JPS58121122A - 垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS58121122A JPS58121122A JP85282A JP85282A JPS58121122A JP S58121122 A JPS58121122 A JP S58121122A JP 85282 A JP85282 A JP 85282A JP 85282 A JP85282 A JP 85282A JP S58121122 A JPS58121122 A JP S58121122A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- holder
- pole
- main
- magnetic holder
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は磁気記録媒体の厚み方向ＶＣ残留磁化を形成し
て信号記録を行なう磁気ヘッドＶこ係す、轡に製作が容
易で信頼性が高く実用性Ｖこ優れた構造の垂直磁化型磁
気ヘッドの製造方法ｌこ関する。
て信号記録を行なう磁気ヘッドＶこ係す、轡に製作が容
易で信頼性が高く実用性Ｖこ優れた構造の垂直磁化型磁
気ヘッドの製造方法ｌこ関する。
発明の技術的背景
近時、磁気記録の厚み方向、つまり垂直方向、こ残留磁
化を形成して短波長特性の優れた信号記録を行なう垂直
磁化記録が注目されている。
化を形成して短波長特性の優れた信号記録を行なう垂直
磁化記録が注目されている。
１！１図は垂直磁化記録を行なう磁気ヘッドの基本的な
構成を示すもので、矢印方向に走行する磁気記録媒体１
の磁性面にその端部を対向させた高透磁率磁性薄膜から
なる主磁極２が設けられ、その主磁極２．・Ｃ前記磁気
記録媒体１を介して対向部Ｖこは高透磁率磁性コアから
なる補助磁極３が設けられ、補助磁極３ｖこ巻装された
励磁コイル４ｖζより励磁される構造Ｖこなっている。
構成を示すもので、矢印方向に走行する磁気記録媒体１
の磁性面にその端部を対向させた高透磁率磁性薄膜から
なる主磁極２が設けられ、その主磁極２．・Ｃ前記磁気
記録媒体１を介して対向部Ｖこは高透磁率磁性コアから
なる補助磁極３が設けられ、補助磁極３ｖこ巻装された
励磁コイル４ｖζより励磁される構造Ｖこなっている。
この種ヘッドを実用化するには非磁性ホルダー５により
主磁極２を精度よく保持する必要がある。しかし、２．
５を含めた主磁極部６の製造法ｌζついては次のような
工程が行なわれていた。即ち、鏡夏研磨し九非磁性ホル
ダーに主磁極膜を密着形成し、次に必要トラック幅に主
磁極膜をエツチング形成する。次にもう一方の非磁性ホ
ルダーを接着、最後にトラック幅毎ｌζスライスして完
成する。
主磁極２を精度よく保持する必要がある。しかし、２．
５を含めた主磁極部６の製造法ｌζついては次のような
工程が行なわれていた。即ち、鏡夏研磨し九非磁性ホル
ダーに主磁極膜を密着形成し、次に必要トラック幅に主
磁極膜をエツチング形成する。次にもう一方の非磁性ホ
ルダーを接着、最後にトラック幅毎ｌζスライスして完
成する。
背景技術の問題点
しかし、耐久性を上げるために非磁性ホルダーを硬質Ｖ
こする必要があり、上記製造方法では硬質の非磁性ホル
ダーをトラック毎にスライスする際、接着層の剥離およ
び非磁性ホルダー材のカケが生じやすく歩留まりが悪く
なる問題がある。したがって、精度、信頼性、耐久性、
量産性を兼備した対策が望まれていた。
こする必要があり、上記製造方法では硬質の非磁性ホル
ダーをトラック毎にスライスする際、接着層の剥離およ
び非磁性ホルダー材のカケが生じやすく歩留まりが悪く
なる問題がある。したがって、精度、信頼性、耐久性、
量産性を兼備した対策が望まれていた。
発明の目的
本発明は上記事情を考慮してなされ丸ものでその目的と
するところは簡易ＶＣして高精度、高信頼性、耐久性且
つ量産性ｌこ富んだ実用的な主＆ａ＆部袈造方法を提供
することｌこある。
するところは簡易ＶＣして高精度、高信頼性、耐久性且
つ量産性ｌこ富んだ実用的な主＆ａ＆部袈造方法を提供
することｌこある。
発明の概要
即ち、本発明ζ予めエツチング処理ｌこよりスライスカ
ットする部分を除去した非磁性ホルダ一部材を用いるこ
とｌこより最終スライス工程を容易に（２て、上記目的
を効果的に達成したものでおる。
ットする部分を除去した非磁性ホルダ一部材を用いるこ
とｌこより最終スライス工程を容易に（２て、上記目的
を効果的に達成したものでおる。
発明の実施例
以下、１ｇ２図および第３図を参照して本発明の垂直磁
化形磁気ヘッドの主磁極製造方法の実施例〆こついて説
明する。
化形磁気ヘッドの主磁極製造方法の実施例〆こついて説
明する。
先ず、第２図に示すようｌこガラス、セラミック等の非
磁性ホルダ一部材２１を表面を鏡面仕上げし、次にホト
エツチング等工、チング処理により非磁性ホルダ一部材
２１を最終チップ厚を残してくりぬき、透孔２２を設け
る。これはエツチング処理で行なわれるので精度良くで
きる。次ｌこパーマロイ、センダスト等高透磁率磁性薄
属からなる主磁極膜２３を所望のトラック幅ＶＣ密着形
成する。
磁性ホルダ一部材２１を表面を鏡面仕上げし、次にホト
エツチング等工、チング処理により非磁性ホルダ一部材
２１を最終チップ厚を残してくりぬき、透孔２２を設け
る。これはエツチング処理で行なわれるので精度良くで
きる。次ｌこパーマロイ、センダスト等高透磁率磁性薄
属からなる主磁極膜２３を所望のトラック幅ＶＣ密着形
成する。
このトラック幅は最終チップ厚よシ狭暢１ζする。
次に主磁極ａ！［面に接着剤を塗布し、もう一方の同様
エツチング処理した第２の非磁性ホルダー２７と接着す
る。当然非磁性ホルダ一部材２１．２１’のくりぬき位
置２２，２ｉは合わせておく。次に第３図１こ示すよう
に非磁性ホルダーの連結部２５を切り騙して１ヶ、１ケ
のヘッドチップを得る。この切り離し方は従来どおりＶ
こスライスしても、連結部２５をカットしてもよい。
エツチング処理した第２の非磁性ホルダー２７と接着す
る。当然非磁性ホルダ一部材２１．２１’のくりぬき位
置２２，２ｉは合わせておく。次に第３図１こ示すよう
に非磁性ホルダーの連結部２５を切り騙して１ヶ、１ケ
のヘッドチップを得る。この切り離し方は従来どおりＶ
こスライスしても、連結部２５をカットしてもよい。
この方法によれば、１ヶ、１ケのヘッドチップに分離す
る際に接着層２４および非磁性ホルダー２１．２Ｉ′ｌ
こ与える衝撃が少なくて済み、高精度。
る際に接着層２４および非磁性ホルダー２１．２Ｉ′ｌ
こ与える衝撃が少なくて済み、高精度。
量産性を保ったオオ歩留まりを向上し、信頼性。
耐久性を増すことができる。
なお、製造工程の順番は上記実施例にのみ限定されるも
のではなく本発明の目的を逸脱しない範咄で前後しても
よい。例えば、くりぬきエツチング処理稜表面の一面研
曽が為されても問題はない。
のではなく本発明の目的を逸脱しない範咄で前後しても
よい。例えば、くりぬきエツチング処理稜表面の一面研
曽が為されても問題はない。
発明の効果
このように、本発明は非常に菩易な技術で高精屓で信幀
性、耐久性、量産性の＾い垂直硫化ｍ磁気ヘッドの製造
方法を提供することができる。しかも、スライス部分が
少ないのでカッターの損傷も少ないという効果もある。
性、耐久性、量産性の＾い垂直硫化ｍ磁気ヘッドの製造
方法を提供することができる。しかも、スライス部分が
少ないのでカッターの損傷も少ないという効果もある。
第１図は垂直磁化型磁気ヘッドの基本構成を示す図。第
２図およびＭ３図は本発明の製造方法の一実施例を示す
図である。 ２１、２１’・・・非磁性ホルダー ２２、２ ｉ・・・非磁性ホルダーくりぬき部２３・・
・主磁極膜 ２４・・・接着層 ２５・・・非磁性ホルダ一連結部
２図およびＭ３図は本発明の製造方法の一実施例を示す
図である。 ２１、２１’・・・非磁性ホルダー ２２、２ ｉ・・・非磁性ホルダーくりぬき部２３・・
・主磁極膜 ２４・・・接着層 ２５・・・非磁性ホルダ一連結部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （、り少なくとも一先端Ｓを磁気記録媒体磁性面に対向
し非磁性ホルダー、ζ保持されて配置される高透磁率磁
性薄膜からなる主磁極を有する垂直磁化型磁気へ、ドｌ
ζおいて、主磁極形成する前に、非磁性ホルダ一部材に
以下のエツチング処理、即ち。 最終主磁極チップ毎に分割する分割部分の一部を除いて
くりぬき除去する処理を施しておくことを特徴とする垂
直磁化型磁気ヘッドの製造方法。 ■Ｑ非磁性ホルダ一部材を鏡面研磨する工程と、前記非
磁性ホルダ一部材を前記エツチング処理する工程と、前
記エツチング処理１７た非磁性ホルダ一部材ＶＣ最終主
磁極チ、プ幅より狭＄１ ｉＣ高透磁率磁性薄膜からな
る主磁極を密着形成する工程と、前記主磁極密着形成し
た非磁性ホルダ一部材ともう一方の前記非磁性ホルダー
を接着する工程と、前記接着玉揚後前記エツチング処理
していない非磁性ホルダ一部分を除去する工程とを少な
くとも有することを特徴とする垂直磁化型磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP85282A JPS58121122A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP85282A JPS58121122A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121122A true JPS58121122A (ja) | 1983-07-19 |
Family
ID=11485169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP85282A Pending JPS58121122A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121122A (ja) |
-
1982
- 1982-01-08 JP JP85282A patent/JPS58121122A/ja active Pending
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