JPS61217704A - 線幅測定装置 - Google Patents

線幅測定装置

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JPS61217704A
JPS61217704A JP60059161A JP5916185A JPS61217704A JP S61217704 A JPS61217704 A JP S61217704A JP 60059161 A JP60059161 A JP 60059161A JP 5916185 A JP5916185 A JP 5916185A JP S61217704 A JPS61217704 A JP S61217704A
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signal
image sensor
dimensional image
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JP60059161A
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Atsushi Yoshikawa
淳 吉川
Noriyuki Kondo
近藤 教之
Atsushi Tamada
玉田 厚
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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    • G01B9/04Measuring microscopes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/024Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of diode-array scanning

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は線幅測定装置に関し、さらに詳しくは、例え
ば、集積回路(以下単にICと称する)用のマスクやウ
ェハ上に形成された極めて微細なパターンの線幅を測定
するのに用いられる線幅測定装置に関する。
〈従来技術〉 上記のような微細なパターンは、例えばシリコン上の7
オトレジスト膜や、シリコン上のシリコン酸化膜環一般
に極めて薄い膜で形I&され、しかもパターンの線幅は
およそ0.5μmないし、100μm程度であるが、こ
のパターンの膜厚及び線幅が規定された通りに作成され
ているか否かによつてICの良否が決まることになる。
従って、ICの製造管理上、二のパターンの線幅を高い
再現精度を6って測定することができる線幅測定装置が
要請されるが、そのためにパターンの光像を充電的に受
光して測長を行なう装置が利用されている。
上記のようなパターンの場合、薄膜で形成されているた
め、その線幅を決定するパターンエツジの正確な検出に
は、微小な光量の変化を正確に峻別することが必要とな
る。
従って、線幅測定装置は上記のようなパターンから得ら
れる光像の微小な光量差から、いかにして当該パターン
のエツジを検出するかが性能の良否を決定する重要な因
子となる。
かかる線幅測定装置としては、従来より第5図に示す充
電顕微鏡を使用した線幅測定装置が知られている。この
図において、符号1は顕微鏡、2は顕微vA1にセット
されたマスクあるいはウェハ等の試料、3はステッピン
グモータ5によって駆動される光電変換素子、4は光電
変換素子3と同た電流−電圧変換器、7はデノタルカウ
ンタ、8はステッピングモータ5を駆動制御し、かつ電
流−電圧変換器6からの光強度信号を受けてこの信号を
演算処理し、線幅を演算して結果を表ス装置9aあるい
はプリンタ9bに出力するマイクロコンビよ−タ等の信
号処理手段、8aは燥作キイである。
この充電顕微鏡を使用した線幅測定装置は、次のように
してパターンの線幅を測定することができる。
先ず、測定すべき試料2を顕微鏡1の試料台に載置して
双眼アイピース10を見ながら、第4図の矢印Aに示す
ようにパターン12を垂直方向の交線11の、例えば右
側の位置に合わせ、しかる後、信号処理手段8をスター
トさせる。
スリット4及び光電変換素子3は信号処理手段8により
制御されたステッピングモータ5によって一方向に間欠
的に駆動され、各ステップ毎にパターン12の画像信号
Iを出力し、電流−電圧変換器6によって増幅された光
強度信号Kを得る。
かかる光強度信号Kを信号処理手段8において所定のレ
バル信号と比較することによりパターン12の線幅を算
出し、その結果は、例えば0.05μm単位で表示ある
いは印字される。
なお、スリット及び光電変換素子の組合せに替えて撮像
管を用いこともあるが、撮像管の場合、管面に表示され
る像の歪みが少なく見積っても通常0.2%以上もある
ため、実用化するには、歪みの補正および安定性向上等
を考慮する必要がある。
上記従来技術の池にも詳述しないが、微細なレーザ光に
よって試料面を走査し、パターンエツジによる散乱光を
検出することにより線幅を測定する方法も知られている
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかるに前記スリットと光電変換素子でもって試料面を
走査する従来技術においては、走査中の各ステップ毎に
画像信号を出力するものであるため、度を向上させるた
めに複数回走査させて測定データを多く得る場合にはな
おさらである。
またレーザ光線によって試料面を走査する従来技術にお
いては、レーザビームの走査光学系が複雑となり、当該
装置の製造において、生産性の向上を図る上で妨げとな
る上、高価となる等の難点があった。
本発明はこのような難点を解消した線幅測定装置を提供
することをその目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記目的を達成するために、次のように構成し
たものである。
すなわち、拡大光学系で測定対象となるパターンを光電
変換手段上に投影して光電変換し、デノタル変換した画
像信号をコンビエータ等の信号処理手段で統計演算処理
して線幅を測定するようにした線幅測定装置において、
本発明は、光電変換手段を1次元イメージセンサアレイ
で構成するとトもニ、並列−直列回路で該イメーノセン
サアレノ^)Ln中−hmるもh’Mfilヂn寿互M
l酬は山自尺−るように構成したことを特徴とするもの
で、特にその出力を少なくとも2 lo以上の分解能を
有するA/D変解緊解デジタル信号に緊解し、1次元イ
メージセンサアレイを構成する各素子間の感度のバラツ
キをあらかじめ記憶し、その記憶データに基づいて前記
デジタル信号を補正するようにすることもできる。
また、1次元イメージセンサアレイを圧電素子等の偏位
手段に連結し、当該1次元配列の方向へ素子の配列ピッ
チ内で偏位し得るように構成することもできる。
〈作 用〉 1次元イメージ゛センサアレイの各素子からの出力信号
は時系列信号に緊解するだめの手段を介して時系列的に
取り出され、A/D変換器でデジタル信号に変換され、
統計演算処理がなされるから、−瞬にして試料上の所要
幅に相当する画像信号を得ることとなる。
特に210以上の分解能を有するA/D変換手段でデジ
タル信号に変換した場合には、画像信号レベルを約10
00階調にまで峻別することができ、さらに1次元イメ
ージセンサアレイの各素子間のバラツキをコンピュータ
等の信号処理手段で補正した上で統計演算処理をするよ
うに構成した場合には、1次元イメージセンサを用いて
極めて大きいダイナミックレンジを確保することができ
る。
また、1次元イメージセンサアレイを偏位手段で微小偏
位させるようにした場合には、素子の配列ピッチ内のさ
らに細分した位置における画像情報を得ることができる
ので、それだけパターンエツジの情報信号が豊富となり
、エツジの検出が正確となる。
〈実施例〉 本発明の特徴は、光電子増倍管に代えて1次元イメージ
センサアレイを使用しても、との出力信号に所要の補正
処理をすることにより、光電子増倍管に劣らない十分な
ダイナミックレンジ及び十分なS/W比を確保すること
ができることに着眼してそれを線幅測定装置に適用する
ことによりなされたものである。
以下本発明による実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の実施例による線幅測定装置の構成を示
すブロック図であり、第5図で説明した符号と同一の符
号は同一部材を示す。
第1図において、符号13は顕微鏡1の結像面に配置さ
れたCCD(Chapge ’ Cupled  De
vice)より成る1次元イメージセンサアレイ、14
は1次元イメージセンサアレイ13をその配列方向へ所
要量移動するための圧電素子15とその制御回路16よ
り成る移動手段、17は1次元イメージセンサアレイ1
3によって光電変換された信号■を増幅して並列的に入
力された信号■を時系列的に出力させる並列−直列変換
回路(以下、P/S変換回路と称する)、18は例えば
10ビツトの分解能を有するA/D変換器、19はP/
S変換回路17・A/D変換器18及び後述する信号処
理手段20のアドレス指定手段21に対するタイミング
信号を出力するタイミングパレス発生回路である。
上記1次元イメージセンサアレイ13は、1素子の大き
さが例えば15μ石×15μ鴎程度のものを直線状に2
048個配列して構成され、この場合には顕微鏡1によ
って投影された長さ約3cmの投影像について一度に光
電変換して出力することができる。
ちなみに、顕微鏡1の拡大倍率を100倍とすると、試
料2の長さ約0.3n+mについて検出することができ
、1素子当り0.15μmX0.15μmの大きさの画
素を認識することができる。
なお、1次元イメージセンサアレイ13はCODに代え
て、P D A(P)ioLo  D 1ode  A
rray)を用いることもできる。
A/D変換器18が10ビツトの場合にはP/S変換回
路17により増幅して時系列的に出力された画像信号J
は1024階調の信号レベルのデジタル信号Kl:変換
され、出力される。
なお実験によると、12ビツト用A/D変換器を用いて
4096階調まで分解した信号レベルについても、その
再現性を確保することができる。
かかるデジタル信号には、信号処理手段20の内部メモ
リ22の画素情報記憶部22aにアドレス指定手段21
を介して、2048個の異なるアドレスに書込まれる。
信号処理手段20は中央制御部(以下単にCPUと称す
る)23と、アドレス指定手段21と、感度情報・画素
情報及び中間情報がそれぞれ書込まれた記憶部22と、
画素情報補正手段24と、平均化処理手段25とパター
ンエツジ検出手段26と、線幅演算手段27とから構成
され、第2図に示すフローチャートに基づいてパターン
12の線幅を出力装置9aに出力するように構成されて
いる。
ところで、前記1次元イメージセンサアレイ13が光電
変換した出力は、各素子の感度のバラツキが最大±10
%程度見込まれ、さらに各素子が受光しない時にもわず
かに暗電流を発生するため、前記画素情報記1を部22
aに記憶された2048個の画素情報を補正して、真の
値に近づける必要がある。そこで本発明に係る線幅測定
装置において、1次元イメージセンサアレイ13の各素
子固有の暗電流の大きさDi(i”1〜2024)及び
感度5i(i=1〜2024)を、あらかじめ感度情報
として感度情報記憶部22bに記憶し、画素情報記憶部
22aから読み出さ7′した各画素情報X1(i”1〜
2024)に対応させて感度情報Di。
5ilt読み出し、画素情報補正手段24で、画素情報
たるデジタル画像信号にの信号レベルを真の値に近づけ
、その補正された画素情報を平均化処理・エツジ検出処
理等の統計処理を行なった上で線幅を算出し得るように
構成されている。
かかる平均化処理及びエツジ検出処理は、デジタル画像
処理装置においては既に公知と思われるが、ここでは1
次元イメージセンサアレイを構成する各素子について、
例えば成る素子を中心として想定される両隣りの素子2
個ずつ計4個を加えた5個の素子の出力値平均を算出し
、この算出平均値を当該素子の出力値とする演算処理を
行ない、かかる演算処理を、例えば3回繰返すことによ
り平均化処理を行なうようにしたらのであり、エツジ検
出処理は、このようにして平均化処理された各素子から
の出力値を、これら出力値の最大値および最小値をそれ
ぞれ100%おより0%とした場合の、例えば35%で
レベルカットすることにより線分のエツジを検出するよ
うにしている。
本発明に係る線幅測定装置における2の特徴は、1次元
イメージセンサアレイ13を偏位手段14で素子の配列
ピッチ内で偏位させるように構成したことである。
偏位手段14は、例えば1次元イメージセンサアレイ1
3の一端に圧電素子等の偏位手段15を連結し、この圧
電素子15を、信号処理手段20からの指令に基づいて
圧電素子制御回路16で制御するように構成されている
この実施例においては、圧電素子15に付与する電圧を
5段階に切換え、それに対応して圧電素子15の長さを
3μmづつ段階的に変化させ、これにより圧電素子15
の端部に連結された1次元イメージ“センサ7レイ13
を3μmピッチで偏位させ、各偏位位置で投影像の光電
変換信号■を取り出すように構成されている。
本実施例の場合、例えば素子の配列ピンチ15μm内で
3μmおきに画像情報を得ることができるから、1次元
イメージセンサアレイ13を偏位させない場合に比べて
、解像力が5倍に向上することとなる。従って、前記の
ように1素子当り0゜15μ陣の大きさの画素しか検出
できなくでも、これによって実質上0.03μmの大き
さの画素を検出させることができるのである。
本発明は、上記実施例に限るものではなく、顕微鏡の拡
大倍率をさらに大きくしたり、偏位量をさらに小さくす
ることによっても検出可能な画素の大きさをさらに小さ
くすることができる。
第3図は、第2図の7o−チャートに基づいてなされる
信号処理の態様を模式的に示すグラフであり、横軸は時
系列に出力される1次元イメージセンサアレイ13がら
の出力信号に番号を付して表わし、縦軸はA/D変換器
18がらのデノタル′信号の出力レベルを示す。
以下、第1図ないし第3図により、本実施例に係る線幅
測定装置の機能を説明する。
1次元イメージセンサアレイ13の積分時間Eはあらか
じめ設定されている。信号処理手段20のキイ8aを操
作してスタートさせると、1次元イメージセンサアレイ
13の各素子は積分時間tの闇、同時に投影像の光量を
蓄積する。
次いで、前記P/S変換回路17及びAD変換器18を
介して第3図Aに示すような信号レベルの画素情報Kが
画素情報記憶部22aに記憶される。
この画素情報には前記のようにして画素情報補正手段2
4によって真の値に近づけられ、第3図Bに示すような
信号レベルに補正される。そして、平均化処理手段25
によって、第3図Cに示すような滑らかな信号レベルに
平均化され、工・ノジ検出手段26によってエッソポイ
ントP1・P2が検出される。
なお、工・2シボイン)P、−P2の検出は破線で示す
所定の信号レベルで切り、その交点を求めることによっ
て決定されるが、これに代えて、隣接する画素間の出力
信号レベルの差分の最大値を求めることによって決定し
てもよい。このエツジポイン)P、−P2の位置をもと
にして、線幅演算手段27で線幅が計算され、その結果
が出力装厘9aに表示される。
なお、前記移動手段14で1次元イメ〜シセンサ7レイ
13を複数回(例えば15μ端ピツチを3μlピツチず
つ5回)段階的に偏位させて読取った画素情報には、ア
ドレス指定手段21によって画像情報記憶部22aの所
定の7ドレスへ整合性をもたせて記憶し、以下同様にし
てエッソポイントを検出する。
なお、本実施例においては、偏手段14を圧電素子15
とその制御回路16とで構成したが、これに限るもので
はなく、クサビ等の機械的手段を用いて1次元イメージ
センサアレイを段階的に偏位させるように、構成するこ
ともできる。
上記した説明においては、最終的に2回以上の分換能を
有するデジタル信号を得るため、例えば210以上の分
解能を有するA/D変換器を使用したが、本発明におい
てはかかるA/D変換器に限定されるものではなく、A
/D変換器としては、例えば通常の28の分換能のもの
を使用し、以後のデータ処理の段階で周知のデータ処理
方法により21°以上のデジタル信号にすることも可能
である。
〈発明の効果〉 本発明によると前記のように構成され作用するから次の
ような秀れた効果を奏する。
イ、光電変換手段として1次元イメージセンサアレイを
用いているため、試料上の所要幅に相当する画素情報を
一度に得ることができるから、測定時間の大幅な短縮を
図ことができる。
口、光電変換手段とスリットの駆動Wi構、あるいはレ
ーザ光線を走査させる走査光学機構を必要とせず、構造
が簡単となり生産性の向上を図ることができる上、コス
トの低減を図ることもできる。
ハ、1次元イメージセンサアレイの各素子間の感度のバ
ラツキ、暗電流によるバラツキおよび光学系の光量分布
のバラツキを補正して、画素信号レベルを真の値に近つ
けるように補正した場合には、従来のようにスリット幅
の調整をする必要がなく、測定精度のバラッも解消する
ことができる。
二、Vfに、1次元イメージセンサアレイを素子の配列
ピッチ内で微小偏位させる偏位手段を設けた場合には、
それだけ解像力を向上させることができるから、より高
い精度でパターンの線幅を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はは本発明に係る線幅測定装置の構成を示すブロ
ック図、第2図はその70−チャート、第3図は第2図
の70−チャートに基づいてなされる信号処理の態様を
模式的に示すグラフ、第・を図は顕微鋺にセットした試
料の拡大図、第5図は従来技術に係る充電顕微襞のブロ
ック図である。 1・・・拡大光学系(顕微鏡)、 2・・・試料、12
・・・パターン、  13・・・1次元イメージセンサ
アレイ、  14・・・偏位手段、  15・・・圧電
素子、16・・・圧電素子制御回路、  17・・・並
置−列変換回路(P/S変換回路)、  18・・・A
/D変換器、19・・・タイミングパルス発生回路、2
0・・・信号処理手段(コンピュータ)、22・・・記
憶手段、  22a・・・画素情報記憶部、22b・・
・感度情報記憶部。 第1図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも、試料上の線画パターンを拡大投影する
    ための拡大光学系と、投影されたパターンの像を画像信
    号に変換するための光電変換手段と、該画像信号をA/
    D変換するための手段と、A/D変換された画像信号に
    所要の演算処理を施こして当該線画パターンの線幅を算
    出する信号処理手段とから成る線幅測定装置において、 光電変換手段を1次元イメージセンサアレイで構成する
    とともに、該1次元イメージセンサアレイからの出力信
    号を時系列信号に変換するための手段を付設したことを
    特徴とする線幅測定装置 2、1次元イメージセンサアレイに、該センサアレイを
    その軸線方向に微小偏位させる手段を付設した特許請求
    の範囲第1項記載の線幅測定装置 3、A/D変換器を、2^1^0以上の分解能を有する
    A/D変換器で構成した特許請求の範囲第1項記載の線
    幅測定装置 4、偏位手段を、圧電素子で構成した特許請求の範囲第
    2項記載の線幅測定装置
JP60059161A 1985-03-22 1985-03-22 線幅測定装置 Pending JPS61217704A (ja)

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