JPS61213841A - ジアゾ複写材料 - Google Patents
ジアゾ複写材料Info
- Publication number
- JPS61213841A JPS61213841A JP5436185A JP5436185A JPS61213841A JP S61213841 A JPS61213841 A JP S61213841A JP 5436185 A JP5436185 A JP 5436185A JP 5436185 A JP5436185 A JP 5436185A JP S61213841 A JPS61213841 A JP S61213841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- silica
- photosensitive layer
- coating
- copying material
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/61—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
玖韮」ＬＬ
本発明は、ジアゾ複写材料特に二成分型乾式、半乾式ジ
アゾ複写材料に関する。
アゾ複写材料に関する。
従来、支持体とジアゾ感光層との間にプレコート層を設
け、このプレコート層中に画像濃度向上の目的でシリカ
を含有せしめたジアゾ複写材料がよく知られている。し
かしながら、この方式のものは、支持体上に直接ジアゾ
感光層を設けたり、又、ジアゾ感光層中にシリカを分散
させたジアゾ複写材料と比べると、空気中のＮＯｘや室
内のガスストーブ、石油ストーブ、排ガスによるＮＯｘ
による画像の劣化が茗しいことが知られている。
け、このプレコート層中に画像濃度向上の目的でシリカ
を含有せしめたジアゾ複写材料がよく知られている。し
かしながら、この方式のものは、支持体上に直接ジアゾ
感光層を設けたり、又、ジアゾ感光層中にシリカを分散
させたジアゾ複写材料と比べると、空気中のＮＯｘや室
内のガスストーブ、石油ストーブ、排ガスによるＮＯｘ
による画像の劣化が茗しいことが知られている。
目 的
本発明はプレコート層にシリカを含有せしめたジアゾ複
写材料のＮＯｘガスによる劣化を小さくして信頼性の高
いものを提供することを目的とする。
写材料のＮＯｘガスによる劣化を小さくして信頼性の高
いものを提供することを目的とする。
虱−−」【
本発明は支持体とジアゾ感光層との間にシリカ含有のプ
レコート層を設けたジアゾ複写材料において、該プレコ
ート層に用いるシリカとして、シランカップリング剤を
もって表面処理したものを用いることを特徴とするジア
ゾ複写材料である。
レコート層を設けたジアゾ複写材料において、該プレコ
ート層に用いるシリカとして、シランカップリング剤を
もって表面処理したものを用いることを特徴とするジア
ゾ複写材料である。
本発明にＦ３ｔプる感光層はジアゾ化合物とカップリン
グ成分を主成分とじたものであるが、ジアゾ化合物の代
表例としては下記一般式（Ｉ）に示されるものが挙げら
れる。
グ成分を主成分とじたものであるが、ジアゾ化合物の代
表例としては下記一般式（Ｉ）に示されるものが挙げら
れる。
（ただし、式中、ＹＳＺは−Ｈ又はＯＲ＋で表わし、Ｒ
１はＣ１〜Ｃ５のアルキル基、アラルキル基又はシクロ
アルキル基を表わし、Ｒ２、Ｒ３は一方がＣ１〜Ｃ４の
ヒドロキシアルキル基、オキシアルキル基か又は双方が
アルキル基又はヒドロキシアルキル基、オキシアルキル
基あるいはＲ２、Ｒ３が結合する窒素原子とともに複素
環を形成してもよく、Ｘはアニオンを示す。） かかる化合物の具体例としては、Ｎ 、Ｎ−ジメチル
アミンベンゼンジアゾニウムクロライド、Ｎ−メチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、４−ジアゾ−２゜５、ジメトキシフェニルモル
フォリン、４−ジアゾ−２，５，ジプロポキシフェニル
モルホリン、４−ジアシー２．５．ジブトキシ−Ｎ−ベ
ンジル−Ｎ−エチルアニリン、４−ジアゾ−２，５，ジ
ブトキシ−Ｎ−ジブチルアニリン、４−ジアゾ−２，５
゜ジブ］−キシーＮ−ベンジル−１１−オキシエチルア
ニリン等が挙げられる。
１はＣ１〜Ｃ５のアルキル基、アラルキル基又はシクロ
アルキル基を表わし、Ｒ２、Ｒ３は一方がＣ１〜Ｃ４の
ヒドロキシアルキル基、オキシアルキル基か又は双方が
アルキル基又はヒドロキシアルキル基、オキシアルキル
基あるいはＲ２、Ｒ３が結合する窒素原子とともに複素
環を形成してもよく、Ｘはアニオンを示す。） かかる化合物の具体例としては、Ｎ 、Ｎ−ジメチル
アミンベンゼンジアゾニウムクロライド、Ｎ−メチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、４−ジアゾ−２゜５、ジメトキシフェニルモル
フォリン、４−ジアゾ−２，５，ジプロポキシフェニル
モルホリン、４−ジアシー２．５．ジブトキシ−Ｎ−ベ
ンジル−Ｎ−エチルアニリン、４−ジアゾ−２，５，ジ
ブトキシ−Ｎ−ジブチルアニリン、４−ジアゾ−２，５
゜ジブ］−キシーＮ−ベンジル−１１−オキシエチルア
ニリン等が挙げられる。
又前記カップラーの具体例としては、たとえばレゾルシ
ン、フロログルシン、２−メチルレゾルシン、フェニル
メチルピラゾロン、２，５−ジメチル４セルホリノメチ
ルフエノール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
ｐ−スルホアラトアニリド、１−ベンゾイルアミノ−８
−ヒドロキシナフタレン−３，６，ジスルホンアミド、
２．３．ジヒドロキシナフタレン、２，１．ジヒドロキ
シナフタレン−３，６，ジスルホン酸ソーダ、２，３゜
ジヒドロキシ−６−スルホン酸ソーダ、２．５−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒドロ
キシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミノ−
３−ヒドロキシナフタレン−３，６，ジスルホンアミド
、ナフトールＡＳ。
ン、フロログルシン、２−メチルレゾルシン、フェニル
メチルピラゾロン、２，５−ジメチル４セルホリノメチ
ルフエノール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
ｐ−スルホアラトアニリド、１−ベンゾイルアミノ−８
−ヒドロキシナフタレン−３，６，ジスルホンアミド、
２．３．ジヒドロキシナフタレン、２，１．ジヒドロキ
シナフタレン−３，６，ジスルホン酸ソーダ、２，３゜
ジヒドロキシ−６−スルホン酸ソーダ、２．５−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒドロ
キシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミノ−
３−ヒドロキシナフタレン−３，６，ジスルホンアミド
、ナフトールＡＳ。
ナフトールＡＳＤ、２−ヒドロキシナフタリン−３−ビ
グアナイド、２−ヒドロキシナフトエ酸モルホリノプロ
ピルアミド、２−ヒドロキシナフトエ酸エタ、ノールア
ミ・ド、２−ヒドロキシナフトエ酸−Ｎ−ジメチルアミ
ンプロピルアミド、２，４．２−．４−−テトラヒドロ
キシジフェニル、２，４．２−．４’−−テトラヒドロ
キシジフェニルスルホキシド等が挙げられる。
グアナイド、２−ヒドロキシナフトエ酸モルホリノプロ
ピルアミド、２−ヒドロキシナフトエ酸エタ、ノールア
ミ・ド、２−ヒドロキシナフトエ酸−Ｎ−ジメチルアミ
ンプロピルアミド、２，４．２−．４−−テトラヒドロ
キシジフェニル、２，４．２−．４’−−テトラヒドロ
キシジフェニルスルホキシド等が挙げられる。
感光層中にはその他公知の酸安定剤、酸化防止剤、界面
活性剤、保存性助剤を添加することが可能である。
活性剤、保存性助剤を添加することが可能である。
プレコート層中に用いるシリカの表面処理剤としてのシ
ランカップリング剤としては下記一般式で示されるもの
が適当である。
ランカップリング剤としては下記一般式で示されるもの
が適当である。
（式中Ｒ１〜Ｒ４はＨ１アルキル基、塩素、ビニル基、
メタクロロ基、環状エポキシ基、グリシドオキシ、メル
カプト、アミノ、ジアミノ、ウルイド、メトキシ、エト
キシ基を表わし各々Ｒ１〜Ｒ４は同一であっても良いが
無置換のシランは含まない） 上記一般式の化合物の具体例としては、γ−グリシドオ
キシブロビルトリエボキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、γ−ウルイドプロビルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルクロロシ
ラン、アミノシラン、エポキシシラン、メチルクロロシ
ラン、メルカプトシラン、トリクロロシラン、メチルト
リクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチ
ルジシラザン、トリメチルクロロシラン、メチルジクロ
ロシラン、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
メタクロロ基、環状エポキシ基、グリシドオキシ、メル
カプト、アミノ、ジアミノ、ウルイド、メトキシ、エト
キシ基を表わし各々Ｒ１〜Ｒ４は同一であっても良いが
無置換のシランは含まない） 上記一般式の化合物の具体例としては、γ−グリシドオ
キシブロビルトリエボキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、γ−ウルイドプロビルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルクロロシ
ラン、アミノシラン、エポキシシラン、メチルクロロシ
ラン、メルカプトシラン、トリクロロシラン、メチルト
リクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチ
ルジシラザン、トリメチルクロロシラン、メチルジクロ
ロシラン、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
かかるシランカップリング剤はシリカの１重量部当り０
．１〜５％の範囲で用いて、表面のシラノール活性基を
一部ないし殆ど全部不活性化せしめる。
．１〜５％の範囲で用いて、表面のシラノール活性基を
一部ないし殆ど全部不活性化せしめる。
プレコート層中にはかかる表面処理されたシリカの他は
通常一般に用いられる結着剤例えば、ポリ酢酸ビニル、
ポリアクリル酸およびそのニスデル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、５ＢＲ１スチレンアクリル共重合体、Ｐ
ＶＡ、水溶性力ゼイン、ポリウレタン、フェノール樹脂
、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、エチレン−酢ビ共
重合体が用いられ、他に地肌着色染顔料も加えることが
できる。
通常一般に用いられる結着剤例えば、ポリ酢酸ビニル、
ポリアクリル酸およびそのニスデル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、５ＢＲ１スチレンアクリル共重合体、Ｐ
ＶＡ、水溶性力ゼイン、ポリウレタン、フェノール樹脂
、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、エチレン−酢ビ共
重合体が用いられ、他に地肌着色染顔料も加えることが
できる。
本発明の複写材料は、上記表面処理されたシリカを結着
剤等とともに支持体に塗布法により塗布、乾燥して、付
着量１〜４（＋／＋１１２のプレコート層を形成したの
ち、その上にさらに感光層形成用水性液を塗布乾燥して
、付着量０．５〜２ｇ／ｍ ’の感光層を形成すれば良
い。
剤等とともに支持体に塗布法により塗布、乾燥して、付
着量１〜４（＋／＋１１２のプレコート層を形成したの
ち、その上にさらに感光層形成用水性液を塗布乾燥して
、付着量０．５〜２ｇ／ｍ ’の感光層を形成すれば良
い。
次に実施例並びに比較例について述べる。
実施例１
微粉末シリカをアルコール（メチルアルコール、エチル
アルコール、イソプロピルアルコールなど）によって希
釈したヘキサメチルジシラザン中に分散させた後、沸点
付近で煮沸し還流して、表面改質シリカを得た。
アルコール、イソプロピルアルコールなど）によって希
釈したヘキサメチルジシラザン中に分散させた後、沸点
付近で煮沸し還流して、表面改質シリカを得た。
この表面改質シリカ４ｇとスチレン−アクリル共重合エ
マルジョン１０（Ｊ （固型分）５０％を水で１００
１ と、ブレフート形成液として、ジアゾ感光紙用原紙
＜６８〉上に乾燥付着ｉｊ２ｇ／ｍ２どなるようにワイ
ヤーバーを用いて塗布し、さらに乾燥してプレコート層
を形成した。
マルジョン１０（Ｊ （固型分）５０％を水で１００
１ と、ブレフート形成液として、ジアゾ感光紙用原紙
＜６８〉上に乾燥付着ｉｊ２ｇ／ｍ２どなるようにワイ
ヤーバーを用いて塗布し、さらに乾燥してプレコート層
を形成した。
このプレコート層上に下記組成のジアゾ感光層形成液を
乾燥材＠１０．ａｇ／ｍ ’となるように塗布乾燥した
。
乾燥材＠１０．ａｇ／ｍ ’となるように塗布乾燥した
。
酒石酸 ３ｇカフェイン
２ｇナフタレン−２，７，ジスルホ
ン酸ソーダｇ チオ尿素 ０．５ｇ２−ヒドロキ
シ−３−ナフトエ酸 モルホリノプロピルアミド １ｇ ４−モルホリノ−２，５，ジブトキシベンゼンジアゾニ
ウムクロライド・ １／２ Ｚｎ Ｃ１２ｇ サポニン ０．０５！ＩＩ水で全ｆ
ｉ１００ｎｌとなるように溶解する。
２ｇナフタレン−２，７，ジスルホ
ン酸ソーダｇ チオ尿素 ０．５ｇ２−ヒドロキ
シ−３−ナフトエ酸 モルホリノプロピルアミド １ｇ ４−モルホリノ−２，５，ジブトキシベンゼンジアゾニ
ウムクロライド・ １／２ Ｚｎ Ｃ１２ｇ サポニン ０．０５！ＩＩ水で全ｆ
ｉ１００ｎｌとなるように溶解する。
比較例１
プレコート層に表面改質シリカを用いない以外は実施例
１と同様にしてジアゾ複写材料を作成した。
１と同様にしてジアゾ複写材料を作成した。
実施例２
実施例１と同様にしてジアゾ感光紙用原紙にプレコート
層を形成し、これに下記組成のジアゾ感光層形成液を塗
布、乾燥してジアゾ複写材料を作成した。
層を形成し、これに下記組成のジアゾ感光層形成液を塗
布、乾燥してジアゾ複写材料を作成した。
酒石酸 ３ｇカフェイン
ｏ、ｓｇ２．３−ジヒドロキシナフタ
レン ＝６−スルホン酸ソーダ ２ｇ ４−ジアゾジメチルアニリン −１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２ ｏ、５ｇチオ尿素
４．０ｇエチレングリコール
４．０ｇサポニン ０．１ｇ
比較例２ プレコート層に表面改質シリカを用いない以外は実施例
２と同様にしてジアゾ複写材料を作成した。
ｏ、ｓｇ２．３−ジヒドロキシナフタ
レン ＝６−スルホン酸ソーダ ２ｇ ４−ジアゾジメチルアニリン −１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２ ｏ、５ｇチオ尿素
４．０ｇエチレングリコール
４．０ｇサポニン ０．１ｇ
比較例２ プレコート層に表面改質シリカを用いない以外は実施例
２と同様にしてジアゾ複写材料を作成した。
上記実施例１並びに比較例１で得られたジアゾ複写材料
を半乾式ジアゾ複写機で現像し、又実施例２並びに比較
例２で得られたジアゾ複写材料は市販の乾式ジアゾ複写
機によって完全現像し、ＮＯＸガスによる染料退色試験
を行なプたところ表に示す結果が得られた。
を半乾式ジアゾ複写機で現像し、又実施例２並びに比較
例２で得られたジアゾ複写材料は市販の乾式ジアゾ複写
機によって完全現像し、ＮＯＸガスによる染料退色試験
を行なプたところ表に示す結果が得られた。
表
効 果
本発明のジアゾ複写材料は、上記の試験結果から明らか
なように、プレコート層中に表面処理されたシリカを用
いることにより、ＮＯｘガスによる画像の劣化は、表・
面処理されていないシリカを用いたものに比べて著しく
改善される。
なように、プレコート層中に表面処理されたシリカを用
いることにより、ＮＯｘガスによる画像の劣化は、表・
面処理されていないシリカを用いたものに比べて著しく
改善される。
Claims (1)
- 支持体とジアゾ感光層との間にシリカ含有のプレコート
層を設けたジアゾ複写材料において、該プレコート層に
用いるシリカとして、シランカップリング剤をもって表
面処理したものを用いることを特徴とするジアゾ複写材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5436185A JPS61213841A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5436185A JPS61213841A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61213841A true JPS61213841A (ja) | 1986-09-22 |
Family
ID=12968502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5436185A Pending JPS61213841A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61213841A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449040A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-23 | Minnesota Mining & Mfg | Radiation photosensitive photographic element |
-
1985
- 1985-03-20 JP JP5436185A patent/JPS61213841A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449040A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-23 | Minnesota Mining & Mfg | Radiation photosensitive photographic element |
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