JPS61225195A - トリチウム標識付きステロイドの合成 - Google Patents
トリチウム標識付きステロイドの合成Info
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- JPS61225195A JPS61225195A JP61016008A JP1600886A JPS61225195A JP S61225195 A JPS61225195 A JP S61225195A JP 61016008 A JP61016008 A JP 61016008A JP 1600886 A JP1600886 A JP 1600886A JP S61225195 A JPS61225195 A JP S61225195A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の主題は、次の一般式I
(ここでRは水素原子、1〜4個の炭素原子を含有する
アルギル基又はテトラヒドロピラニル、トリチル若しく
はトリメチルシリル基を表わす)のステロイドをトリチ
ウム標識付きのM換ステロイド誘導体を合成する方法に
ある。
アルギル基又はテトラヒドロピラニル、トリチル若しく
はトリメチルシリル基を表わす)のステロイドをトリチ
ウム標識付きのM換ステロイド誘導体を合成する方法に
ある。
式Iにおいて、Rがアルキル基を表わすときは、それは
、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、aec−ブチル又はt−ブチル基である。
、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、aec−ブチル又はt−ブチル基である。
式■の化合物の中でも、特に下記のものがあげられる。
17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,3
,5(IQI、6−テトラエン−3−オール−20−オ
ン、 17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,3
,5(IIJ、6−テトラエン−3−メトキシ−20−
オン、及び 17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,へ
5Qtil、6−テトラエンー3−(α−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−20−オン。
,5(IQI、6−テトラエン−3−オール−20−オ
ン、 17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,3
,5(IIJ、6−テトラエン−3−メトキシ−20−
オン、及び 17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,へ
5Qtil、6−テトラエンー3−(α−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−20−オン。
一般式Iの化合物は、トリチウム標識付きの置換ステル
イド誘導体の合成用出発物質として有用である。
イド誘導体の合成用出発物質として有用である。
前記の一般式Iに相当する化合物は次のように製造され
る。
る。
コノ方法は、エチニル化剤をニス) 5−1.3.5u
(1,s−テトラエン−3−オール−17−オンに反応
させて17α−エチニルエストラ−L?、、5QQ)。
(1,s−テトラエン−3−オール−17−オンに反応
させて17α−エチニルエストラ−L?、、5QQ)。
6−テトラエン−3,1フβ−ジオールを形成し、これ
を酸により又は酸の官能性誘導体によりエステル化シて
17α−エチニルエストラ−L45ufj。
を酸により又は酸の官能性誘導体によりエステル化シて
17α−エチニルエストラ−L45ufj。
6−テトラエンーへ17β−ジアシルオキシを得、これ
に水和剤を作用させ、生じた17α=アセチルエストラ
−1,3,5(IQ、6−テトラエンーへ17β−ジア
シルオキシにアンモニア中のアルカリ金属及びハロゲン
化メチルを反応させて17位置のメチル化とし涛17位
置のアセチル官能基の異性化を同時に行なわせ、得られ
た17α−メチル−19−ノルプレグナ−1,5QQ)
16−テトラエン−6−アシルオキシ−20−オンを強
塩基水溶液によりけん化し、17α−メチル−19−ノ
ルプレグナ−1,45(11,6−テトラエン−3−オ
ール−20−オンの3位置のヒドロキシル官能基をジヒ
ドロビラン、塩化トリチル若しくは塩化トリメチルシリ
ル又はアルキル基を発生する物質よりなる群から違ばれ
る誘導体によってブロックして17α−メチル−19−
ノルプレグナ−Wasα1,6−テトラエン−3−RO
−20−オン(Rは上に記載の意味を有する。ただし、
水素は除く)を得、その21位置のメチル化を触媒の存
在下にハロゲン化メチルによって行なって17α、21
−ジメチル−19−/ルア’レグ+−’L45(lI+
6−?)フェン−3−RO−20−オン、即ちRが水素
でない一般式■の化合物を得、その3位置のヒドロキシ
ル官能基を酸の作用により遊離させてRが水素原子を表
わす一般式■の化合物を得、必要ならば3位置のヒドロ
キシル官能基をエーテル化してRが水素でない一般式■
の化合物を得ることを特徴とするものである。
に水和剤を作用させ、生じた17α=アセチルエストラ
−1,3,5(IQ、6−テトラエンーへ17β−ジア
シルオキシにアンモニア中のアルカリ金属及びハロゲン
化メチルを反応させて17位置のメチル化とし涛17位
置のアセチル官能基の異性化を同時に行なわせ、得られ
た17α−メチル−19−ノルプレグナ−1,5QQ)
16−テトラエン−6−アシルオキシ−20−オンを強
塩基水溶液によりけん化し、17α−メチル−19−ノ
ルプレグナ−1,45(11,6−テトラエン−3−オ
ール−20−オンの3位置のヒドロキシル官能基をジヒ
ドロビラン、塩化トリチル若しくは塩化トリメチルシリ
ル又はアルキル基を発生する物質よりなる群から違ばれ
る誘導体によってブロックして17α−メチル−19−
ノルプレグナ−Wasα1,6−テトラエン−3−RO
−20−オン(Rは上に記載の意味を有する。ただし、
水素は除く)を得、その21位置のメチル化を触媒の存
在下にハロゲン化メチルによって行なって17α、21
−ジメチル−19−/ルア’レグ+−’L45(lI+
6−?)フェン−3−RO−20−オン、即ちRが水素
でない一般式■の化合物を得、その3位置のヒドロキシ
ル官能基を酸の作用により遊離させてRが水素原子を表
わす一般式■の化合物を得、必要ならば3位置のヒドロ
キシル官能基をエーテル化してRが水素でない一般式■
の化合物を得ることを特徴とするものである。
好ましい実施条件下では、上記の方法は次の点によって
特徴づけられる。
特徴づけられる。
エチニル化剤はカリウムアセチリドであり、そしてその
処理はカリウムt−ブチラードの存在下にテトラヒトシ
フラン中で行なわれる。
処理はカリウムt−ブチラードの存在下にテトラヒトシ
フラン中で行なわれる。
3及び17位置のヒドロキシル官能基は無水酢酸により
エステル化され、そしてその処理はp−トルエンスルホ
ン酸の存在下に行なわれる。1〜18個の炭素原子を含
有する酸、中でもぎ酸、プルピオン酸、酪酸、イソ酪酸
、ウンデシル酸、シクロペンチル若しくはシクロヘキシ
ル酢酸、シクロペンチル若しくはシクロヘキシルプロピ
オン酸、フェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、p−ニ
トロ安息香酸又はトリフルオル酢酸のようなその他の酸
又はその官能性誘導体も用いることができる。
エステル化され、そしてその処理はp−トルエンスルホ
ン酸の存在下に行なわれる。1〜18個の炭素原子を含
有する酸、中でもぎ酸、プルピオン酸、酪酸、イソ酪酸
、ウンデシル酸、シクロペンチル若しくはシクロヘキシ
ル酢酸、シクロペンチル若しくはシクロヘキシルプロピ
オン酸、フェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、p−ニ
トロ安息香酸又はトリフルオル酢酸のようなその他の酸
又はその官能性誘導体も用いることができる。
17位tktのエチニル官能基の水和剤は酢酸第二水銀
で活性化されたダウエックス50樹脂であり、そして処
理はエタノール中で行なわれる。
で活性化されたダウエックス50樹脂であり、そして処
理はエタノール中で行なわれる。
17位置のメチル化及O゛アセチル官能基の異性化は、
アンモニア中のリチウム及びよう化メチルによって同時
に行なわれ、そして処理は冷却下にテトラヒドロフラン
中で行なわれる。
アンモニア中のリチウム及びよう化メチルによって同時
に行なわれ、そして処理は冷却下にテトラヒドロフラン
中で行なわれる。
3位置のアシルオキシ官能基はエタノール中で水酸化ナ
トリウムによってけん化される。
トリウムによってけん化される。
6位置のヒドロキシル官能基はジヒドロビランによって
ブロックされ、そして処理はテトラヒドロフラン中でp
−トルエンスルホン酸の存在下に行なわれる。
ブロックされ、そして処理はテトラヒドロフラン中でp
−トルエンスルホン酸の存在下に行なわれる。
21位置のメヂル化はカリウムt−ブチラードの存在下
によう化メチルによって行なわれ、そして処理はトルエ
ン中で行なわれる。
によう化メチルによって行なわれ、そして処理はトルエ
ン中で行なわれる。
6位置のヒドロキシル官能基を遊離化させる酸は、酢酸
水溶液又は塩酸のようなハロゲン酸である。
水溶液又は塩酸のようなハロゲン酸である。
6位置のヒドロキシル官能基をエーテル化させるように
餉くアルキル基を発生させる物質は硫酸ジメチルであり
、そして処理は水酸化ナトリウムの存在下に行なわれる
。
餉くアルキル基を発生させる物質は硫酸ジメチルであり
、そして処理は水酸化ナトリウムの存在下に行なわれる
。
既に示したように、一般式lの化合物は、トリチウム標
識付きステロイド誘導体の合成用の出発物質である。し
かして、本発明の主題をなすこの合成方法は、Rが水素
を除く先に記載の意味を有する一般式Iの化合物を触媒
の存在下にトリチウム化水素全作用させて還元し、生成
した(6.7−sH〕17α121−ジメチル−19−
ノルプレグナ−1,3,5(IQ) −)ジエン−5−
RO−20−オンに、Rがメチル基を表わすときは、バ
ーチ反応によりアンモニア中のリチウムを直接作用させ
て(47−”H] 17 α+ 21− ” l f
/’ −19−7ルプレグナ−2,5(II−ジエン−
3−メトキシ−20ξ−オールを得るか又は、Rがメチ
ル基以外の基を表わすとさ&j:、酸を作用させて3位
置のヒドロキシル官能基をWll[fさせ、硫酸ジメチ
ルを反応させ、化シタ(6,7−” H) 17ar
21− シJ f ルー19−ノルプレグナ−1,5,
5(II刃−トリエンー6一メトギシ−20−オンにバ
ーチ反応によりアンモニア中のリチウムを作用させて同
様に(6,7−” H)17α、21−ジメチル−19
−ノルプレグナ−2,5αQ−ジエン−3−メトキシ−
20ξ−オールを得、これに酢酸のような弱酸水溶液を
反応させて(6,7−” H)17α、21−ジメチル
−19−ノルプレグナ−5Ql−エン−20ξ−オール
−6−オンを得、これにピリジニウムペルプロミドを作
用させ、生じた〔へ7−”H)17α、21−ジメチル
−19−フルプレグナ−4,9−ジエン−20ξ−オー
ル−3−オンにクロム硫酸水溶液を反応させて所望の〔
へ7−”H)17α、21−ジメチル−19−ノルプレ
グナ−4,9−ジエン−3,20−ジオンを形成させる
ことを特徴とする。
識付きステロイド誘導体の合成用の出発物質である。し
かして、本発明の主題をなすこの合成方法は、Rが水素
を除く先に記載の意味を有する一般式Iの化合物を触媒
の存在下にトリチウム化水素全作用させて還元し、生成
した(6.7−sH〕17α121−ジメチル−19−
ノルプレグナ−1,3,5(IQ) −)ジエン−5−
RO−20−オンに、Rがメチル基を表わすときは、バ
ーチ反応によりアンモニア中のリチウムを直接作用させ
て(47−”H] 17 α+ 21− ” l f
/’ −19−7ルプレグナ−2,5(II−ジエン−
3−メトキシ−20ξ−オールを得るか又は、Rがメチ
ル基以外の基を表わすとさ&j:、酸を作用させて3位
置のヒドロキシル官能基をWll[fさせ、硫酸ジメチ
ルを反応させ、化シタ(6,7−” H) 17ar
21− シJ f ルー19−ノルプレグナ−1,5,
5(II刃−トリエンー6一メトギシ−20−オンにバ
ーチ反応によりアンモニア中のリチウムを作用させて同
様に(6,7−” H)17α、21−ジメチル−19
−ノルプレグナ−2,5αQ−ジエン−3−メトキシ−
20ξ−オールを得、これに酢酸のような弱酸水溶液を
反応させて(6,7−” H)17α、21−ジメチル
−19−ノルプレグナ−5Ql−エン−20ξ−オール
−6−オンを得、これにピリジニウムペルプロミドを作
用させ、生じた〔へ7−”H)17α、21−ジメチル
−19−フルプレグナ−4,9−ジエン−20ξ−オー
ル−3−オンにクロム硫酸水溶液を反応させて所望の〔
へ7−”H)17α、21−ジメチル−19−ノルプレ
グナ−4,9−ジエン−3,20−ジオンを形成させる
ことを特徴とする。
本発明の合成方法を実施するのに必要な中間体としての
下記の化合物がある。
下記の化合物がある。
〔へ7−”H)17α、21−ジメチル−19−ノルプ
レグナ−1,3,5(+(J)−トリエン−6−メドキ
シー20−オン、 (6,7−”H) 17α、21−ジメチル−19−ノ
ルプレグナ−2,5QOI−ジエン−3−メトキシ−2
0ξ−オール、 (6,7−”H)17ff、21−1メ−1−ルー19
−ノルプレグナ−5(Il−エン−20ξ−オール−6
−オン及び (6,7−”H)17α、21−ジメチル−19−ノル
プレグナ−4,9−ジエン−20ξ−オール−3−オン
。
レグナ−1,3,5(+(J)−トリエン−6−メドキ
シー20−オン、 (6,7−”H) 17α、21−ジメチル−19−ノ
ルプレグナ−2,5QOI−ジエン−3−メトキシ−2
0ξ−オール、 (6,7−”H)17ff、21−1メ−1−ルー19
−ノルプレグナ−5(Il−エン−20ξ−オール−6
−オン及び (6,7−”H)17α、21−ジメチル−19−ノル
プレグナ−4,9−ジエン−20ξ−オール−3−オン
。
これらの化合物の中でも、(6,7−”a)17α。
21−ジメチル−19−ノルプレグナ−λ50G−ジエ
ンー3−メトキシー20ξ−オールが特に興味がある。
ンー3−メトキシー20ξ−オールが特に興味がある。
これらの化合物は、特に、50 Ci /mM程度の比
放射1、・ヒを有する(6.7−IH)17α、21−
ジメチル−19−ノルプレグナ−4,9−ジエン−42
0−ジオンを導く。
放射1、・ヒを有する(6.7−IH)17α、21−
ジメチル−19−ノルプレグナ−4,9−ジエン−42
0−ジオンを導く。
この後者の化合物は、子宮シトシル若しくは腫瘍細胞(
子宮癌)のシクロプラズム中の又はラットにおいてDM
BA(9,10−ジメチル−1,2−ベンゾアントラセ
ン)により起された誘発腫瘍中のプロゲステロン特異受
容体を容易に測定せしめる0 この化合物は、プロゲステロンの場合と同じようにトラ
ンスフルチンに結合しないという利点を有する。さらに
、この化合物は、上記プロゲステロンの特異受容体に対
する親和力が同プロゲステロンの親和性よりも6〜8倍
大きい。
子宮癌)のシクロプラズム中の又はラットにおいてDM
BA(9,10−ジメチル−1,2−ベンゾアントラセ
ン)により起された誘発腫瘍中のプロゲステロン特異受
容体を容易に測定せしめる0 この化合物は、プロゲステロンの場合と同じようにトラ
ンスフルチンに結合しないという利点を有する。さらに
、この化合物は、上記プロゲステロンの特異受容体に対
する親和力が同プロゲステロンの親和性よりも6〜8倍
大きい。
プロゲステロン受容体を特徴づけるために〔6,7−’
H)17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−4
,9−ジエン−5,20−ジオンな使用することは、多
くの刊行物、例えば、J、P。
H)17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−4
,9−ジエン−5,20−ジオンな使用することは、多
くの刊行物、例えば、J、P。
Raynauds D、 Ph1llb@rt 両
氏、St@roid %July197!i、P、89
−97に記載されティる。
氏、St@roid %July197!i、P、89
−97に記載されティる。
一般式Iの化合物の製造法の出発物質であるエストラ−
1,3,5Q■、6−テトラエン−3−オール−1フー
オンは、米国特許第2.280.828 に記載され
ている。
1,3,5Q■、6−テトラエン−3−オール−1フー
オンは、米国特許第2.280.828 に記載され
ている。
下記の例は本発明を例示するもので、これを制限するも
のではない。
のではない。
例 1:17α、21−ジメチル−19−ノルプ約+2
℃に冷却された470CCのテトラヒドロフランの溶液
にアセチレンを吠き込み、2&5.9のカリウムt−ブ
チラード、次いで43ccのヘキサメチルホスホルトリ
アミドを導入する。+2℃で40分かきまぜ、1175
.9のエストラ−1,450ill)、6−テトラエン
−3−オール−1フーオンを350 ccのテトラヒド
ロフランに溶解してなる溶液を加える。アセチレンをま
だ吹き込みながら反応混合物を+2℃で2時間かきまぜ
、次いで500CCの水を導入し、酢酸を加えてpH5
〜6トスる。有機相をデカンテーションし、エーテルで
抽出し、水洗し、脱水し、活性炭で処理し、真空f過し
、減圧下に濃縮乾固する。(五9gの所期化合物を得、
これはそのまま次の工程に用いる(塩化メチレンから再
結晶させたこの生成物の試料は、178℃に等しい融点
を有する。))この工程の出発時で用いたエストラ−1
,45(tt)、6−テトラエン−3−オール−1フー
オンは、米国特許第2.280.828号に記載されて
いる。
℃に冷却された470CCのテトラヒドロフランの溶液
にアセチレンを吠き込み、2&5.9のカリウムt−ブ
チラード、次いで43ccのヘキサメチルホスホルトリ
アミドを導入する。+2℃で40分かきまぜ、1175
.9のエストラ−1,450ill)、6−テトラエン
−3−オール−1フーオンを350 ccのテトラヒド
ロフランに溶解してなる溶液を加える。アセチレンをま
だ吹き込みながら反応混合物を+2℃で2時間かきまぜ
、次いで500CCの水を導入し、酢酸を加えてpH5
〜6トスる。有機相をデカンテーションし、エーテルで
抽出し、水洗し、脱水し、活性炭で処理し、真空f過し
、減圧下に濃縮乾固する。(五9gの所期化合物を得、
これはそのまま次の工程に用いる(塩化メチレンから再
結晶させたこの生成物の試料は、178℃に等しい融点
を有する。))この工程の出発時で用いたエストラ−1
,45(tt)、6−テトラエン−3−オール−1フー
オンは、米国特許第2.280.828号に記載されて
いる。
、6−
1五9.9の工程1で得られた化合物、1.04Iiの
p−)ルエンスルホン酸と33ccの無水酢酸との混合
物を周囲温度で2時間30分かきまぜる。
p−)ルエンスルホン酸と33ccの無水酢酸との混合
物を周囲温度で2時間30分かきまぜる。
真空沢過し、酢酸で洗浄し、次いで洗浄水が中性となる
まで水洗し、乾燥する。1t111の所期化合物を得る
。MP=189−190℃。
まで水洗し、乾燥する。1t111の所期化合物を得る
。MP=189−190℃。
1105gの工程2で得られた化合物を165ccのエ
タノールに加えてなる懸濁に22IIの酢酸第二水銀で
活性化させたダウエックスso樹脂(強酸型イオン交換
樹脂)を加え、16時間還流させる。次いで熱r過し、
エタノールで洗浄し、濃縮乾固する。得られた残留物に
44ccの熱水ピリジンと22ccの無水酢酸を加え、
周囲温度で2時間かきまぜる。氷水を加えた後、結晶質
生成物を得、真空V過し、水洗し、80℃のオーブンで
乾燥する。10.92.j7の所期化合物を回収する。
タノールに加えてなる懸濁に22IIの酢酸第二水銀で
活性化させたダウエックスso樹脂(強酸型イオン交換
樹脂)を加え、16時間還流させる。次いで熱r過し、
エタノールで洗浄し、濃縮乾固する。得られた残留物に
44ccの熱水ピリジンと22ccの無水酢酸を加え、
周囲温度で2時間かきまぜる。氷水を加えた後、結晶質
生成物を得、真空V過し、水洗し、80℃のオーブンで
乾燥する。10.92.j7の所期化合物を回収する。
MP=196℃。
一70℃に冷却した150CCのアンモニアと570■
のリチウムとの混合物を15分間接触させておき、次い
で150CCのテトラヒドロフランを加え、−68℃に
冷却し、In88gの工程3で得られた化合物を導入し
、不活性雰囲気中で1時間45分かきまぜる。次いで、
10分間にわたって44 ccのよう化メチルを加え、
反応混合物を一69℃で1h間30分保ち、反応温度を
+15〜20℃に戻す。反応混合物を水中に注ぎ、エー
テルで抽出し、中性になるまで水洗し、脱水し、減圧下
に濃縮乾固する。得られた残留物をシリカでクロマトグ
ラフィーし、酢酸エチルとベンゼンとの混合物(1:9
)で溶離する。しかして、所期化合物を含む3.229
の結晶質生成物の画分を回収する。この両分に13cc
のピリジンと6.5 ccの無水酢酸を加え、密封容器
中で1時間30分かきまぜ、氷を加え、水で希釈し、真
空沢過し、水洗し、乾燥する。その残留物をシリカでり
pマドグラフィーし、エーテルと石油エーテル(BP=
60−80°C)との混合物(2;8)で溶離し、17
1gの所期化合物を得る。MP=140−142℃。
のリチウムとの混合物を15分間接触させておき、次い
で150CCのテトラヒドロフランを加え、−68℃に
冷却し、In88gの工程3で得られた化合物を導入し
、不活性雰囲気中で1時間45分かきまぜる。次いで、
10分間にわたって44 ccのよう化メチルを加え、
反応混合物を一69℃で1h間30分保ち、反応温度を
+15〜20℃に戻す。反応混合物を水中に注ぎ、エー
テルで抽出し、中性になるまで水洗し、脱水し、減圧下
に濃縮乾固する。得られた残留物をシリカでクロマトグ
ラフィーし、酢酸エチルとベンゼンとの混合物(1:9
)で溶離する。しかして、所期化合物を含む3.229
の結晶質生成物の画分を回収する。この両分に13cc
のピリジンと6.5 ccの無水酢酸を加え、密封容器
中で1時間30分かきまぜ、氷を加え、水で希釈し、真
空沢過し、水洗し、乾燥する。その残留物をシリカでり
pマドグラフィーし、エーテルと石油エーテル(BP=
60−80°C)との混合物(2;8)で溶離し、17
1gの所期化合物を得る。MP=140−142℃。
オン
to′5yの工程Aで得られた化合物を20ccの無水
エタノールと2.9 ccの1N水酸化ナトリウムに加
えてなる懸濁液を不活性雰囲気下に20℃で1時間かき
まぜる。反応混合物を酢酸の添加によりpH=5〜6と
なし、水で希釈し、真空f過し、水洗し、乾燥する。8
05m9Hgの所期化合物を得る。MP=252℃。
エタノールと2.9 ccの1N水酸化ナトリウムに加
えてなる懸濁液を不活性雰囲気下に20℃で1時間かき
まぜる。反応混合物を酢酸の添加によりpH=5〜6と
なし、水で希釈し、真空f過し、水洗し、乾燥する。8
05m9Hgの所期化合物を得る。MP=252℃。
0.8gの工程5で得られた化合物、16ccのテトラ
ヒドロフラン、0.8ccのジヒドロビラン及び16■
のp−)ルエンスルホン酸の混合物を不活性雰囲気下に
20℃で1時間30分がきまぜる。
ヒドロフラン、0.8ccのジヒドロビラン及び16■
のp−)ルエンスルホン酸の混合物を不活性雰囲気下に
20℃で1時間30分がきまぜる。
次いで0.4 ccのジヒドロピランを加え、20’C
で4時間保ち、10ccの重炭酸ナトリウム飽和溶液を
加え、酢酸エチルで抽出し、水洗し、脱水し、濃縮乾固
する。得られた残留物をクリ力でクロマトグラフィーし
、ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(9:1)で溶l1
ll#シて精製する。11の所期化合物を回収する。M
P:l:124℃。
で4時間保ち、10ccの重炭酸ナトリウム飽和溶液を
加え、酢酸エチルで抽出し、水洗し、脱水し、濃縮乾固
する。得られた残留物をクリ力でクロマトグラフィーし
、ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(9:1)で溶l1
ll#シて精製する。11の所期化合物を回収する。M
P:l:124℃。
不活性雰囲気下に7409の工程6で得られた化合物を
7.5ccのトルエンに溶解し、次いで420■のカリ
ウム−t−ブチラードを加える。そのように得られた溶
液を20℃で15分かきまぜ、[1L475CCのよう
化メチルを加え、周囲温度で一夜放置する。水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、洗浄水が中性になるまで水洗し
、脱水し、減圧下に濃縮乾固する。その残留物をシリカ
でクロマトグラフィーし、ベンゼンと酢酸エチルとの混
合物(9:1)で溶離して精製し、二つの両分、一つは
4951n9の所期化合物を含有するもの、他方は出発
物質と所期化合物との混合物を含有するものを得る。後
者の両分を上記のように処理した後、合計で612■の
所期化合物を樹脂状物の形で得る。Rf = [+、
45゜ α57gの工程7で得られた化合物を20%の水を含有
する5、 8 ccの酢酸に溶解してなる溶液を50℃
で1時間かきまぜる。次いで反応混合物を水中に注ぎ、
塩化メチレンで抽出し、水洗し、脱水し、減圧下に濃縮
乾固する。その残留物をベンゼンと酢酸エチルとの混合
物(9:1)、次いでエーテルと石油エーテル(BP=
60〜80℃)を溶離液としてシリカで2回り四マドグ
ラフィーした後、73〃l夕の所期化合物を得る。MP
=209℃。
7.5ccのトルエンに溶解し、次いで420■のカリ
ウム−t−ブチラードを加える。そのように得られた溶
液を20℃で15分かきまぜ、[1L475CCのよう
化メチルを加え、周囲温度で一夜放置する。水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、洗浄水が中性になるまで水洗し
、脱水し、減圧下に濃縮乾固する。その残留物をシリカ
でクロマトグラフィーし、ベンゼンと酢酸エチルとの混
合物(9:1)で溶離して精製し、二つの両分、一つは
4951n9の所期化合物を含有するもの、他方は出発
物質と所期化合物との混合物を含有するものを得る。後
者の両分を上記のように処理した後、合計で612■の
所期化合物を樹脂状物の形で得る。Rf = [+、
45゜ α57gの工程7で得られた化合物を20%の水を含有
する5、 8 ccの酢酸に溶解してなる溶液を50℃
で1時間かきまぜる。次いで反応混合物を水中に注ぎ、
塩化メチレンで抽出し、水洗し、脱水し、減圧下に濃縮
乾固する。その残留物をベンゼンと酢酸エチルとの混合
物(9:1)、次いでエーテルと石油エーテル(BP=
60〜80℃)を溶離液としてシリカで2回り四マドグ
ラフィーした後、73〃l夕の所期化合物を得る。MP
=209℃。
分 析 ” 2! Hjlll o2計算:0%81
.45d%8.70 実測: 80.9 8.7 シー20−オン 50Tn9の工程8で得られた化合物、5 ccのアセ
トン及び3CCの2N水酸化ナトリウムの混合物を菫流
させ、05CCの硫酸ジメチルと2 ccの2N水酸化
す) IJウムを加えた。10分間放置し、反応混合物
に0.5 ccの硫酸ジメチルと2 ccの2N水酸化
ナトリウムを加える。その溶液を10分間かきまぜ、1
0CCの水を注ぎ、ベンゼンで抽出し、水洗し、脱水し
、蒸発乾固する。57 n19の所期化合物を結晶形と
して得る(ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(7:3)
を溶離液としてクリ力でクロマトグラフィー、Rf =
0.7 )。
.45d%8.70 実測: 80.9 8.7 シー20−オン 50Tn9の工程8で得られた化合物、5 ccのアセ
トン及び3CCの2N水酸化ナトリウムの混合物を菫流
させ、05CCの硫酸ジメチルと2 ccの2N水酸化
す) IJウムを加えた。10分間放置し、反応混合物
に0.5 ccの硫酸ジメチルと2 ccの2N水酸化
ナトリウムを加える。その溶液を10分間かきまぜ、1
0CCの水を注ぎ、ベンゼンで抽出し、水洗し、脱水し
、蒸発乾固する。57 n19の所期化合物を結晶形と
して得る(ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(7:3)
を溶離液としてクリ力でクロマトグラフィー、Rf =
0.7 )。
オン
10m9のパラジウム担持炭、57■の17α。
21−ジメチル−19−ノルプレグナ−c 3. s
0(1)。
0(1)。
6−テトラエン−3−メトキシ−20−オン及び15d
の酢酸エチルよりなる反応混合物を液体窒素で冷却し、
次いで0℃常圧下で真空下に2,950mC1/ccの
比放射能を有する3、 86 ccのトリチウムを導入
する。次いでその反応混合物を周囲温度に戻し、3時間
かきまぜ続け、過剰のトリチウムを回収し、1過し、溶
媒を減圧下に留失し、不要トリチウムを除去した後、5
1C1/mモルの比放射能を有する44■の所望の(6
,7−”H:) 17α。
の酢酸エチルよりなる反応混合物を液体窒素で冷却し、
次いで0℃常圧下で真空下に2,950mC1/ccの
比放射能を有する3、 86 ccのトリチウムを導入
する。次いでその反応混合物を周囲温度に戻し、3時間
かきまぜ続け、過剰のトリチウムを回収し、1過し、溶
媒を減圧下に留失し、不要トリチウムを除去した後、5
1C1/mモルの比放射能を有する44■の所望の(6
,7−”H:) 17α。
21−ジメチル−19−ノルプレグナ−t 3.5 (
101−トリエン−6−メドキシー20−オンを得る。
101−トリエン−6−メドキシー20−オンを得る。
−35℃〜−40℃の間に冷却した25ccのアンモニ
アに44ダの(47−”H)17α、21−ジメチル−
19−ノルプレグナ−t5,5θ0)−トリエン−3−
メトキシ−20−オン、5CCのテトラヒドロフラン、
α5CCのエタノール及び200f!19のリチウムを
加える。その反応混合物を一35℃で1時間かきまぜ続
け、次いで10分間にわたり10ccのエタノールを加
え、次いで周囲温度に戻すことによりアンモニアを除去
し、塩化メチレンで数回抽出し、硫酸す) IJウムで
脱水し、減圧下に蒸発させ、48■の(6,7−”H)
17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−2,5
Ql−ジエン−3−メトキシ−20ξ−オールを樹脂状
物として得、これはそのまま次の合成工程に用いる。
アに44ダの(47−”H)17α、21−ジメチル−
19−ノルプレグナ−t5,5θ0)−トリエン−3−
メトキシ−20−オン、5CCのテトラヒドロフラン、
α5CCのエタノール及び200f!19のリチウムを
加える。その反応混合物を一35℃で1時間かきまぜ続
け、次いで10分間にわたり10ccのエタノールを加
え、次いで周囲温度に戻すことによりアンモニアを除去
し、塩化メチレンで数回抽出し、硫酸す) IJウムで
脱水し、減圧下に蒸発させ、48■の(6,7−”H)
17α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−2,5
Ql−ジエン−3−メトキシ−20ξ−オールを樹脂状
物として得、これはそのまま次の合成工程に用いる。
工程C:[6,7−”H〕17α、21−ジメチル−ル
ー6−オン 25%の水を含有する2 ccの酢酸に、不活性ガスを
吹き込み且つかきまぜながら、48■の〔47−”H:
117α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−2,
50(2)−ジエン−3−メトキシ−20ξ−オールを
導入する。5時間かきまぜ続け、次いで水を数回加え、
生成物を真空沢過し、これを水、酸性炭酸す) IJウ
ム飽和溶液、次いで水で順次洗浄し、減圧下に乾燥し、
生成物を塩化メチレンとイソプロピルエーテルとの混合
物から再結晶して精製する。50■の所期化合物を得る
。
ー6−オン 25%の水を含有する2 ccの酢酸に、不活性ガスを
吹き込み且つかきまぜながら、48■の〔47−”H:
117α、21−ジメチル−19−ノルプレグナ−2,
50(2)−ジエン−3−メトキシ−20ξ−オールを
導入する。5時間かきまぜ続け、次いで水を数回加え、
生成物を真空沢過し、これを水、酸性炭酸す) IJウ
ム飽和溶液、次いで水で順次洗浄し、減圧下に乾燥し、
生成物を塩化メチレンとイソプロピルエーテルとの混合
物から再結晶して精製する。50■の所期化合物を得る
。
−ルー3−オン
周囲温度でかきまぜながら、0.5ccのピリジンに5
0■の(6,7−+H)17α、21−ジメチル−19
−ノルプレグナ−5Q■−エン−2oξ−オール−3−
オンを導入する。次いで約−14℃に冷却し、45分間
にわたって35■のピリジニウムペルプロミドを導入す
る。反応混合物を上記温度で45分間保ち、次いで温度
を再び約20°Cに上昇させる。暗所で且つ周囲湯度で
18時間かきまぜ続け、水、氷及び塩酸の混合物(EM
5:2)に注入し、45分かきまぜ、真空f過し、中性
になるまで水洗し、乾燥し、52■の所期化合物を得る
。この化合物は、そのまま次の合成工程に用いることが
できる。
0■の(6,7−+H)17α、21−ジメチル−19
−ノルプレグナ−5Q■−エン−2oξ−オール−3−
オンを導入する。次いで約−14℃に冷却し、45分間
にわたって35■のピリジニウムペルプロミドを導入す
る。反応混合物を上記温度で45分間保ち、次いで温度
を再び約20°Cに上昇させる。暗所で且つ周囲湯度で
18時間かきまぜ続け、水、氷及び塩酸の混合物(EM
5:2)に注入し、45分かきまぜ、真空f過し、中性
になるまで水洗し、乾燥し、52■の所期化合物を得る
。この化合物は、そのまま次の合成工程に用いることが
できる。
オン
521ψの(6,7−”H) 17α、21−ジメチル
−19−ノルプレグナ−4,9(10)−ジエン−20
ξ−オール−3−オンを4 ccのアセトンにかきまぜ
ながら尋人する。完全に溶解した後、25℃を趙えない
温度で、5.1#の無水クロム酸、4.6ccの硫酸及
び20ccの水を含有する0、 01 ccのクロム硫
酸溶液を加える。この操作を2回以上繰り返す。
−19−ノルプレグナ−4,9(10)−ジエン−20
ξ−オール−3−オンを4 ccのアセトンにかきまぜ
ながら尋人する。完全に溶解した後、25℃を趙えない
温度で、5.1#の無水クロム酸、4.6ccの硫酸及
び20ccの水を含有する0、 01 ccのクロム硫
酸溶液を加える。この操作を2回以上繰り返す。
生じた反応混合物に数回水を加え、35℃以下の温度で
減圧蒸留し、次いで瀘圧下に20℃に冷却する。真空f
過し、その件留物を中性となるまで洗浄し、50mりの
生成物を得、これを薄ルクロマトグラフィー(ベンゼン
と酢酸エチル85:15)で精製して9′mQの所期化
合物、を得る。その比放射能は51.4 C17mMで
あった。
減圧蒸留し、次いで瀘圧下に20℃に冷却する。真空f
過し、その件留物を中性となるまで洗浄し、50mりの
生成物を得、これを薄ルクロマトグラフィー(ベンゼン
と酢酸エチル85:15)で精製して9′mQの所期化
合物、を得る。その比放射能は51.4 C17mMで
あった。
Claims (1)
- (1)次の一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここでRは1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基
又はテトラヒドロピラニル、トリチル若しくはトリメチ
ルシリル基を表わす) のステロイドを触媒の存在下にトリチウム化水素を作用
させて還元し、生成した〔6,7−^3H〕17α、2
1−ジメチル−19−ノルプレグナ−1,3,5(10
)−トリエン−3−RO−20−オンに、Rがメチル基
を表わすときは、アンモニア中のリチウムを直接作用さ
せて〔6,7−^3H〕17α,21−ジメチル−19
−ノルプレグナ−2,5(10)−ジエン−3−メトキ
シ−20ξ−オールを得るか又は、Rがメチル基以外の
前記の基を表わすときは、酸を作用させて3位置のヒド
ロキシル官能基を遊離させ、硫酸ジメチルを反応させ、
生じた〔6,7−^3H〕17α,21−ジメチル−1
9−ノルプレグナ−1,3,5(10)−トリエン−3
−メトキシ−20−オンにアンモニア中のリチウムを作
用させて同様に〔6,7−^3H〕17α,21−ジメ
チル−19−ノルプレグナ−2,5(10)−ジエン−
3−メトキシ−20ξ−オールを得、これに弱酸水溶液
を作用させて〔6,7−^3H〕17α,21−ジメチ
ル−19−ノルプレグナ−5(10)−エン−20ξ−
オール−3−オンを得、これにピリジニウムペルプロミ
ドを作用させ、生じた(6,7−^3H〕17α,21
−ジメチル−19−ノルプレグナ−4,9−ジエン−2
0ξ−オール−3−オンにクロム硫酸水溶液を反応させ
て所望の〔6,7−^3H〕17α,21−ジメチル−
19−ノルプレグナ−4,9−ジエン−3,20−ジオ
ンを形成させることを特徴とするトリチウム標識付きス
テロイドの合成方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7637623A FR2374335A1 (fr) | 1976-12-14 | 1976-12-14 | Nouveaux steroides, leur procede de preparation et leur application dans la synthese de steroides marques au tritium |
FR76-37623 | 1976-12-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61225195A true JPS61225195A (ja) | 1986-10-06 |
JPS6360038B2 JPS6360038B2 (ja) | 1988-11-22 |
Family
ID=9181041
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14890477A Granted JPS5373553A (en) | 1976-12-14 | 1977-12-13 | Novel steroid process for preparing same and method of using same for synthesizing tritium labelled steroid |
JP61016008A Granted JPS61225195A (ja) | 1976-12-14 | 1986-01-29 | トリチウム標識付きステロイドの合成 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14890477A Granted JPS5373553A (en) | 1976-12-14 | 1977-12-13 | Novel steroid process for preparing same and method of using same for synthesizing tritium labelled steroid |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4152325A (ja) |
JP (2) | JPS5373553A (ja) |
CH (1) | CH626378A5 (ja) |
DE (1) | DE2755818A1 (ja) |
FR (1) | FR2374335A1 (ja) |
GB (1) | GB1578900A (ja) |
NL (1) | NL7713768A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2430953A1 (fr) * | 1978-07-13 | 1980-02-08 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives 3,20-dioxo 4,9-diene 21-hydroxyle, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
US7910755B2 (en) * | 2004-09-29 | 2011-03-22 | Harbor Biosciences, Inc. | Stem cell expansion and uses |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB853012A (en) * | 1958-06-26 | 1960-11-02 | British Drug Houses Ltd | 1:6-dimethyl aromatic steroids and the preparation thereof |
NL124323C (ja) * | 1963-03-27 | |||
FR2077877B1 (ja) * | 1970-02-20 | 1974-02-01 | Roussel Uclaf | |
US3709878A (en) * | 1970-07-20 | 1973-01-09 | Sandoz Ag | 8 alpha-methyl-substituted-steroids |
FR2149302A1 (en) * | 1971-08-19 | 1973-03-30 | Roussel Uclaf | 21-methyl pregnadienes prepn - used as progestomimetics |
-
1976
- 1976-12-14 FR FR7637623A patent/FR2374335A1/fr active Granted
-
1977
- 1977-11-28 US US05/855,177 patent/US4152325A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-13 JP JP14890477A patent/JPS5373553A/ja active Granted
- 1977-12-13 NL NL7713768A patent/NL7713768A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-12-14 GB GB51969/77A patent/GB1578900A/en not_active Expired
- 1977-12-14 CH CH1538977A patent/CH626378A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1977-12-14 DE DE19772755818 patent/DE2755818A1/de not_active Ceased
-
1986
- 1986-01-29 JP JP61016008A patent/JPS61225195A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2755818A1 (de) | 1978-06-15 |
JPS5373553A (en) | 1978-06-30 |
JPS6126797B2 (ja) | 1986-06-21 |
NL7713768A (nl) | 1978-06-16 |
GB1578900A (en) | 1980-11-12 |
FR2374335B1 (ja) | 1979-03-30 |
JPS6360038B2 (ja) | 1988-11-22 |
US4152325A (en) | 1979-05-01 |
CH626378A5 (ja) | 1981-11-13 |
FR2374335A1 (fr) | 1978-07-13 |
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