JPS61220106A - 垂直磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
垂直磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61220106A JPS61220106A JP6167985A JP6167985A JPS61220106A JP S61220106 A JPS61220106 A JP S61220106A JP 6167985 A JP6167985 A JP 6167985A JP 6167985 A JP6167985 A JP 6167985A JP S61220106 A JPS61220106 A JP S61220106A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- finished
- main
- main magnetic
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、垂直磁気記録装置に利用される垂直磁気ヘッ
ドの製造方法に関するものである。
ドの製造方法に関するものである。
従来の技術
一般にこの種の垂直磁気ヘッドは第１０図および第１１
図に示すように形成されている。すなわち、高透磁率磁
性体１と非磁性体２とを接着部３で接着したブロック４
を二個形成し、これらのブロック４の一面５に薄膜技術
により主磁極６を形成し、この主磁極６を二つのブロッ
ク４により挟持しているものである。
図に示すように形成されている。すなわち、高透磁率磁
性体１と非磁性体２とを接着部３で接着したブロック４
を二個形成し、これらのブロック４の一面５に薄膜技術
により主磁極６を形成し、この主磁極６を二つのブロッ
ク４により挟持しているものである。
発明が解決しようとする問題点
このような垂直磁気ヘッドを製造するには、主磁極６を
形成するためにブロック４の一面５を鏡面仕上しなけれ
ばならないが、この鏡面仕上時に高透磁率磁性体１と非
磁性体２との同時研磨のために接着部３に凹部もしくは
段差が発生し易い。
形成するためにブロック４の一面５を鏡面仕上しなけれ
ばならないが、この鏡面仕上時に高透磁率磁性体１と非
磁性体２との同時研磨のために接着部３に凹部もしくは
段差が発生し易い。
このような凹部や段差の発生を防止するためには高透磁
率磁性体１と非磁性体２との接着をガラス接着により行
なえばよいが、このガラス接着では生産性が低いと云う
欠点を有する。
率磁性体１と非磁性体２との接着をガラス接着により行
なえばよいが、このガラス接着では生産性が低いと云う
欠点を有する。
問題点を解決するための手段
鏡面仕上された非磁性体の一面に薄膜技術により主磁極
薄膜を形成し、この主磁極薄膜をエツチングして所定の
パターンを形成し、この上にそれぞれ鏡面仕上された非
磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定し、その後に必要
形状に機械加工する。
薄膜を形成し、この主磁極薄膜をエツチングして所定の
パターンを形成し、この上にそれぞれ鏡面仕上された非
磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定し、その後に必要
形状に機械加工する。
作用
このように主磁極薄膜が形成された一つの非磁性体に鏡
面仕上された非磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定す
るようにしたので、接着部を含む面の研磨工程がなく、
これにより、合成樹脂による軟質な接着剤を用いても凹
部や段部が生じることがなく、安定した品質のものが得
られ、かつ。
面仕上された非磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定す
るようにしたので、接着部を含む面の研磨工程がなく、
これにより、合成樹脂による軟質な接着剤を用いても凹
部や段部が生じることがなく、安定した品質のものが得
られ、かつ。
その生産性も高いものである。
実施例
本発明の第一の実施例を第１図ないし第６図に基づいて
説明する。まず、第１図に示すように平板状の非磁性体
７が設けられている。この非磁性体７は、５ｉ３Ｎ４ｓ
Ａｌ、Ｏ，、ＳｉＣ，ＺｒＯ２゜Ｂ Ｎ 、 Ｔ ｉ
Ｃａ Ｏ２＋ Ｔ ｘ Ｂ ａ Ｏ３、Ａ ｌ ｚ Ｏ
３ＴｉＣ等のセラミックス材料または結晶化硝子、ガラ
ス状カーボン等よりなる。このような非磁性体７のある
程度の面積のある一面８を鏡面仕上する。
説明する。まず、第１図に示すように平板状の非磁性体
７が設けられている。この非磁性体７は、５ｉ３Ｎ４ｓ
Ａｌ、Ｏ，、ＳｉＣ，ＺｒＯ２゜Ｂ Ｎ 、 Ｔ ｉ
Ｃａ Ｏ２＋ Ｔ ｘ Ｂ ａ Ｏ３、Ａ ｌ ｚ Ｏ
３ＴｉＣ等のセラミックス材料または結晶化硝子、ガラ
ス状カーボン等よりなる。このような非磁性体７のある
程度の面積のある一面８を鏡面仕上する。
この仕上程度は、その平面度が１μ以下、面粗度が０．
０５μ以下である。
０５μ以下である。
ついで、この非磁性体７の一面８には主磁極薄膜９をス
パッタリング、真空蒸着、ＣＶＤ、イオンプレーテング
等の薄膜技術により成膜した後。
パッタリング、真空蒸着、ＣＶＤ、イオンプレーテング
等の薄膜技術により成膜した後。
第２図に示すように所定の主磁極パターン１ｏにエツチ
ングしてトラック幅等を決定する。前記主磁極薄膜９は
、Ｇ ｏ −Ｚ ｒ −Ｎ ｂ 、パーマロイ。
ングしてトラック幅等を決定する。前記主磁極薄膜９は
、Ｇ ｏ −Ｚ ｒ −Ｎ ｂ 、パーマロイ。
センダスト、Ｆａ−８ｉその他アモルファス系磁性薄膜
よりなる。
よりなる。
つぎに、第３図に示すように前記非磁性体７に接着固定
される非磁性体１１と高透磁率磁性体１２とが形成され
る。これらの非磁性体１１と高透磁率磁性体１２とを合
成した面積は前記非磁性体７の一面８の面積に略一致し
ているものである。
される非磁性体１１と高透磁率磁性体１２とが形成され
る。これらの非磁性体１１と高透磁率磁性体１２とを合
成した面積は前記非磁性体７の一面８の面積に略一致し
ているものである。
そして、前記高透磁率磁性体１２の面１３．１４は鏡面
仕上されているとともにその面１３にはコイル挿通孔を
形成するための溝１５が形成さ九ており、前記非磁性体
１１の面１６，１７も鏡面仕上されている。これらの非
磁性体１１と高透磁率磁性体１２とを前記非磁性体７に
接着固定した状態は第４図に示されているが、このよう
に一体化した後に、第５図に示すように非磁性体７，１
１側を研削して記録媒体との接触面１８を形成するとと
もに前記主磁極パターン１０により形成される主磁極１
９の長さを適当なものに設定する。
仕上されているとともにその面１３にはコイル挿通孔を
形成するための溝１５が形成さ九ており、前記非磁性体
１１の面１６，１７も鏡面仕上されている。これらの非
磁性体１１と高透磁率磁性体１２とを前記非磁性体７に
接着固定した状態は第４図に示されているが、このよう
に一体化した後に、第５図に示すように非磁性体７，１
１側を研削して記録媒体との接触面１８を形成するとと
もに前記主磁極パターン１０により形成される主磁極１
９の長さを適当なものに設定する。
このように成形してから第６図に示すように主磁極１９
毎に切断線２０により切断分割して個々の垂直磁気ヘッ
ド２１を形成する。
毎に切断線２０により切断分割して個々の垂直磁気ヘッ
ド２１を形成する。
このようにして形成される結果、鏡面仕上される面８，
１３，１４，１６，１７は接着部を含まないので、その
鏡面仕上時に各面に凹部や段部が形成されることがない
。
１３，１４，１６，１７は接着部を含まないので、その
鏡面仕上時に各面に凹部や段部が形成されることがない
。
つぎに、第７図ないし第９図に示すものは本発明の第二
の実施例である０本実施例は前記実施例に対して非磁性
体７の一面８に主磁極１９の長手方向と直交する方向の
溝２２を形成したものである。この溝２２は、高透磁率
磁性体１２に接し、かつ、その高透磁率磁性体１２の端
部がら内側に位置するものである。このような溝２２に
より。
の実施例である０本実施例は前記実施例に対して非磁性
体７の一面８に主磁極１９の長手方向と直交する方向の
溝２２を形成したものである。この溝２２は、高透磁率
磁性体１２に接し、かつ、その高透磁率磁性体１２の端
部がら内側に位置するものである。このような溝２２に
より。
接着剤の流れが良好になり、接着の信頼性が向上する。
発明の効果
本発明は、上述のように非磁性体の一面を鏡面仕上して
主磁極を薄膜技術により形成し、その上にそれぞれ鏡面
仕上された非磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定し、
その後に機械加工により所定長さの主磁極を形成し、個
々の垂直磁気ヘッドに分離するようにしたので、接着面
の鏡面加工時に接着部を含む面がなく、これにより、凹
部や段部が発生することがなく、主磁極の支持を安定状
態で行なうことができて信頼性を高めることができ、接
着剤として合成樹脂系のものを使用することができるた
め、生産性も向上する等の効果を有するものである。
主磁極を薄膜技術により形成し、その上にそれぞれ鏡面
仕上された非磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定し、
その後に機械加工により所定長さの主磁極を形成し、個
々の垂直磁気ヘッドに分離するようにしたので、接着面
の鏡面加工時に接着部を含む面がなく、これにより、凹
部や段部が発生することがなく、主磁極の支持を安定状
態で行なうことができて信頼性を高めることができ、接
着剤として合成樹脂系のものを使用することができるた
め、生産性も向上する等の効果を有するものである。
第１図は本発明の第一の実施例を示すもので非磁性体の
斜視図、第２図は主磁極パターンを形成した状態の斜視
図、第３図は接着前の各部品を示す斜視図、第４図は接
着後の斜視図、第５図は記録媒体に対する接触面を形成
した状態の斜視図。 第６図は個々の垂直磁気ヘッドに分割する状態を示す斜
視図、第７図は本発明の第二の実施例を示すもので非磁
性体の斜視図、第８図は接着前の各部品を示す斜視図、
第９図は個々の垂直磁気ヘッドに分割する状態を示す斜
視図、第１０図は従来の垂直磁気ヘッドの一例を示す斜
視図、第１１図はそのブロック体の斜視図である。 ７・・・非磁性体、８・・・−面、９・・・主磁極薄膜
、１１・・・非磁性体、１２・・・高透磁率磁性体、１
９・・・主磁極、２１・・・垂直磁気ヘッド、２２・・
・溝−第ｄ図
斜視図、第２図は主磁極パターンを形成した状態の斜視
図、第３図は接着前の各部品を示す斜視図、第４図は接
着後の斜視図、第５図は記録媒体に対する接触面を形成
した状態の斜視図。 第６図は個々の垂直磁気ヘッドに分割する状態を示す斜
視図、第７図は本発明の第二の実施例を示すもので非磁
性体の斜視図、第８図は接着前の各部品を示す斜視図、
第９図は個々の垂直磁気ヘッドに分割する状態を示す斜
視図、第１０図は従来の垂直磁気ヘッドの一例を示す斜
視図、第１１図はそのブロック体の斜視図である。 ７・・・非磁性体、８・・・−面、９・・・主磁極薄膜
、１１・・・非磁性体、１２・・・高透磁率磁性体、１
９・・・主磁極、２１・・・垂直磁気ヘッド、２２・・
・溝−第ｄ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、鏡面仕上された非磁性体の一面に薄膜技術により主
磁極薄膜を形成し、この主磁極薄膜を所定のパターンに
エッチングし、この表面にそれぞれ鏡面仕上された非磁
性体と高透磁率磁性体とを接着固定し、前記非磁性体側
を研削して所定長さの主磁極を形成し、これらの主磁極
毎に分離切断して個々の垂直磁気ヘッドを形成するよう
にしたことを特徴とする垂直磁気ヘッドの製造方法。 ２、鏡面仕上された非磁性体の一面に溝を形成するとと
もにこの溝を除く表面に薄膜技術により主磁極薄膜を形
成し、前記溝と直交する方向に向けて前記主磁極薄膜を
所定のパターンにエッチングし、この表面にそれぞれ鏡
面仕上された非磁性体と高透磁率磁性体とを接着固定し
、前記非磁性体側を研削して所定長さの主磁極を形成し
、これらの主磁極毎に分離切断して個々の垂直磁気ヘッ
ドを形成するようにしたことを特徴とする垂直磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6167985A JPS61220106A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6167985A JPS61220106A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61220106A true JPS61220106A (ja) | 1986-09-30 |
Family
ID=13178185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6167985A Pending JPS61220106A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61220106A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01192005A (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-02 | Nec Kansai Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP6167985A patent/JPS61220106A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01192005A (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-02 | Nec Kansai Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH0555922B2 (ja) * | 1988-01-28 | 1993-08-18 | Kansai Nippon Electric |
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