JPS61210176A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS61210176A JPS61210176A JP4830385A JP4830385A JPS61210176A JP S61210176 A JPS61210176 A JP S61210176A JP 4830385 A JP4830385 A JP 4830385A JP 4830385 A JP4830385 A JP 4830385A JP S61210176 A JPS61210176 A JP S61210176A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- arms
- electrode
- substrate
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は真空処理装置に係り、特に試料の保持機構に好
適な真空処理装置。
適な真空処理装置。
従来の装置は、米国特許第２６０６６８号明細書に記載
のように、ウェハを機械的に押し付ける機能は有してい
たが、ウェハの中心に自動釣書こ調 芯して押し付ける
という点については配慮されていないため、ウェハの外
周をかなり広範囲にわたって押し付けなければならず、
ウェハの歩留りが悪くなるという問題があった。
のように、ウェハを機械的に押し付ける機能は有してい
たが、ウェハの中心に自動釣書こ調 芯して押し付ける
という点については配慮されていないため、ウェハの外
周をかなり広範囲にわたって押し付けなければならず、
ウェハの歩留りが悪くなるという問題があった。
本発明は、試料の押えを自動調芯させ、より少ない面積
で試料を押え付けて、試料の歩留りを向上させることの
できる真空処理装置を提供すること化ある。
で試料を押え付けて、試料の歩留りを向上させることの
できる真空処理装置を提供すること化ある。
本発明は、真空容器内で試料を設置し往復動する試料台
と、前記試料台の試料設置側にあって前記試料を押え保
持する押えと、前記試料台の反試料設置側にあって回動
可能書ζ取り付けられた調芯アームと、前記試料台の反
試料設置側にあって前記調芯アームに引っ掛け可能に設
けられたウェイトとを具備したことを特徴とし、試料の
押えを自動調芯させ、より少ない面積で試料を押さえ付
けて、試料の歩留りを向上させることのできるものであ
る。
と、前記試料台の試料設置側にあって前記試料を押え保
持する押えと、前記試料台の反試料設置側にあって回動
可能書ζ取り付けられた調芯アームと、前記試料台の反
試料設置側にあって前記調芯アームに引っ掛け可能に設
けられたウェイトとを具備したことを特徴とし、試料の
押えを自動調芯させ、より少ない面積で試料を押さえ付
けて、試料の歩留りを向上させることのできるものであ
る。
以下、本発明の一実施例を第１図から第４図により説明
する。
する。
第１図は真空処理装置例えばプラズマ処理装置の停止状
態を示す。真空容器内１０に設けた試料台例えば電極１
１の上に試料例えば基板１２が載置され、電極１１の上
方には賦板１２を押え付ける押え１９が設けてあり、電
極１１の下方の真空容器１０の底面上にはウェイト１８
が載置しである。電１ｉ＋１１の外周囲わりには調芯ア
ーム１３が複数個少なくとも３個以上取り付けである。
態を示す。真空容器内１０に設けた試料台例えば電極１
１の上に試料例えば基板１２が載置され、電極１１の上
方には賦板１２を押え付ける押え１９が設けてあり、電
極１１の下方の真空容器１０の底面上にはウェイト１８
が載置しである。電１ｉ＋１１の外周囲わりには調芯ア
ーム１３が複数個少なくとも３個以上取り付けである。
調芯アーム１３は第３図および第４因に示すように、電
極１１の下部に取り付けられたサポート１４にビン１５
で回動可能に取り付けられており、同じ＜電ｌ１ｉｌｌ
の下部でピンエ５より内側にストッパ１６が設けられ調
芯アーム１３の端部と当たり、同じく電極１１の下部で
ビン１５より外側にばね１７が設けられ調芯アーム１３
を吊り下げている。
極１１の下部に取り付けられたサポート１４にビン１５
で回動可能に取り付けられており、同じ＜電ｌ１ｉｌｌ
の下部でピンエ５より内側にストッパ１６が設けられ調
芯アーム１３の端部と当たり、同じく電極１１の下部で
ビン１５より外側にばね１７が設けられ調芯アーム１３
を吊り下げている。
上記構成により、電！１１１の中心にハンドリング装置
（図示省略）によって基板１２が載置されている。調芯
アーム１３はビン１５を中心にして、ばね１７によって
引っ張られて上部が縮まる方向に傾けられている。この
状態において、電ｔｉｌｌが上昇して行く。まず調芯ア
ーム１３の先端が押え１９の内側凹部にはまり込む。さ
らに電極１１が上昇し続けると、調芯アーム１３の下の
かぎ部がウェイト１８のつば部に引っ掛かる。すると、
ウェイト１８の重さで調芯アーム１３の下部がビン１５
を支点として、内側方向に回転し、調芯アーム１３の上
部先端か広がり、押え１９の凹部内面を押し広げること
になる。ここで、調芯アーム１３と各部品との接触抵抗
等により、各調芯アーム１３の傾きに違いが出ると、押
え１９の中心が電１ｉ１１の中心とずれてしまうので、
調芯アーム１３の上先端部の広がりが押え１９の凹部内
面の径と同じになって、かつ、各調芯アーム１３の傾き
がそれぞれ等しくなる位置で止まるように、ストッパ１
６の大きさを決めておくかまたは調整できるようにして
お（。ストッパ１６によって調芯アーム１３が止まり、
押え１９は電極１１と同中心になる。さらに電極１１を
上昇させると第２図１ζ示すよう一ζ押え１９が基板１
２の周囲を押えて押え保持する。基板１２のプラズマ処
理が終わると、電極１１が下降する。下降するときは、
前記上昇のときの逆となる。
（図示省略）によって基板１２が載置されている。調芯
アーム１３はビン１５を中心にして、ばね１７によって
引っ張られて上部が縮まる方向に傾けられている。この
状態において、電ｔｉｌｌが上昇して行く。まず調芯ア
ーム１３の先端が押え１９の内側凹部にはまり込む。さ
らに電極１１が上昇し続けると、調芯アーム１３の下の
かぎ部がウェイト１８のつば部に引っ掛かる。すると、
ウェイト１８の重さで調芯アーム１３の下部がビン１５
を支点として、内側方向に回転し、調芯アーム１３の上
部先端か広がり、押え１９の凹部内面を押し広げること
になる。ここで、調芯アーム１３と各部品との接触抵抗
等により、各調芯アーム１３の傾きに違いが出ると、押
え１９の中心が電１ｉ１１の中心とずれてしまうので、
調芯アーム１３の上先端部の広がりが押え１９の凹部内
面の径と同じになって、かつ、各調芯アーム１３の傾き
がそれぞれ等しくなる位置で止まるように、ストッパ１
６の大きさを決めておくかまたは調整できるようにして
お（。ストッパ１６によって調芯アーム１３が止まり、
押え１９は電極１１と同中心になる。さらに電極１１を
上昇させると第２図１ζ示すよう一ζ押え１９が基板１
２の周囲を押えて押え保持する。基板１２のプラズマ処
理が終わると、電極１１が下降する。下降するときは、
前記上昇のときの逆となる。
以上、本実施例によれば′４１極１１を上下動させるこ
とにより、調芯アーム１３が作動して押え１９を電１″
！＋１１の中心に合わせられるので、 Ｊｌｔｍｌ １
の中心に載置されたバ板１２の中心からずれることがな
いので、基板１２の外周を最小面積で押えることができ
る。
とにより、調芯アーム１３が作動して押え１９を電１″
！＋１１の中心に合わせられるので、 Ｊｌｔｍｌ １
の中心に載置されたバ板１２の中心からずれることがな
いので、基板１２の外周を最小面積で押えることができ
る。
本発明によれば、試料を往復動させることで、試料の押
えを自ｗＪ′ｊ！４芯させることができるので。
えを自ｗＪ′ｊ！４芯させることができるので。
より少ない面積で試料を押え付けて、試料の歩留りを向
上させることができるという効果がある。
上させることができるという効果がある。
母面の簡単な説明
第１図および第２図は本発明の一実施例であるプラズマ
処理装置を示す断面図、第３図は第２図のλ部の詳細図
、第４０は第３図を１５から見た側面図である。
処理装置を示す断面図、第３図は第２図のλ部の詳細図
、第４０は第３図を１５から見た側面図である。
１０・・・・・・真空容器、１１・・・・・・電極、１
２・・・・・・基板、１３・・・・・・調芯アーム、１
８・・・・・・ウェイト、１９・・・・・・押え オ１図 第２図
２・・・・・・基板、１３・・・・・・調芯アーム、１
８・・・・・・ウェイト、１９・・・・・・押え オ１図 第２図
Claims (1)
- １、真空容器内で試料を設置し往復動する試料台と、前
記試料台の試料設置側にあって前記試料を押え保持する
押えと、前記試料台の反試料設置側にあって回動可能に
取り付けられた調芯アームと、前記試料台の反試料設置
側にあって前記調芯アームに引っ掛け可能に設けられた
ウェイトとを具備したことを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4830385A JPS61210176A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4830385A JPS61210176A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210176A true JPS61210176A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12799659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4830385A Pending JPS61210176A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61210176A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5228501A (en) * | 1986-12-19 | 1993-07-20 | Applied Materials, Inc. | Physical vapor deposition clamping mechanism and heater/cooler |
| EP2428596A3 (en) * | 2010-09-14 | 2012-04-25 | Raytheon Company | Laser crystal components joined with thermal management devices |
-
1985
- 1985-03-13 JP JP4830385A patent/JPS61210176A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5228501A (en) * | 1986-12-19 | 1993-07-20 | Applied Materials, Inc. | Physical vapor deposition clamping mechanism and heater/cooler |
| EP2428596A3 (en) * | 2010-09-14 | 2012-04-25 | Raytheon Company | Laser crystal components joined with thermal management devices |
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