〜ｌ！個のアルケニル基を表わす。これら
のアルキル基、アリール基、アルケニル基は置換基を有
しても良く、置換基としては、メチル基、エチル基等の
炭素数／〜を個のアルキル基、メトキシ基、ニド中シ基
等の炭素数／−Ｊ個のアルコキシ基、塩素、臭素等の・
・ロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基
等の炭素数ｌ−μ個のアルキル基で置換されたアミン基
、カルボメトキシ基等の炭素ｆｉ／−μ個のアルキル基
を有するカルボアルコ中シ基、フェニル基、ｐ−メトキ
シフェニル基、ｐ−クロロフェニル１ｌｓｓ　ｏ　、ｐ
−ジクロロフェニル基、ｐ−トリル基、ｐ−ブチルフェ
ニル基等の炭素数Ａ−２０個の置換もしくは非置換のア
リール基が挙げられる。

Ｒ１の好ましい例としてはフェニル基等の（置換ノアリ
ール基、またＲ２の好ましい例としてはフェニル基等の
（置換ノアリール基、スチリル等の（置換）アルケニル
基がある。

一般式（Ｉ）で表わされるスルホニルオキシム化合物の
その他の好ましい例及び合成法は特開昭１７−４３７μ
７号公報及び特開昭！ターフッ参ｒＪＩ号公報（西独特
許（ＯＬＳ）Ｊ４Ｃ１０ｊＪｒ７Ａ／号公報に対応）に
記載されている。

我々は更に高感度化を目積して種々検討を試みた結果、
前述のコ成分に更にある特定の第３成分を添加すること
により数倍の感度改善がなされることを見い出した。

本発明の第３成分（ｃ）として用いられる化合物として
はα、β−ジガルボニル化合物、けたはＮ　−フェニル
グリシンまたは一般式（ＩＩ［）で表わされるチオール
化合物の少なくともいづれか一種である。

α、β−ジカルボニル化合物の風体例としてはＮ、Ｎ−
ジメチルバルビッル酸、Ｎ、Ｎ−ジエチルチオバルビッ
ル酸、Ｎ、Ｎ−ジ−ｎ−ブチルチオバルビッルａＨＦの
バルビッル酸類、ジメドン等の脂環式化合物等が挙げら
れる。

一般式（ＩＩＩＪで表わされるチオール化合物において
２はへテロ環を形成するのに必要な非金属原子群を表わ
し、風体的にはチアゾール、オ中すゾール、イミダゾー
ル、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ナフトチ
アゾール、ナフトイミダゾール、オキサジアゾール、チ
アジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピリミジ
ン等を挙げることができる。またこれらのへテロ環は置
換基を有していても良く、置換基としてはメチル基、エ
チル基等の炭素数／−４個のアルキル基、メトキシ基、
工）−？シ基等の炭素数／−４個のアルコキシ基、塩素
、臭素等のハロゲン原子、シアノ基。

アミノ基、ジメチルアミノ基等の炭素数ｌ−弘個のアル
キル基で置換されたアミノ基、カルボメトキシ基等の炭
素数ｌ−参個のアルキル基を有スるカルボメトキシ基、
フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基等の炭素数１〜２
０個のアリール基等がある。また上述のへテロ環はへテ
ロ環にベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族環が縮環し
ていても良い。

一般式（ｌ［Ｊで表わされるチオール化合物において特
に好ましい例としては、コーメルカブトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプ
トベンゾオキサゾール、−一メルカブト−７−メチルチ
アジアゾール、コーメルカブトー！−メチルチオチアジ
アゾール、コーメルカプトー／−Ｎ−フェニル−／、！
、弘−トリアゾール等を挙げることができる。

本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、適当な支持体状に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物１００重量部に対する重量部で表わす。

好ましい添加範囲　特に好ましい 構成成分　　　　　　　　　　　添加範囲（重量部）　
　（重量部〕 光重合開始系 成分（ａ）　　０．０／−Ｊ−００，／−１０成分（ｂ
）　　０，０．／−１００，１〜ＩＯ成分（Ｃ）　　０
．０／　〜！０　０．／　Ｎ１０結　　合　　　剤　　
０　＃１０００　　　０　Ｎ１００熱重合防止剤　ｏ−
１ｏｏ−ｒ 染料もしくは顔料　　０〜に０　　　　　０−２０可　
　塑　　剤　　Ｏ〜２００　　　　０−１０本発明の光
重合性組成物を塗布するときに用いられる溶媒としては
、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸
エチルセロソルブ、モノクロルベンゼン、トルエン、キ
シレン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとである。これらの
溶媒は単独または混合して使用される。

感光性平版印刷版を製造する場合の塗布量は、一般に固
形分として０．／−１０，Ｏｊｌ／ｒｎ　　が適当であ
り、特に好ましくはｏ、ｒ〜！・ｏｇ７ｍ２である。

本発明の光重合性組成物は感光性平版印刷版の感光層と
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケ
ート処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、シ
リケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板
、ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプ
ラスチックフィルムや紙を挙げることができる。

また本発明の組成物をフォトレジストとして使用する場
合には銅板または銅メツキ板、ステンレス板、ガラス板
等の種々のものを支持体として用いることができる。

「実施例」 以下、本発明に使用される光重合開始系の合成例と本発
明の実施例を記すが、本発明はこれに限定されるもので
はない。

実施例１　　比較例１〜３ ナイロンブラシで砂目室て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて回転速度Ｊ　００　ｒ、
ｐ、ｍ、　　にて下に示す成分（ａ）、（ｂ）および（
ｃ）よりなる光重合開始系を用いた下記感光液を塗布し
１００”Ｃ１分間乾燥し、乾燥膜厚的２μの感光層を形
成させ感光板を作成した。

ベンジルメタクリレート−メタ アクリル＠（モル比７３／２ ７）共重合体　　　　　　　　　　ｚ−ｏｇペンタエリ
スリトールテトラア クリレート　　　　　　　　　　　　　３．４９光重合
開始系 （第１表に示した量：モノマーに対するモルチ） メチルエチルケトン　　　　　　　　　２０９メチルセ
ルンルブアセテート　　　　　２０９露先は真空焼枠装
置を用いて、作製した感光板上にステップ・ウェッジ（
濃度段差０．／Ｊ−１濃度段数ｌｊ段）を置き、コＫＷ
の超高圧水銀灯をψ秒間照射し、露光後下記処方の現像
液を用いて現像した。

（現像液フ リン酸三ナトリウム　　　　　　　　　　コ！ｙリン酸
−ナトリウム　　　　　　　　　　　！Ｉブチルセルン
ルブ　　　　　　　　　　　７０７７界面活性剤　　　
　　　　　　　　　　　コｄ水　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　Ｉ！現出した画ｆｆＲの対応
するステップ・ウェッジの最高段数を試料の感度として
第７表に示した。段数が高いほど感度が高いことを意味
する。

また比較のために、光重合開始系よりひとつの成分を除
いたものを比較例として試料を作製し、感度を調べた。

光重合開始系 成分（ａ） 成分（ｂ） 成分（ｃ） 第１表 実施例１は比較例１〜３に比し２倍以上の感度を有して
いることがわかった。

実施例２　　比較例４〜６ 実施例１の方法において、光重合開始系として下に示す
化合物を用いた以外実施例１と同様の方法で感光板を作
製し、同様の方法で露光、現像し、ステップ段数を求め
た。結果を第２表に示す。

光重合開始系 成分（ａ） Ｃ２Ｈ。

成分（ｃｌ 第２表 実施例３〜６　　比較例７ 実施例１の方法において、光重合開始系の（ａ）成分（
ｂ）成分として下に示す化合物をそれぞれ２モル係、ｊ
モル係添加しくｃｌ成分として第３表に示した化合物を
２モル係添加した以外実施例１と同様の方法で感光板を
作製し、同様の方法で露光、現像し、ステップ段数を示
した。結果を第３表に示す。

光重合開始系 成分（ａ） 成分（ｂ） ［ 「発明の効果」 第１表、第２表および第３表に示した様に本発明の光重
合開始系を用いた場合比較例１〜７に比較してより高い
感度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。

実施例７，８ 実施例１で作成した感光板上にステップウェッジを置き
更にその上に富士フィルターＳＣ参〇（ｌＬＯＯｎｍ以
上の光を透過するフィルター、富士写真フィルム■製）
又は富士フィルターＢＰＢ！０（ＪＯＯｎｍ付近の光を
透過するフィルター、半値幅ｕ　ｊ　ｎ　ｍ　、富士写
ｌＩｃフィルム■［７を重ね、実施例１と同様の装ばで
２０秒間照射し実施例１と同様の方法に現像した。

得られた画像の最高ステップウェッジ段数を第参表に示
す。

第弘表 第μ表の結果から明らかなどと（本発明の光重合開始系
はｌＡＯＯｎｍ以上の可視光線及び２００ｎｍ付近の光
に対しても高感度であることが明らかであることが示さ
れた。

特許出′願人　富士写真フィルム株式会社手続補正書 １、事件の表示　　　　昭和６０年特願第μｚｚ３ｉ号
２、発明の名称　　光重合性組生物 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　特許出願人件　所　　神奈
川県南足柄市中沼２１０番地連絡先　〒１０６東京都港
区西麻布２丁口２６番３０号屯　補正の対象　　ＢＡＩ
ｆＢ書の「発明の詳細な説明」の欄 ５、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。

ｌ）第１４ｊｊＰ行目の 「３〜１０Ｊを 「３」 と補正する。

２）第３／頁２行目の成分（ｂ）の化合物「 」を 「 と補正する。

３）第３７頁ｊ行目の成分（ｂ）の化合物「 」を 「 」 と補正する。

手続補正書 昭和ｊ／年を月１日 適

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する付加
   重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合性組
   成物において、該光重合開始系が下記（ａ）（ｂ）（ｃ
   ）からそれぞれ少なくとも１種選ばれる少なくとも３成
   分から成ることを特徴とする光重合性組成物。 （ａ）一般式（ I ）で表わされるベンジリデン化合物
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿７、Ｒ＿８はそれぞれ独
   立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
   基、置換アリール基、アリル基または置換アリル基を表
   わし、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６はそれぞれ独立
   に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基
   、置換アリール基、ハロゲン原子、カルボアルコキシ基
   またはアルコキシ基を表わす。またＲ＿１とＲ＿５、Ｒ
   ＿２とＲ＿３、Ｒ＿５とＲ＿６、Ｒ＿３とＲ＿４は共に
   それが結合している原子と共に環を形成していても良い
   。） Ｘは酸素原子または硫黄原子を表わす。 （ｂ）ヘキサアリールビイミダゾールまたは一般式（I
   I）で表わされるスルホニルオキシム化合物、▲数式、
   化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿６、Ｒ＿７はそれぞれ独立にアルキル基、
   置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケ
   ニル基、または置換アルケニル基を表わす。） （ｃ）α，β−ジカルボニル化合物またはＮ−フェニル
   グリシンまたは一般式（III）で表わされるチオール化
   合物、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｚはヘテロ環を形成させるのに必要な非金属原
   子を表わす。）