JPS61214153A

JPS61214153A - 光カ−ド

Info

Publication number: JPS61214153A
Application number: JP60055162A
Authority: JP
Inventors: Wataru Kuramochi; 倉持　渉; Mitsuru Takita; 多気田　満
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1985-03-19
Filing date: 1985-03-19
Publication date: 1986-09-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は光カードに関し、さらに詳しくは、新規な光記
録材料を有し、高密度の情報を記録することのできるＲ
ＯＭ型（ｒｅａｄ　−ｏｎｌｙ　ｍｅｍｏｒｙ）光カー
ドに関する。

〔発明の技術的背景ならびにその問題点〕従来、クレジ
ットカード、バンクカードなどのカード類に埋設される
記録材料としては、磁気材料が主として用いられてきた
。この磁気材料は、情報の書込みならびに読出しが容易
に行なえるという利点はあるが、反面、情報の改憲が容
易に行なわれ、しかも、高密度記録ができないという問
題点があった。

ところで、上記のような問題点を解決するため、感光材
にパターン露光を施こして、未露光部である光透過部と
露光部である遮光部とを形成することによって、感光材
に情報を書込み、この情報を光透過度の際によって読取
るようなタイプの光記録材料が提案されている。このよ
うな光記録材料をカード基材に埋込んでカード用記録材
料として用いようとする場合には、以下のような問題点
がある。

（ａ）　　カード基材は、その表面に種々の印刷を施こ
す場合が多く、このためにはカード基材は不透明である
ことが好ましい。ところが上記のような光記録材料を埋
込むためには少なくとも基材の一部を光透過性にする必
要があり、このことはカードの製造上著しく不利にして
いる。

（ｂ）　　上記ような記録材料では、光透過部および遮
光部における光透過性の相違を充分大きくすることが難
かしく、しかも光透過度の相違により書込まれた情報を
読出そうとする場合には、カード表面の汚れに大きく左
右されるという問題点があった。

このため光透過度の相違による情報の読出しではなく、
光反射率の相違により情報を読出そうとする試みもある
。たとえば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散し
てなる記録層を有するカード類が提案されている。この
記録層への情報の書込みは、レーザビームを記録層に照
射して記録ビットを形成して行なわれている。この記録
層はコーティング法により連続的に製造でき、しかも銀
を用いることによって広い波長域にわたって均一な反射
率が得られ、種々の波長のレーザビームを用いた記録再
生装置への適用が可能であるという利点を有している。

しかしながらこの記録層に、写真的手法で記録を行なう
場合には、光反射性と解像性とを同時に向上させること
は困難であり、たとえば現像時間を長くすると光反射性
は向上するが、記録部（露光部）が太る傾向が認められ
解像性が低下してしまう。逆に現像時間を短かくすると
解像性は向上するが光反射性が不充分になってしまうと
いう問題点があった。

一方また、記録材料の記録層に、レーザビームなどのエ
ネルギービームをスポット状に照射して、記録層の一部
を状態変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録
材料に用いる記録層としては、テルル、ビスマスなどの
金属薄膜、ポリスチレン、ニトロセルロースなどの有Ｉ
ＩＭ膜、あるいは相転位を利用したテルル低酸化物膜な
どが用いられている。これらの記録材料は、情報の書込
みの後現像処理などの必要がなく、「書いた侵直得する
」ことのできる、いわゆるＤ　ＲＡ　Ｗ　（ｄｉｒｅｃ
ｔ　ｒｅａｄａｆｔｅｒ　ｗｒｔｔｅ　）媒体であり、
高密度記録が可能であり追加書込みも可能であることか
ら、ディスク用あるいはカード用の記録材料としての用
途の拡大が期待されている。

これらのヒートモード記録材料のうち最も広く用いられ
ている、テルルあるいはビスマスなどの金ｍＷＩ膜を基
板上に蒸着してなる記録材料においては、情報の書込み
は、レーザビームなどのエネルギービームを金属薄膜上
にスポット照射することにより、この部分の金属を蒸発
除去あるいは融解移動除去してビットを形成して行なわ
れている。

また情報の読出しは、読出し光を記録層上に照射し、記
録部であるビット部と未記録部である金属薄膜とにおけ
る反射率の違いを読取ることによって行なわれている。

ところで、情報の書込みに際しては、読出すべき情報そ
のものに相当する記録ビットを形成することに加えて、
光の案内溝に相当するトラッキングならびに読出ずべき
ビットを特定するためのブレフォーマツティングをも記
録層に書込む必要があった。

ところが記録層を構成するテルル、ビスマスなどの金属
は、ある程度毒性を有するため取扱いに充分な配慮を要
するとともに、レーザビームなどのエネルギービームの
照射によりビットを形成することは、高度な制御技術が
必要され、しかもそのビット形成工程が複雑であるため
コスト面からみても必ずしも安いものではなかった。し
たがって、もし、光の案内溝に相当するためのブレフォ
ーマツティングがレーザビーム照射以外の簡便な方法に
より大量にしかも安価に形成しうるような記録材料が出
現するならば、極めて有用性の高いものが得られると期
待される。

（発明の目的〕本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであって、以下のような目的を有する。

（ａ）　　高密度が可能で、しかも書込まれた情報の改
寵が困難である光記録材料を有する光カードを提供する
こと。

（ｂ）　　書込まれた情報を、光透過率の相違ではなく
、光反射率の相違に基いて読出すことができる光記録材
料を有する光カードを提供すること。

（ｃ）　　記録層に書込まれるべき情報の一部を、レー
ザビームの照射によらずパターン露光などの量産可能な
方法により行なうことができ、したがって製造工程の簡
素化が可能で、しかも大量生産ならびにコストダウンが
可能な光記録材料を有する光カードを提供すること。

（ｄ）　　長期間の使用によっても、読出しの精度が劣
化せず、信頼性、耐久性にすぐれた光カードを提供する
こと。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するために、本発明のＲＯＭ型光カード
は、カード基材上に光記録部が設けられている光カード
において、前記光記録部が、（ａ）光記録部用基材と、
（ｂ）この光記録部用基材上面に設けられた表面硬化層
と、（ｃ）光記録部用基材下面に設けられた、光透過部
および遮光部からなる記録層と、（ｄ）この記録層の表
面に設けられた、反射性金属薄積層からなり、前記カー
ド基材が、不透明材料層と透明材料層との積層体からな
り、前記光記録部の反射性金ｌｉＩ簿ａ層側と前記カー
ド膜材の不透明材料層側とが接着剤層を介して接合され
てなることを特徴とするものである。

記録層に書込まれた情報の読出しは、光カードの表面硬
化剤側から記録再生光を照射し、反射光の強度を検出す
ることによって行なわれる。

（発明の詳細な説明〕以下、本発明に係る光カードを、図面に示す具体例によ
り説明する。

本発明の光カード１は、その概念断面図が第１図に示さ
れるように、カード基材２と光記録部３とが接着剤層３
を介して接合一体化されてなる。

光記録部３は、光記録部用基材５と、この基材５の上面
に設けられた表面硬化層６と、基材５の下面に設けられ
た、光透過部７と遮光部８とからなる記録層つと、この
記録層９の下面に設けられた反射性金属薄１１層とが各
々積層形成されている。

一方、カード基材２は、不透明材料１１２ａと透明材料
層２ｂとの積層体からなる。場合によっては、透明材料
１２ｂ中に磁気記録層１１が設けられていてもよい。ま
た、記録層９、反射性金ＦＪＩ！１ｌＩｉＸ１０は、光
記録部用基材５の全面ではなく一部表面上に設けること
もできる。さらに、必要に応じてＩＣメモリー、写真、
彫刻画像、文字、マーク、インプリントと称する浮き出
し文字などを、光カードの表面もしくは裏面に併設して
もよい。

このようにすることにより、１枚のカードで種々の再生
方式に対応でき、また偽造がより効果的に防止できる。

第２図に示す別の具体例におＧプる光カード１において
は、光記録部３の第１記録層９と第２記録層１０との間
にバリヤーＷ！Ｊ１２が形成されており、その他の構成
は上記第１図の光カードの場合と同様である。このバリ
ヤー層１２は、温度の影響による金属薄膜層の変質を防
止するために設けられるものであり、特に記録層の感光
材料が吸湿性材料の場合に有用である。

以下、本発明の光カードの各構成部材について更に詳細
に説明する。

Ｌ二五１１カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられつる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチルなどの
アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、アセチルセルロース、スチレン／ブタジェン共重合
体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
などが用いられる。場合によっては、鉄、ステンレス、
アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シート、合成
紙、紙なども用いられうる。このうち、不透明材料層２
ａとしては、白色硬質ポリ塩化ビニルが好ましく用いら
れ、透明材料ＦｔＪ２ｂとしては、透明硬質ポリ塩化ビ
ニルが好ましく用いられる。

１に１皿皿１１光記録部用基材５としては、光透過性であるガラス、セ
ラミック、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布な
どあらゆるタイプの材料が用いられうるが、生産性およ
び平滑性の点からガラスあるいはプラスチックフィルム
が好ましい。プラスチックとしては、セルロース誘導体
、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹
脂、ポリエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、匂ルローストリアセテ
ート樹脂などを用いることができ、透明性および平滑性
の点から、セルローストリアセテート、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル
＃ＩＩＮ　、ポリスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹
脂などが特に好ましい。これら基材５には、必要に応じ
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、ブライマー処理な
どの接着性改良のための前処理をしてもよい。

【１１記録層９は、光透過部７および遮光部８から構成されて
いる。この記録ＷＪ９は、たとえば未露光部が光透過性
となり露光部が遮光性となる感光材をパターン露光し、
次いで現像することによって形成される。場合によって
は、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過性となる
感光材をパターン露光し次いで現像することによって、
記録１ｉ９を形成してもよい。

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹脂
、（０）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現
像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属
錯化合物または金属化合物から構成されている。この感
光材においては、バインダーとしての透明樹脂１ｏｏ唄
ｍ部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤は１〜１００重量部好ましくは２０〜５
０重社部の量で存在し、還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物は０．１〜１００ｆｆ１１
部好ましくは１〜１０［１部の黴で存在している。上記
の現像抑ｔ、１３剤、金属錯化合物または金属化合物は
、バインダーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散さ
れているが、好ましくは溶解されている。

透明樹脂としては、新油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。新油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリルＦｌｌ／酢酸ビニル共重合樹脂、エチ
レン／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する
樹脂、酢酸セルロースなどの水酸基を有する樹脂、カル
ボン酸基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系
樹脂などが挙げられる。

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれら
の新油性透明樹脂に添加することも高感度化のために有
効である。

また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カゼイン
、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子化
合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミン、
ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ燦々ビニル）、
ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合
体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水性
樹脂である限りにおいて、上記以外のものち使用可能で
ある。バインダーとしての親水性透明樹脂には、この透
明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触させ
る際に、物理現像液が感光材層に浸透して物理現像が可
能となる程度の親水性を有することが好ましい。

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物をエタノール溶
解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効であ
る。

現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とバラホルムアルデヒドより得ら
れる綜合生成物である化合物が好ましい。より具体的に
は、ｐ−Ｎ。

Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチルアミンベン
ゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モルフォリノ−２
，６−ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、
４−モルフォリノ−２゜５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−２，５−
ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（
４’−メトキシベンゾイルアミノ）−２，５−ジェトキ
シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（ｐ−トル
イルメルカプト）−２，５−ジメトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４′−メトキシジフ
ェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−３−メトキシ
−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジアゾ基を有す
る塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜鉛複塩の代
わりに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸塩なども使
用できる。

アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、４，４′−ジアジドカルコン、２．６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−アセトン、２．６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−シクロヘキサノン、２．６
−ビス−（４′−アジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２．６−ビス（４′−アジドスチリル）−
アレトン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基も
しくはアジド基を有する限り上記以外の化合物も使用す
ることもでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド
基を有する化合物を任意に２種以上併用して使用するこ
ともできる。

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルボン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。

次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（Ｉｆ）塩、ジク
ロロエチレンジアミンパラジウム（Ｉ［）塩、ジクロロ
（エチレンジアミン）白金（Ｖ）塩、テトラクロロジア
ンミン白金（ｒＶ）塩、ツク０ロビス（エチレンジアミ
ン）白金（ｒＶ）　塩、テトラエチルアンモニウム銅（
ｎ）塩、ビス（エチレンジアミン銅（ＩＩ）塩。

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２力
所以上で配位して環状Ｓ造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第１級、第２級
もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミルニ酢酸などの化合物が用いられる。

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ヒス（２，
２’−ビピリジン）パラジウム（Ｉｆ）塩、ビス（アセ
チルアセトナート）パラジウム（ＩＩ）、ビス（Ｎ、Ｎ
−ジエチルエチレンジアミン）銅（ＩＦ）塩、ビス（２
，２’　−ビピリジン）銅（ＩＩ）塩、ビス１．１０−
フェナントロリン）銅（Ｉｔ）塩、ビス（ジメチルグリ
オキシマート）銅（Ｔ［）、ビス（アセチルアセトナー
ト）銅（■）、ビス（アセチルアセトナート）白金（ｎ
）などが好ましい。

還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（
ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑
制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯化
合物または金属化合物は、バインダーとしての透明樹脂
に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗布に適
した粘度である１０？１０００センチボイズを有する感
光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成用塗布
液は、光記録部用基材５上に通常０．１〜３０μ乳の膜
厚に塗布されて感光材層が形成される。

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混和性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、新油性透明樹脂を用いる場合には
、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎブチ
ルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の高
い溶剤が好ましく用いられる。

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。

硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の量で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光材層上に塗布することにより行なうこと
ができる。

カリ明パン、アンモニウム明パンなどのＡｊ化合物；ク
ロム明パン、硫酸クロムなどのＣｒ化合物：ホルムアル
デヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メチ
ルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアルデ
ヒド類、；Ｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シク
ロヘキサン−１，２−ジオン、シクロペンタン−１，２
−ジオン、ジアセチル、２．３−ペンタンジオン、２゜
５−ヘキサンジオン、２．５−ヘキセンジオンなどのジ
ケトン；トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエポキ
シド；テトラフタロイルクロリド、４．４′−ジフェニ
ルメタンジスルフォニルクロリドなどのＭ無水物；タン
ニン酸、没食子酸、２゜４−ジクロロ−６−ヒドロキシ
−ｓ−トリアジン、ならびに一般式Ｒ２ＮＰＯＸ２、Ｒ−Ｎ＝Ｃ−Ｎ−Ｒ′　（ここでＲは炭素２〜６のアル
キル基、Ｒ′は（ｃＨ）　Ｎ＋　（ｃＨ３）３Ｘ−基、ＸはＦまたはＣ
ｊｌ、ｎは１または２）で表わされるリン化合物または
カルボジイミド：スチレン／マレイン酸共重合体、ビニ
ルピロリドン／マレイン酸共重合体、ビニルメチルエー
テル／マレイン酸共重合体、エチレンイミン／マレイン
酸共重合体、メタクリル酸／メタクリロニトリル共重合
体、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸エステル共重
合体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、
　　　　−乳酸、クエン酸、アスパラギン酸、ゲルコー
ル酸、酒石酸など。

このようにして、光記録部用基材５上に設けられた感光
材層をパターン露光し、次いで現像して未露光部である
光透過部７および露光部である遮光部８とからなる記録
ｍ９を形成する。パターン露光は、たとえばホトマスク
などのマスクを介して行なうことができる。

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部８を形成することもできる。

記録層９における光透過部７および遮光部８によりもた
らされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を読取
る際に、トラッキングおよびプレフォーマットとしての
働きをしている。

感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光量に応じて分解
されて潜像が形成される。

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しつる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。なお
未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像抑
制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触して
も金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存し
ている。

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第
１スズ溶液（ｗｅｉｓｓ液）あるいは市販の無電解メッ
キ用のセンシタイブ−液などが特に好ましいが、一般に
は、強力な還元剤であればすべて使用できる。

次いで、このようにして得られた金Ｎ現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
８が形成される。

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩および還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバルト
、鉄およびクロムなどのｖｔｂ族金属、銅などのＩｂ族
金属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。ま
た一旦銅塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や１ｉ［
錫で置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得る
ことも可能である。

これらの中でも安全性、保存性を考慮するとニッケル、
銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異なり原料の純度、メ
ッキ安定化剤などから少６の異種金属や°リン、イオウ
などの元−素が混入することはあり得るが、特に光記録
材料としての特性に影響を与えるものではない。

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。

塩化第一コバルト、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第ニクロム、ヨウ化第ニクロム、塩化
第二銅などの重金属ハライド：硫酸ニッケル、硫酸第一
鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第ニクロム、＠酸第二銅な
どの重金属硫′ＰａＪｊ２：硝酸ニッケル、硝酸第一鉄
、硝酸第一コパル１〜、硝酸第ニクロム、硝酸第二銅な
どの重金属硝Ｆｌ塩：フエラス７セテ−１・、コバルタ
スアセテート、クロミックアセテート、キューブリック
フォルメートなどの金属の有機酸塩。

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば１０
〜１００ｇ／ｌの酢で含まれることが好ましい。

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラザン、ボラゼン、ボラジン、ｔ−ブチル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２．６−メチルジボ
ラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、
ジメチルホスフィンボラン、フェニルホスフィンボラン
、ジメチルアルシンボラン、フェニルアルシンボラン、
ジメチルスチビンボラン、ジエチルスチピンボランなど
が使用できる。

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１〜
５０ｇ／ρの量で用いられることが好ましい。

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成する重金属イオンが水酸化物として沈澱するの
を防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、コ
ハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、酒
石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖酸
、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の−
種または二種以上を含ませることができる。これら錯塩
化剤は、物理現像液中にたとえば１〜１００ｇ／ｌの量
で用いられることが好ましい。

さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などのｐＨ１節剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面
活性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。

この添加剤のうちｐＨを上げるためにはアンモニア水°
もしくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好
ましい。

また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
′た６５℃から９０℃の高温ニッケルメッキ浴または銅
メッキ機中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際
得られた画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の
水溶液で５分間程度処理することにより光透過部の透明
樹脂を一部選択的に除去することもできる。

また、感光材としては、上述のような透明樹脂、現像抑
１１１１剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系
のほかに、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（ＩＩ
録商標）などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ
）ジアゾニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カル
バ−フィルム（登録商標）、ＰＤプロセス（登録商標）
材料などに代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモ
ノマー、ポリビニルケイ皮酸などに代表される光重合型
光楢かけ型のフォトポリマー系材料（ホ）トナー像を形
成するＣｄ　Ｓ、Ｚｎ　Ｏ１ポリビニルカルバゾールな
どの電子写真感光体あるいはその転写体、（へ）７０ス
ト像を形成するサーモプラスチックス電子写真感光体な
どの電子写真系材料、（ト）ロイコ染料と四臭化炭素と
の組合せ系、（チ）ダイラックス（登録商標）コバルト
錯体とロイコ染料との組合せ系、（す）シュウ酸第二酸
と鉄塩との組合せ系、（ヌ）スピロピラン、モリブデン
タングステン化合物などの顔料または色素の画像を形成
する材料などが用いられうる。

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。但し、上記の感光
材のうち、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（ロ）
ジアゾ基またはアジド基を右する光分解性の現像抑制剤
および（ハ）還元されて金属現像核となる全１ｉｌｓｌ
化合物または金属化合物から構成されている感光材を用
いると遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際にも高
濃度のものとして読取り可能であり、解像度が高く、し
かも明室で取り扱える利点がある。

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられうる。

叉里！艮■ 次に、上記のようにして形成された、光透過部７および
遮光部８とからなる記録層９上に、反射性金属薄膜層を
形成する。

反射性金属薄膜層１０は、Ｃ「、Ｔｉ１Ｆｅ１Ｇｏ　、
Ｎｉ　、Ｃｕ　、Ａｏ　、Ａｕ　ｓ　Ｇｅ　、ＡＭ、Ｍ
　Ｏ、Ｓ　ｂ　−Ｔ　ｅ　１Ｐ　ｂ　１Ｐ　ｄ　Ｎ　Ｃ
ｄ　−８＋　−８ｎＳ３ａ、Ｉｎ、Ｑａ、Ｒｈなどの光
反射性に優れた金属を単独もしくは２種以上組合せて用
いて形成されている。これらのうち、薄膜層とした場合
に特に光反、射性に優れているＡｊ、Ｃｒ　。

Ｎ＋、Ａａ、Ａｕなどが好ましい。

このような反射性全１！！′ｙｓ膜層を記録層上に形成
するには、上記のような金属あるいは合金を準備し、こ
れをスパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティ
ング法、電気メツキ法などの従来既知の方法によって記
録層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の膜厚
は、２００〜１０．０ＯＯＡ望ましくは１０００〜５０
００Ａ　　　　　　−であることが好ましい。

場合によっては、上記金属からなる多層膜たとえばＩｎ
膜とＴｅ膜との多層膜も反射性金属ＮＷＡとして用いら
れる。また、上記金属と有機化合物または無１１１％ｌ
！化物との複合物たとえばＴｃ　−ＣＨ４、Ｔｅ　−Ｃ
８２、Ｔ（３−スチレン、３ｎ　−３Ｏ２、Ｇｅ５−３
ｎ　、Ｓｎ　Ｓ−３などのＩＩＦＪあるいはｓｉ　Ｏ／
Ｔｉ　／Ｓｉ　０２　／Ａｊなトノ多層躾も反射性金属
薄膜として用いられつる。

さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた′ＲＩ！、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリ
エチレンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金
属粒子を分散さ眩たもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の
表面に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射
性金属′Ｍ膜として用いられつる。

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、Ｔｅ酸化物、ｓｂ酸化物、
Ｍｏ１ｌｆ化物、Ｑｅ酸化物、■酸化物、８１０Ｍ化物
、あるいはＴｅａ化物−Ｇｅ　、　Ｔｃ　−８ｎなどの
化合物が、反射性金属薄膜として用いられつる。

また、カルコーゲンあるいは発色型のＭ２Ｏ３−Ｃｕ　
、Ｍｏ　０３−３ｎ−Ｃｕが反射性金属ｖｉａとして用
いられ、場合によっては泡形成型の有機薄膜と金属薄膜
との多層体も反射性金属ｗｉＩＩＩとして用いられうる
。

ざらに光磁記録材料であるＧｄ　Ｃｏ　、Ｔｂ　Ｇｏ、
Ｇｄ　Ｆｅ　、　ｏｙ　Ｆｅ　１Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　１
Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、Ｔｂ　ＤＶ　Ｆｅ　、Ｍｎ　Ｃｕ
　Ｂｉなども反射性金属＊ｍとして用いられつる。

上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。

瓦亘豊土１表面硬化Ｗ６は、光カード１の光記録部側の表面の硬度
を高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使
用時に表面に傷がつくことを防止する。これにより、カ
ードの耐久性と書込み、読取り精度における信頼性の向
上を図ることができる。

この表面硬化層の材料としては、シリコーン系、アクリ
ル系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やＡ
Ｊ　　Ｏ５ｉ０２などの金属酸化物の他、プラズマ重合
膜などが用いられる。

氏止ヱニ１バリヤー層１２は、記録層９を構成する感光材料が、金
属ｗｇｉ層１０に対して物理的に、科学的な悪影響を及
ぼすのを防止するために設けられる。

特に、記録層の感光材料が吸湿性の場合、高湿度下で金
属ＷＩ膜層が変質するのを防止するのに有用である。

バリヤー層の材料としては、アクリル系、メラニン系、
ウレタン系またはセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンやＡｌ２Ｏ２，５ｉ
０２などの金属酸化物の他、プラズマ重合膜などを用い
ることができる。

１１亙Ｉ接着剤層４を構成する接着剤としては種々のものが用い
られつるが、例えばポリウレタンもしくはエポキシなと
の熱硬化性接着剤、あるいはアクリル樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル樹脂、ポリエチレン／酢酸ビニル共重合樹脂等の感
熱接着剤などを用いることができる。これらのうち耐薬
品性が要求されるどきは熱硬化性接着剤、好ましくはポ
リウレタン接着剤が用いられる。

１１五丑次に本発明に係る光カードの製造方法について説明する
。

まず上述のようにして、光記録部用基材上に記録層およ
び反射性金ｍ簿ｌ！Ｊ層、さらに必要に応じてバリヤー
層を設は光記録部を形成する。この光記録部用基材は、
光カードとして組立てられた場合に、カード保護層とし
ての役割をも果している。

次に、カード基材と光記録部用基材とを、元肥　　　゛
緑部の金属薄膜層がカード基材の不透明材料層側と接す
るように、熱硬化性接着剤もしくは感熱接着剤などの接
着剤層を介して重ね合わせた後、９０〜１５０℃程度に
加熱された熱ロールなどにて圧着することにより光カー
ドを製造できる。

場合によっては、以下のようにして光カードを製造する
こともできる。すなわち光記録部用基材上に、親水性樹
脂をバインダーとして含む記録層および反射性金属薄設
層を設けた後、この反射性金ａＳＳ上に、アクリル樹脂
などの保護膜をスクリーン印刷などにより塗布し、この
部分を耐水性とする。この際光記録部用基材の周辺縁部
にはその保護膜は設けない。次いでこの光記録材料を渇
水に浸漬し、保護膜の設けられていない部分の親水性樹
脂を除去した後乾燥する。

一方、白色ポリ塩化ビニルフィルムなどのカード基材に
は、必要に応じて、熱プレス法などによって光記録部の
記録層および反射性金属１１１ｆｔｆ層を嵌込むための
凹部を形成することも表面に接着剤層を設けることもで
きる。

次に、光記録部とカード基材とを、光記録部の金属薄膜
層がカード基材と接するようにして重ね合わせ、熱ロー
ルなどで圧着接合することにより光カードを製造できる
。

ｎｊし医韮ＪＵ区記録層に書込まれた情報の読出しは、反射性金属薄膜層
を溶融させない程度の低エネルギーのエネルギービーム
あるいは白色光、タングステン光などをレンズなどを介
して、基材の記録層が設けられていない側から光透過部
および遮光部からなる記録層ならびに反射性金属７ＩＩ
ｗＡ層上に集光して照射し、反射光の強度を検出するこ
とによって行なわれる。

上記記録層における遮光部は前述のように金属現像核を
中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形成
されているため、この遮光部に読出し用照射ビームが照
射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射率
は小さくなる。

一方光透過部では、照射ビームはほとんど吸収されずに
反射性金属薄膜層に達して高い反射率で反射されるため
、この光透過部における反射率は大きい値とする。

このようにして、記録層における遮光部と光透過部との
光反射率の相違を読取ることによって、光記録材料に書
込まれた情報を読出すことができる。

用　　途本発明に係る光カードは、クレジットカード、バンクカ
ードなどのカード類に加えて、免許証、カルテなどの医
療管理記録、パスポート、ワードプロセッサ用の辞書、
旅行用小切手、コンピュータ用のソフトパッケージなど
への用途に用いることが可能である。

〔発明の効果〕

本発明に係る光カードは、感光材層からなる記録層およ
び反射性金属薄ｍ層が設けられているので、以下のよう
な効果を有する。

（ａ）　　磁気記録カードと比較して、はるかに高密度
記録が可能で、しかも書込まれた情報の改憲が著しく困
難である。

（ｂ）　　！込まれた情報を、光反射率の相違に基いて
読出すことができる。

（ｃ）　　記録層への情報の副込みを、レーザビームの
照射によらず、パターン露光などの口座可能な方法によ
り行ないつる。

（ｄ）　　感光剤として、透明樹脂、現像抑ｕＩ剤、金
Ｉｉ！！錯化合物または金属化合物からなる系を用いる
場合には、明室での操作が可能となる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。

宜１０１−」− 厚み４００μｍのポリカーボネートフィルム上に下引き
処理剤（信越化学製　ブライマーｐｃ−４）をグラビア
コーティングし、次にその上にシリコーン系表面硬化剤
（信越化学Ｉ　　Ｘ−１２−２１５０）をグラビアコー
ティングし、１００℃１分間でキュアして表面硬化層を
得た。上記のポリカーボネートフィルムの裏面に下記組
成の感光材層形成用塗布液をグラビアコーティングした
。

感光材層形成塗布液の塗布量は乾燥時で３ｇ／ＴＩＬで
あった。

感光材　チ　　塗１　組ポリビニルメチルエーテル無水マレイン酸エステル（Ｇ
、Ａ、Ｆ　　Ｃｏｒｐ製　ガントレツツＡＮ１３９）　
　１０％　メチルエチルケトン溶液＝２０＠量部ポリ酢酸ビニル（積木化学製　エス二一ルＣ−２＞　　
２．０％　メチルエチルケトン溶液＝２０重量部アクリル系樹脂（綜研化学製　Ｌ−４０）２５％　メチ
ルセロソルブ溶Ｈ：１２重量部塩化パラジウム　０．１
％　メチルセロソルブ溶液　　　　　　　　　　　　　
　＝３８重農部（Ｐｄ　Ｃρ　：８１塩酸：メチルセロ
ソルブ−１：１０：１０００）４−モルフォリノ−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウムホウフッ化塩（大東化学’１４　　Ｄ８３００８
Ｆ４）　　１０％　メチルセロソルブ溶液：１０重量部次に、このようにして形成された感光材面と、たて１５
μ瓦、よこ５μｍのドツトをピッチ１５μｍで並んだ列
を列間ピッチ２０μｍの配列でネガティブにパターニン
グしたフォトマスクのマスク面とを密着させ、フォトマ
スク側から長高圧水［Ｔ　（３ｋｗ、　距１１１１　ｍ
＞　ｒＩ　０秒間露光した。この際使用したフォトマス
クパターンはフォトエツチング法で得た。その作製は、
ガラス板上にＣｒ薄膜をスパッタリング法により作製し
た上にフォトレジスト（シラブレー製ＡＺ１３５０）を
塗布し乾燥した表面に、位置制御したＸＹステージ上で
Ｈｅ−Ｃｄレーザーをビーム径２μ雇に絞って照射した
。これにより、たて１５μｍ、よこ５μ雇のドツトをピ
ッチ１５μｍで並んだ列を列間ピッチ２０μｍの配列で
形成し、さらに、レジスト現像液（シラプレー製）で処
理し、１３０℃２５分間加熱処理した後、塩化第二鉄液
にてエツチングして、ドツト部が光透過性となるパター
ンを得た。

次いで上記のようにしてパターン露光された感光材層を
下記組成の処理液（Ａ）、（８）にこの順序でそれぞれ
６０秒、８０秒浸漬した（処理温度３０℃）。

（Ａ）シバニッケル（奥野製薬製）ホウ素系還元剤　　　　二　０．５９硫酸ニツケル　　　：３．０ｇクエン酸ナトリウム　　：　　１．（１水　　　　　　
　　　　　　　　　　　：９５．　５ｙ（Ｂ）ＴＭＰ化
学ニッケルーＡ１ＴＭＰ化学ニッケルー８の１対１浪合液硫酸ニッケル　
　　　　：　　９．Ｏｇ次亜リン酸ナトリウム　ニア、
０９ＮＨ水溶液（２８％）：６．５グクエン酸ナトリウム　　：１０．Ｏグ水　　　　　　　　　　　　　　　　　：６７．　５ｙ
しかる後、水洗、乾燥して、光透過部と遮光部に相当す
る黒色のポジティブパターンとを有する記録層を得た。

上記ようにしてパターニングされた記録層上にＡ１を膜
厚１５００人になるように蒸着して反射性金属薄膜層を
形成して光記録材料を得た。この際Δｇ膜は記録層の周
辺縁部には形成しなかった。

一方、カード基材は、以下の様に作製した。まず白色硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ２００μｍ）の両面に文字図案
のパターンをスクリーン印刷法により設け、別に透明硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ１００μＴｒＬ）の片面一部に
磁気記録層を巾６．５履で設けた。その実部と上記印刷
汎みの白色ポリ塩化ビニルとを重ねて、ステンレス板二
枚にはさみプレス機にて１４０℃３０分間加熱加圧して
カード基材を得た。

上記のようにして作成した光記録材料とカード基材を光
記録材料のＡＮ蒸着面とカード基材の白色ポリ塩化ビニ
ル面（印刷面）とを接着剤であるウレタン系樹脂（アン
プス化学産業アルポンＥＵ−４２００，ＥＨ０４２００
の混合比１０対１）を介して重ね合わせロールなどによ
り圧着した。

２４時間放置後打ち抜き金型により打法き光カードを得
た。

支１Ｍ−１実施例１と同様にして得られたパターニングされた第１
記録層上にバーコードによりメラニン系樹脂（大日本イ
ンキ化学工業　タフコート１１２）を塗布し、１２０℃
、３分間加熱処理してバリヤー層（膜厚３μｍ）を形成
した。次に、Ｔｅ　−Ｃｕ−ｐｂ金合金スパッタターゲ
ット組成比　モル比　８０：１５：５）をスパッタリン
グして第２記録層が形成して光記録材料を得た。この際
Ｔｅ　−Ｃｕ−Ｐｂ薄躾は記録層の周辺縁部に形成しな
かった。

以下実施例１と同様にしてカード基材を作製して、上記
の光記録材料と接着剤を介して貼り合わけて硬化後打抜
き、光カードを得た。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明に係る光カードの断面図
である。１・・・光カード、２・・・光カード基材、２ａ・・・
不透明材料層、２ｂ・・・透明材料層、３・・・光記録
部、４・・・接着剤層、５・・・光記録部用基材、６・
・・表面硬化層、７・・・光透過部、８・・・遮光部、
９・・・記録層、１０・・・反射性金属薄膜層、１１・
・・磁気記録層、１２・・・バリヤー層。出願人代理人　　猪　　股　　　　清た　１　図も２　図

Claims

【特許請求の範囲】１、カード基材上に、光記録部が設けられている光カー
ドにおいて、前記光記録部が、（ａ）光記録部用基材と
、（ｂ）この光記録部用基材上面に設けられた表面硬化
層と、（ｃ）光記録部用基材下面に設けられた、光透過
部および遮光部からなる記録層と、（ｄ）この記録層の
表面に設けられた反射性金属薄膜層からなり、前記カー
ド基材が、不透明材料層と透明材料層との積層体からな
り、前記光記録部の反射性金属薄膜層側と前記カード基
材の不透明材料層側とが接着剤層を介して接合されてな
ることを特徴とする、ＲＯＭ型光カード。２、前記光記録部の記録層と反射性金属薄膜層とがバリ
ヤー層を介して積層されている、特許請求の範囲第１項
に記載の光カード。３、前記カード基材が磁気記録部を有している、特許請
求の範囲第１項または第２項に記載の光カード。