JPS58122414A - 微小寸法測定方法 - Google Patents
微小寸法測定方法Info
- Publication number
- JPS58122414A JPS58122414A JP57005028A JP502882A JPS58122414A JP S58122414 A JPS58122414 A JP S58122414A JP 57005028 A JP57005028 A JP 57005028A JP 502882 A JP502882 A JP 502882A JP S58122414 A JPS58122414 A JP S58122414A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- signals
- measured
- addresses
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/022—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of tv-camera scanning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
微小寸法測定方法Ｋかかり、％に走査画像信号を用いて
微小寸法を測定するｋあたり被測定物画像のコントラス
トを向上させる微小寸法の測定方法に関する。
微小寸法を測定するｋあたり被測定物画像のコントラス
トを向上させる微小寸法の測定方法に関する。
発明の技術的背景
従来の微小寸法測定方法に社
（、） 顕微鏡による光学儂を拡大して得られるパタ
ーン像を目視で観測する測微計による方法。
ーン像を目視で観測する測微計による方法。
（ｂ） ＃ａ４定するノターンに対してスリットを設
け、相対的にスリットを走査させることにより・モター
ン儂からの強度に応じて変化する光を受光器でとらえ、
信号を一定のスライスレベルと比較ＩＩ＆理する方法。
け、相対的にスリットを走査させることにより・モター
ン儂からの強度に応じて変化する光を受光器でとらえ、
信号を一定のスライスレベルと比較ＩＩ＆理する方法。
（ｃ） 上記走査を子リットで行なうかわりにテレビ
用撮像管を用いる方法。
用撮像管を用いる方法。
（ｄ） レーザまたは電子ビ！−ムを用いる方法。
などがあつ九。
背景技術の問題点
測定者の個人差、再現性によるばらつきがあると同時に
走査ｉｉ＊信号を用いる場合には被測定物の種類子状態
によって十分なコントラストが得られず、測定不可能に
なるな′、°・１どの問題点があった。
走査ｉｉ＊信号を用いる場合には被測定物の種類子状態
によって十分なコントラストが得られず、測定不可能に
なるな′、°・１どの問題点があった。
発明の目的
従来方法における問題点を補い、かつ、測定ＷＩｉｌ゛
や再現性を向上させる。
や再現性を向上させる。
、 発Ｉ！ｊ１０ＩＩ！を要
１ｉｉｉ＊信号による微小寸法測定方法において、灸数
回の走査を施して測定されたｉｉｉ愉信号を記憶し積分
あるいは平均化して信号／ノイズ値の大きい−ｊ定値を
得るようにしたものである。
回の走査を施して測定されたｉｉｉ愉信号を記憶し積分
あるいは平均化して信号／ノイズ値の大きい−ｊ定値を
得るようにしたものである。
発明の実施例
第１図に示すように、半導体基板（１）の１主面に酸化
シリコン層（２）を砿着し、この上に微小な多結晶シリ
コンパターン（３）を彫成し友場合のこの多結晶パター
ンの寸法を測定する場合を例に説明する。
シリコン層（２）を砿着し、この上に微小な多結晶シリ
コンパターン（３）を彫成し友場合のこの多結晶パター
ンの寸法を測定する場合を例に説明する。
ｗ、２図にも示す多結晶パターンの一部の幅（Ｌ）を測
定する場合、これに垂直方向にムム′線上を走査線とし
てレーザビームあるいは、撮儂管を用いて走査するか、
細く絞った電子線を走査し、走査位置と光電変換信号と
を同期させて画像信号とする。
定する場合、これに垂直方向にムム′線上を走査線とし
てレーザビームあるいは、撮儂管を用いて走査するか、
細く絞った電子線を走査し、走査位置と光電変換信号と
を同期させて画像信号とする。
このときのＡλ′線上の画像信号図を示す第３図は光電
変換器に入る信号量のばらつきや、光電変換器自体のノ
イズ成分によって被測定物パターンに起因する本来の画
像信号のなかに不規則なばらつきが含まれる。この発明
の方法は、入力信号量のばらつきや光電変換器のノイズ
が走査位置と無関係に発生することを見出して達成され
たもので、Ａ人′巌上を繰に返し走査し得られ友画像信
号を積分あるいは加算平均し、ばらつきやノイズ成分を
低減することによって被測定物・ξターンのみの信号を
抽出できる。すなわち、第２図におけるＡＡ’線上走査
位置をパターン（３）幅に対して十分な割合となるよう
に分割し、局番地からλＮ番地と定義し、ム０〜五Ｎ番
地をディジタル的に走査する。このときのＡＱ〜ムＮ番
地に対応する画像信号は、第４図に示すように被測定物
パターンの信号と、ばらつきやノイズ成分の合成された
ものとなっている。しかし、入力信号のばらつきと、光
電変換器によって発生するノイズは走査位置と無関係に
発生するので、ＡＯ−ＡＮ番地に対応する画像信号８０
〜８Ｎを繰り返し走査毎に加算または加算平均すると、
不規則に発生するばらつきとノイズ成分は消去され、回
を重ねる毎に被測定物／ξターン信号に比べて無視でき
る程に低減される。無限回の繰返しを行なうと被測定物
／ぞターン以外の信号は理想的に零になる。
変換器に入る信号量のばらつきや、光電変換器自体のノ
イズ成分によって被測定物パターンに起因する本来の画
像信号のなかに不規則なばらつきが含まれる。この発明
の方法は、入力信号量のばらつきや光電変換器のノイズ
が走査位置と無関係に発生することを見出して達成され
たもので、Ａ人′巌上を繰に返し走査し得られ友画像信
号を積分あるいは加算平均し、ばらつきやノイズ成分を
低減することによって被測定物・ξターンのみの信号を
抽出できる。すなわち、第２図におけるＡＡ’線上走査
位置をパターン（３）幅に対して十分な割合となるよう
に分割し、局番地からλＮ番地と定義し、ム０〜五Ｎ番
地をディジタル的に走査する。このときのＡＱ〜ムＮ番
地に対応する画像信号は、第４図に示すように被測定物
パターンの信号と、ばらつきやノイズ成分の合成された
ものとなっている。しかし、入力信号のばらつきと、光
電変換器によって発生するノイズは走査位置と無関係に
発生するので、ＡＯ−ＡＮ番地に対応する画像信号８０
〜８Ｎを繰り返し走査毎に加算または加算平均すると、
不規則に発生するばらつきとノイズ成分は消去され、回
を重ねる毎に被測定物／ξターン信号に比べて無視でき
る程に低減される。無限回の繰返しを行なうと被測定物
／ぞターン以外の信号は理想的に零になる。
実際の加算、平均の方法としては、各走査査地Ａθ〜ム
Ｎに対応する画像信号ＳＯ〜８Ｎを各々の番地に対応す
るメモリに格納し、繰返し走査ｑ）度毎に画像信号とメ
モリ内容との演算を行なうことによって達成される。ま
え、繰返し走査回数は数百から千回程度で充分であ）、
第５図に示すように被測定物パターンのみの信号になる
ので、この画像信号に任意のスライスレベルを設はスラ
イスレベルとの比較を行なうことによって微小寸法の測
定を行なうことができる。
Ｎに対応する画像信号ＳＯ〜８Ｎを各々の番地に対応す
るメモリに格納し、繰返し走査ｑ）度毎に画像信号とメ
モリ内容との演算を行なうことによって達成される。ま
え、繰返し走査回数は数百から千回程度で充分であ）、
第５図に示すように被測定物パターンのみの信号になる
ので、この画像信号に任意のスライスレベルを設はスラ
イスレベルとの比較を行なうことによって微小寸法の測
定を行なうことができる。
発明の効果
８／Ｎ比が向上するとともに不確定要素のノイズ等の影
響が低減されるので、測定精度が向上することはもちろ
ん、測定の再現性も大ＩＮＫ向上する。また、従来テレ
ビモニタで祉明瞭にパターンが認められながら測定が困
難になることのあった酸化膜上の多結晶シリコンの・ぞ
ターンに対しても充分な効果がある。
響が低減されるので、測定精度が向上することはもちろ
ん、測定の再現性も大ＩＮＫ向上する。また、従来テレ
ビモニタで祉明瞭にパターンが認められながら測定が困
難になることのあった酸化膜上の多結晶シリコンの・ぞ
ターンに対しても充分な効果がある。
第１図は半導体基板上の多結晶シリコンパターンを示す
断面図、第２図は第１図の上面図、第３図は第１図また
は第２図の上面ＯＡに線に沿い走査したときＯ画儂信号
を示す図、第４図はノイズ寺を含むＩｍ画像信号示す図
、第５図は積分または平均化され良画像信号を示す線図
である。 １ シリコン基板 ２ 酸化シリコン層 ３ 多結晶シリコンパターン 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第３図 ごＰ；シｇ／□ 第４図 第５ｍ
断面図、第２図は第１図の上面図、第３図は第１図また
は第２図の上面ＯＡに線に沿い走査したときＯ画儂信号
を示す図、第４図はノイズ寺を含むＩｍ画像信号示す図
、第５図は積分または平均化され良画像信号を示す線図
である。 １ シリコン基板 ２ 酸化シリコン層 ３ 多結晶シリコンパターン 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第３図 ごＰ；シｇ／□ 第４図 第５ｍ
Claims (1)
- レーザ走査あるいは、ビデオ走査、電子線走査による画
像信号による微小寸法測定方法において、多１５［回の
走査を施し測定され良画像信号を記憶しながら積分ある
いは平均化して信号／ノイズ値の大きい測定値を得るこ
とを特徴とする微小寸法測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57005028A JPS58122414A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 微小寸法測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57005028A JPS58122414A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 微小寸法測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58122414A true JPS58122414A (ja) | 1983-07-21 |
Family
ID=11600029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57005028A Pending JPS58122414A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 微小寸法測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58122414A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2224204A3 (de) * | 2004-12-16 | 2013-05-15 | Werth Messtechnik GmbH | Verfahren zum Messen von Werkstückgeometrien mit einem Koordinatenmessgerät |
| US8711365B2 (en) | 2004-12-16 | 2014-04-29 | Werth Messtechnik Gmbh | Coordinate measuring device and method for measuring with a coordinate measuring device |
-
1982
- 1982-01-18 JP JP57005028A patent/JPS58122414A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2224204A3 (de) * | 2004-12-16 | 2013-05-15 | Werth Messtechnik GmbH | Verfahren zum Messen von Werkstückgeometrien mit einem Koordinatenmessgerät |
| US8711365B2 (en) | 2004-12-16 | 2014-04-29 | Werth Messtechnik Gmbh | Coordinate measuring device and method for measuring with a coordinate measuring device |
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