JPS61229342A - バンプ電極の接続方法 - Google Patents
バンプ電極の接続方法Info
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- JPS61229342A JPS61229342A JP7162585A JP7162585A JPS61229342A JP S61229342 A JPS61229342 A JP S61229342A JP 7162585 A JP7162585 A JP 7162585A JP 7162585 A JP7162585 A JP 7162585A JP S61229342 A JPS61229342 A JP S61229342A
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- Japan
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- bump electrodes
- chip
- melting point
- low
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/818—Bonding techniques
- H01L2224/81801—Soldering or alloying
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
2つの半導体基板上に設けられたそれぞれの半導体素子
を、その半導体素子上に形成したバンプ電極相互を接着
して接続する際、バンプ電極上に低融点の導電体を介在
させ、これを溶融して接続する。
を、その半導体素子上に形成したバンプ電極相互を接着
して接続する際、バンプ電極上に低融点の導電体を介在
させ、これを溶融して接続する。
[産業上の利用分野]
本発明は半導体装置の製造方法のうち、二次元的に整列
した多数の半導体素子相互をバンプ電極を介して接続す
る接続方法に関する。
した多数の半導体素子相互をバンプ電極を介して接続す
る接続方法に関する。
tCなどの半導体装置は、半導体基板(チップ)上に多
数の半導体素子が設けられて、電子回路が構成されてい
るが、このような2つの半導体基板上の半導体素子を相
互に接続して、立体的な回路を形成する作成方法が使用
されている。
数の半導体素子が設けられて、電子回路が構成されてい
るが、このような2つの半導体基板上の半導体素子を相
互に接続して、立体的な回路を形成する作成方法が使用
されている。
しかし、その接続電極数が多い場合には、十分に信頼度
の高い接続方法が採られなければならない。
の高い接続方法が採られなければならない。
[従来の技術]
上記の立体的な回路を構成した例として、例えば、一方
のチップ面に光起電力型赤外センサ素子が設けられ、他
方のチップ面にドライバー用のCOD素子が設けられた
、いわゆる赤外線検知器のセンサがある。
のチップ面に光起電力型赤外センサ素子が設けられ、他
方のチップ面にドライバー用のCOD素子が設けられた
、いわゆる赤外線検知器のセンサがある。
このチップには、大きさ70〜80μm平方の素子が、
それぞれ整列してマトリックス状に、合計で3000〜
5ooo個ずつ設けられ、チップの大きさは数l■角程
度のものである。
それぞれ整列してマトリックス状に、合計で3000〜
5ooo個ずつ設けられ、チップの大きさは数l■角程
度のものである。
このようなセンサの赤外センサ素子とCCD素子を接続
する場合、第2図に示している工程断面図のように、チ
ップ1の赤外センサ素子それぞれの上に形成したバンプ
電極B1と、チップ2のCCD素子それぞれの上に形成
したバンプ電極B2とを、個々に接着して接続する方法
が採られている。第2図Talは接着前、同図山)は接
着後の工程断面図を示している。このようなバンプ電極
は、それぞれ高さ10μm程度の凸状にしたインジウム
(In)からなる軟らかい電極である。
する場合、第2図に示している工程断面図のように、チ
ップ1の赤外センサ素子それぞれの上に形成したバンプ
電極B1と、チップ2のCCD素子それぞれの上に形成
したバンプ電極B2とを、個々に接着して接続する方法
が採られている。第2図Talは接着前、同図山)は接
着後の工程断面図を示している。このようなバンプ電極
は、それぞれ高さ10μm程度の凸状にしたインジウム
(In)からなる軟らかい電極である。
その圧着の際には、赤外センサ素子を設けたチップは、
カドミウム・テルル基板などからなり、赤外線顕微鏡に
よって透視できるから、チップ1の裏面から赤外線顕微
鏡で観察し、位置合わせして接着させることができる。
カドミウム・テルル基板などからなり、赤外線顕微鏡に
よって透視できるから、チップ1の裏面から赤外線顕微
鏡で観察し、位置合わせして接着させることができる。
[発明が解決しようとする問題点]
従って、位置合わせは正確におこなわれて、数1000
個と云う素子数ではあるが、位置合わせ精度に狂いを生
じることは少ない。
個と云う素子数ではあるが、位置合わせ精度に狂いを生
じることは少ない。
しかし、数1000個の素子を同時に圧着する方法であ
るから、チップ面の凹凸などが原因して、バンプ電極の
高さに不揃いができ、多数の接続電極の中には接着力が
極めて弱かったり、また、接続されないものが生じたり
する問題がある。
るから、チップ面の凹凸などが原因して、バンプ電極の
高さに不揃いができ、多数の接続電極の中には接着力が
極めて弱かったり、また、接続されないものが生じたり
する問題がある。
そのため、接着圧を高くすることが必要になって、圧力
を上げて接着すると、素子を破壊したり、また、破壊に
至らなくても、素子特性が劣化する問題が起こってくる
。
を上げて接着すると、素子を破壊したり、また、破壊に
至らなくても、素子特性が劣化する問題が起こってくる
。
本発明は、このような問題点を解消させるためのバンプ
電極の接続方法を提案するものである。
電極の接続方法を提案するものである。
[問題点を解決するための手段]
その問題は、バンプ電極の上にバンプ電極より融点の低
い導電体を介在させ、その導電体を溶融して接続するよ
うにしたバンプ電極の接続方法によって解決される。
い導電体を介在させ、その導電体を溶融して接続するよ
うにしたバンプ電極の接続方法によって解決される。
[作用]
即ち、本発明は、接続するバンプ電極の上に、低融点の
導電体を形成しておき、これを溶融して接着する。
導電体を形成しておき、これを溶融して接着する。
そうすると、非常に弱い圧力で、電極の十分な接続が得
られる。
られる。
[実施例]
以下、図面を参照して実施例によって詳細に説明する。
第1図は本発明にかかるバンプ電極の接続工程断面図を
示しており、同図(a)は接着前、同図山)は接着後の
断面である。第1図(a)のように、チップ1上のバン
プ電極B1の上に厚さ1〜2μmの低融点導電体M1を
形成し、また、チップ2上のバンプ電Fi B 2の上
にも同じく厚さ1〜2μmの低融点導電体M1を形成し
ておく。そうして、第1図(b)に示すように、両チッ
プ1.2を加熱し、低融点導電体Ml + M2のみを
溶融して、チップ1をチップ2の上に載せる程度の弱い
圧力で接着する。このようにすれば、バンプ電極の高さ
が多少不揃いになっていても、低融点導電体が溶融して
十分に接続を保つことができる。
示しており、同図(a)は接着前、同図山)は接着後の
断面である。第1図(a)のように、チップ1上のバン
プ電極B1の上に厚さ1〜2μmの低融点導電体M1を
形成し、また、チップ2上のバンプ電Fi B 2の上
にも同じく厚さ1〜2μmの低融点導電体M1を形成し
ておく。そうして、第1図(b)に示すように、両チッ
プ1.2を加熱し、低融点導電体Ml + M2のみを
溶融して、チップ1をチップ2の上に載せる程度の弱い
圧力で接着する。このようにすれば、バンプ電極の高さ
が多少不揃いになっていても、低融点導電体が溶融して
十分に接続を保つことができる。
この場合、インジウムからなるバンプ電極B1+B2の
溶融点(tl)は約150℃であるから、低融点導電体
Ml 、M2の溶融点(t2)はミそれより低い温度に
する。且つ、チップ1.2の加熱温度(ta)との関係
を 12<1. <1゜ にする0例えば、低融点導電体Ml 、M2を80℃の
溶融点(t2)をもった半田とし、これをバンプ電極の
上に形成する。そして、チップの加熱温度を約100℃
にする。そうすると、半田のみ溶かしてバンプ電極を接
着することができる。このような接続方法を採れば、バ
ンプ電極間の接続性が向上し、且つ、加圧によって素子
を破壊したり、劣化させることがなくなる。
溶融点(tl)は約150℃であるから、低融点導電体
Ml 、M2の溶融点(t2)はミそれより低い温度に
する。且つ、チップ1.2の加熱温度(ta)との関係
を 12<1. <1゜ にする0例えば、低融点導電体Ml 、M2を80℃の
溶融点(t2)をもった半田とし、これをバンプ電極の
上に形成する。そして、チップの加熱温度を約100℃
にする。そうすると、半田のみ溶かしてバンプ電極を接
着することができる。このような接続方法を採れば、バ
ンプ電極間の接続性が向上し、且つ、加圧によって素子
を破壊したり、劣化させることがなくなる。
尚、バンプ電極B、、B2の上に低融点導電体Ml 、
M2を形成するには、バンプ電極となるインジウムをス
パッタ、または蒸着する際、同時に、その上にスパッタ
または蒸着する方法が好都合である。
M2を形成するには、バンプ電極となるインジウムをス
パッタ、または蒸着する際、同時に、その上にスパッタ
または蒸着する方法が好都合である。
[発明の効果]
以上の説明から判るように、本発明によれば微圧でバン
プ電極が確実に接続されて、且つ、素子特性を悪化させ
ることがなくなる。従って、本発明は信頼性の高い接続
方法である。
プ電極が確実に接続されて、且つ、素子特性を悪化させ
ることがなくなる。従って、本発明は信頼性の高い接続
方法である。
第1図(a)、 (b)は本発明にかかる接続方法の工
程断面図、 第2図(a)、 (b)は従来の接続方法の工程断面図
である。 図において、 1.2は半導体基板(チップ)、 B、、B2はバンプ電極、 Ml、M2は導電体 を示している。 +発明り電枚n椿謹オ迭 lI 1 図
程断面図、 第2図(a)、 (b)は従来の接続方法の工程断面図
である。 図において、 1.2は半導体基板(チップ)、 B、、B2はバンプ電極、 Ml、M2は導電体 を示している。 +発明り電枚n椿謹オ迭 lI 1 図
Claims (1)
- 2つの半導体基板のそれぞれに、二次元的に同形状に整
列した複数の半導体素子を有し、該半導体素子それぞれ
に設けられたバンプ電極相互の接着によつて、前記2つ
の半導体基板上の半導体素子を電気的に接続する接続方
法において、前記バンプ電極の上に該バンプ電極より融
点の低い導電体を介在させ、該導電体を溶融して接続す
るようにしたことを特徴とするバンプ電極の接続方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7162585A JPS61229342A (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | バンプ電極の接続方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7162585A JPS61229342A (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | バンプ電極の接続方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61229342A true JPS61229342A (ja) | 1986-10-13 |
Family
ID=13466020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7162585A Pending JPS61229342A (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | バンプ電極の接続方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61229342A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02501693A (ja) * | 1987-09-24 | 1990-06-07 | サンタ・バーバラ・リサーチ・センター | ハイブリッド冷間溶接を改善するために半導体装置の上に形成された金属コンタクトバンプからの酸化物の除去方法 |
US5611140A (en) * | 1989-12-18 | 1997-03-18 | Epoxy Technology, Inc. | Method of forming electrically conductive polymer interconnects on electrical substrates |
US6143639A (en) * | 1998-02-12 | 2000-11-07 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming electrically conductive interconnections and electrically interconnected substrates |
JP2008546022A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-12-18 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ワークピースおよびその間に導電性部材を含む電子素子 |
KR101156183B1 (ko) | 2010-11-02 | 2012-06-18 | 한국생산기술연구원 | 범프 간 직접 접합방법 및 이를 이용한 반도체 패키지 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55150279A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-22 | Fujitsu Ltd | Infrared ray camera device |
JPS57207362A (en) * | 1981-06-16 | 1982-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
-
1985
- 1985-04-03 JP JP7162585A patent/JPS61229342A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5918364A (en) * | 1989-12-18 | 1999-07-06 | Polymer Flip Chip Corporation | Method of forming electrically conductive polymer interconnects on electrical substrates |
US6138348A (en) * | 1989-12-18 | 2000-10-31 | Polymer Flip Chip Corporation | Method of forming electrically conductive polymer interconnects on electrical substrates |
US6143639A (en) * | 1998-02-12 | 2000-11-07 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming electrically conductive interconnections and electrically interconnected substrates |
US6509256B2 (en) | 1998-02-12 | 2003-01-21 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming electrically conductive interconnections and electrically interconnected substrates |
JP2008546022A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-12-18 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ワークピースおよびその間に導電性部材を含む電子素子 |
KR101156183B1 (ko) | 2010-11-02 | 2012-06-18 | 한국생산기술연구원 | 범프 간 직접 접합방법 및 이를 이용한 반도체 패키지 |
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