JPS61220709A - 半透膜の洗浄方法 - Google Patents
半透膜の洗浄方法Info
- Publication number
- JPS61220709A JPS61220709A JP5827885A JP5827885A JPS61220709A JP S61220709 A JPS61220709 A JP S61220709A JP 5827885 A JP5827885 A JP 5827885A JP 5827885 A JP5827885 A JP 5827885A JP S61220709 A JPS61220709 A JP S61220709A
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- JP
- Japan
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- membrane
- washed
- semipermeable membrane
- water
- oxidizing agent
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- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は濾過操作によって濾過能力が低下した半透膜の
濾過能力の洗浄回復方法に関するものであり、半透膜の
利用技術の分野に関する発明である。
濾過能力の洗浄回復方法に関するものであり、半透膜の
利用技術の分野に関する発明である。
〈従来の技術〉
従来、半透膜の洗浄剤としては、次亜塩素酸ソーダ、金
属イオン封鎖剤、アルカリ類、中性洗剤、酵Ｘ洗剤等が
使用されており、例えば特開昭５２−１２０９７８号公
報、特開昭５２−１２２２８１号公報、特開昭５！１−
６０３８０号公報、特開昭５４−５８６８６号公報、特
開昭５８−８９９２０号公報等により知られている。
属イオン封鎖剤、アルカリ類、中性洗剤、酵Ｘ洗剤等が
使用されており、例えば特開昭５２−１２０９７８号公
報、特開昭５２−１２２２８１号公報、特開昭５！１−
６０３８０号公報、特開昭５４−５８６８６号公報、特
開昭５８−８９９２０号公報等により知られている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
近年、半透膜による分離技術が著しく進歩し、工業的分
野に広く適用されるようになった。例えば、電着塗料の
回収、ラテックスの濃縮、酵素の精製・濃縮等がある。
野に広く適用されるようになった。例えば、電着塗料の
回収、ラテックスの濃縮、酵素の精製・濃縮等がある。
しかしながら、これら分離分野において技術的に重要な
点は、膜の洗浄法、即ち、濾過能力の回復法である。即
ち、半透膜を通過しない菌類・コロイド物質・高分子有
機物・油状物等が、濾過の際膜表面に付着蓄積し、半透
膜の目詰りを起させたり、膜表面な濾滓が覆ってしまっ
たりする原因となっている。
点は、膜の洗浄法、即ち、濾過能力の回復法である。即
ち、半透膜を通過しない菌類・コロイド物質・高分子有
機物・油状物等が、濾過の際膜表面に付着蓄積し、半透
膜の目詰りを起させたり、膜表面な濾滓が覆ってしまっ
たりする原因となっている。
このような状態のもとでは濾過能力は経時的に低下する
ので、一定の濾過能力を維持するために、半透膜の表面
に蓄積した物質を何らかの方法で除去する必要がある。
ので、一定の濾過能力を維持するために、半透膜の表面
に蓄積した物質を何らかの方法で除去する必要がある。
しかしながら、上記従来技術では半透ＰＡ膜表面蓄積物
質を完全に除去する事に不可能でおり、半透膜を工業的
に利用する上で大きな問題点となっている。特に醗酵液
のように、菌体、タンパク質、多糖類、無機塩、消泡剤
等複雑な成分を有する液を濾過した場合には、半透膜の
汚染が激しくかつ複雑であり、有効な濾過能力の回復方
法がなく工業的な利用は困難であった。
質を完全に除去する事に不可能でおり、半透膜を工業的
に利用する上で大きな問題点となっている。特に醗酵液
のように、菌体、タンパク質、多糖類、無機塩、消泡剤
等複雑な成分を有する液を濾過した場合には、半透膜の
汚染が激しくかつ複雑であり、有効な濾過能力の回復方
法がなく工業的な利用は困難であった。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者等は、このように問題を有する半透膜の洗浄方
法について、より優れた洗浄剤を求めて鋭意研究を進め
た結果、優れた洗浄剤による洗浄方法を見出し本発明を
完成した。
法について、より優れた洗浄剤を求めて鋭意研究を進め
た結果、優れた洗浄剤による洗浄方法を見出し本発明を
完成した。
すなわちこの発明は、酸化剤または有機溶媒を半透膜に
触れさせたのち水洗し、その後該半透膜を、先に酸化剤
に触れさせた場合には有機溶媒に、また先に有機溶媒に
触れさせた場合には酸化剤に触れさせる事を特徴とする
半透膜の２段洗浄方法である。ここで用いる酸化剤とは
過酸化水素又は次亜塩素酸ソーダを指し、その濃度は過
酸化水素の場合は０．５〜１０％、好ましくは１〜５％
でおり、次亜塩素酸ソーダの場合は１０〜５００００ｐ
ｐｍ ％好ましくは１００〜２００００ ｐｐ＋ｎ？’
６６゜又、有機溶媒はエタノール、エチレングリコール
モノ酢酸エステル、エチレンクリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
クリコールジメチルエーテル、エチレンクリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テル、エチレングリコールモツプチルエーテル、エチレ
ングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコー
ル七ツメチルエーテル、クロロホルム、酢酸エチル、酢
酸エチル、ｎ−ヘキサンおよびシクロヘキサンからなる
群から選ばれ、これらのうち−極又は２棟以上を組合せ
たものが用いられる。
触れさせたのち水洗し、その後該半透膜を、先に酸化剤
に触れさせた場合には有機溶媒に、また先に有機溶媒に
触れさせた場合には酸化剤に触れさせる事を特徴とする
半透膜の２段洗浄方法である。ここで用いる酸化剤とは
過酸化水素又は次亜塩素酸ソーダを指し、その濃度は過
酸化水素の場合は０．５〜１０％、好ましくは１〜５％
でおり、次亜塩素酸ソーダの場合は１０〜５００００ｐ
ｐｍ ％好ましくは１００〜２００００ ｐｐ＋ｎ？’
６６゜又、有機溶媒はエタノール、エチレングリコール
モノ酢酸エステル、エチレンクリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
クリコールジメチルエーテル、エチレンクリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テル、エチレングリコールモツプチルエーテル、エチレ
ングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコー
ル七ツメチルエーテル、クロロホルム、酢酸エチル、酢
酸エチル、ｎ−ヘキサンおよびシクロヘキサンからなる
群から選ばれ、これらのうち−極又は２棟以上を組合せ
たものが用いられる。
この発明によれば、半透膜に付着＃積した汚染物質は充
分く除去され、ａｉ過能カが回復し、長期間の便用に供
することができる。又、この発明の適用分野は、半透膜
の汚染が激しくかつ複雑である醗酵液の濾過の分野が好
ましい。
分く除去され、ａｉ過能カが回復し、長期間の便用に供
することができる。又、この発明の適用分野は、半透膜
の汚染が激しくかつ複雑である醗酵液の濾過の分野が好
ましい。
この発明に用いられる半透膜の材質は、セルロースアセ
テート系１．パリエステル糸、ポリアクリ。
テート系１．パリエステル糸、ポリアクリ。
ロニトリル系、ポリスルホン系、ポリアミド糸環公知の
半透性膜材料、お工び公知の方法で平膜や中空糸膜に製
膜できる材料であって、前記洗浄剤におかされないもの
なら何でも良い。
半透性膜材料、お工び公知の方法で平膜や中空糸膜に製
膜できる材料であって、前記洗浄剤におかされないもの
なら何でも良い。
次に発明の実施例を示す。
〈実施例２
実施例１
グルタミン改ソーダの醗酵終了液をゾＶコートフィルタ
ーで１遇し、その濾液を原液として、第１表に示す性能
を有する中空糸状の半透膜（限外ｌ這過膜）を用いた内
圧式分離装置により（導通操作を行った。１４時間で’
Ａｏ ｔで［ｌｉして精製濾液を回収した。濾過後の透
水能力は０．０６ ｍ”／Ｈｒ・ｋｇ／ａｎ”・ａｔ
２５℃であり、能力の保持率に５％であった。上記濾過
能力低下後のモジュールを、常温下、次亜塩素酸ソーダ
２００００ ｐｐｍで５時間循環洗浄し、その仮１時１
４１水洗した。斐に、該モノニールをエチレングリコー
ルモツプチルエーテルで、常温下１時間長ａｔ洗浄し、
そのｆｉｋ２時間水洗した。洗浄後の透水率を第２表に
示す。
ーで１遇し、その濾液を原液として、第１表に示す性能
を有する中空糸状の半透膜（限外ｌ這過膜）を用いた内
圧式分離装置により（導通操作を行った。１４時間で’
Ａｏ ｔで［ｌｉして精製濾液を回収した。濾過後の透
水能力は０．０６ ｍ”／Ｈｒ・ｋｇ／ａｎ”・ａｔ
２５℃であり、能力の保持率に５％であった。上記濾過
能力低下後のモジュールを、常温下、次亜塩素酸ソーダ
２００００ ｐｐｍで５時間循環洗浄し、その仮１時１
４１水洗した。斐に、該モノニールをエチレングリコー
ルモツプチルエーテルで、常温下１時間長ａｔ洗浄し、
そのｆｉｋ２時間水洗した。洗浄後の透水率を第２表に
示す。
第１表 半透膜（限外濾過膜）の性能
実施例２
実施例１と同様にして濾過能力が低下したモジュールを
、常温下、次亜塩素酸ソーダ２（１０１３０ｐｐｍで５
時間循環洗浄し、その後１時間水洗した。
、常温下、次亜塩素酸ソーダ２（１０１３０ｐｐｍで５
時間循環洗浄し、その後１時間水洗した。
更ニ、該モジュールをエチレンクリコールモノエチルエ
ーテルで、常温下１時間浸漬洗浄し、その後２時間水洗
した。洗浄後の透水率を第２表に示す。
ーテルで、常温下１時間浸漬洗浄し、その後２時間水洗
した。洗浄後の透水率を第２表に示す。
実施例６
実施例１と同様にして濾過能力が低下したモジュールを
、常温下、次亜塩素酸ソーダ２ｏｏｏ。
、常温下、次亜塩素酸ソーダ２ｏｏｏ。
ｐｐｍで５時間循＃Ｊｅ／ｃ浄し、七〇ｇｋ１時間水洗
した。
した。
更に、該モノニールをエチレンゲリコール七ノメチルエ
ーテルで、常温・下１時間浸漬洗浄し、その後２時間水
洗した。洗浄後の透水率を第２表に示す。
ーテルで、常温・下１時間浸漬洗浄し、その後２時間水
洗した。洗浄後の透水率を第２表に示す。
比較例１〜５
実施例１と同様にして濾過能力が低下したモジュールを
、次亜塩素酸ソーダ２００００ ｐｐｍ （比較例１）
エチＶンジアミン四酢酸−２ナトリウム塩０．４％（比
較例２）、苛性ソーダ−１４（比較例６）、中性洗剤０
．２９６（比較例４）、酵素含有洗剤０．５％（比較例
４）で各々常温下１時間循環洗浄し、更に２時間水洗し
た後の透水率を第２表に示す。
Ｊ人工余白〈発明の効果〉 実施例及び比較例から明らかなとおり、この発明によれ
ば、−過能力が低下した半透膜を容易に洗浄して能力回
復を計ることができるので、半透膜の工業的利用におけ
る貢献度はきわめて大きい。
、次亜塩素酸ソーダ２００００ ｐｐｍ （比較例１）
エチＶンジアミン四酢酸−２ナトリウム塩０．４％（比
較例２）、苛性ソーダ−１４（比較例６）、中性洗剤０
．２９６（比較例４）、酵素含有洗剤０．５％（比較例
４）で各々常温下１時間循環洗浄し、更に２時間水洗し
た後の透水率を第２表に示す。
Ｊ人工余白〈発明の効果〉 実施例及び比較例から明らかなとおり、この発明によれ
ば、−過能力が低下した半透膜を容易に洗浄して能力回
復を計ることができるので、半透膜の工業的利用におけ
る貢献度はきわめて大きい。
Claims (1)
- （１）酸化剤又は有機溶媒を半透膜に触れさせた後水洗
し、その後該半透膜を、先に酸化剤に触れさせた場合に
は有機溶媒に、又先に有機溶媒に触れさせた場合には酸
化剤に触れさせる事を特徴とする半透膜の２段洗浄方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5827885A JPS61220709A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 半透膜の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5827885A JPS61220709A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 半透膜の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61220709A true JPS61220709A (ja) | 1986-10-01 |
Family
ID=13079718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5827885A Pending JPS61220709A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 半透膜の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61220709A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7972493B2 (en) | 2007-07-27 | 2011-07-05 | Gore Enterprise Holdings, Inc. | Filter wash for chloralkali process |
| CN103877860A (zh) * | 2012-12-21 | 2014-06-25 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种中空纤维膜接触器的再生方法 |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP5827885A patent/JPS61220709A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7972493B2 (en) | 2007-07-27 | 2011-07-05 | Gore Enterprise Holdings, Inc. | Filter wash for chloralkali process |
| CN103877860A (zh) * | 2012-12-21 | 2014-06-25 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种中空纤维膜接触器的再生方法 |
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