JPS61197572A - 置換フラン及びその先駆物質の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、置換されたフラン及びその先駆物質の製法に
関する。

従来の技術 一般式（１）： 〔式中、Ｒ１−Ｒ４は水素原子又は置換されていないも
しくはハロゲン原子、ハロゲンアルキル基、アルコキシ
基、ハロゲンアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジア
ルキルホスホニル基又はアルコキシカルボニル基によっ
て置換されたアルキル基、アリール基、アルアルキル基
、アルコキシカルボニル基又はジアルコキシホスホニル
基ヲ我ワし、Ｒ３ハマたヒドロキシアルキル基、又は分
離可能な保護基によってキャップされたヒドロキシアル
キル基を表わす〕で示される、４個まで置換されたフラ
ンは、例えば植物保護剤を製造するための先駆物質を製
造するために必要である。フランが１゜４−ジケトンか
ら環化により製造できることは公知テする〔“コンプレ
ヘンシブ・ヘテロサイクリック０ケミストリー（Ｃｏｍ
ｐｒｅｈｅｎｓｉｖｓ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｅ　Ｃ
！ｈｅｍｉｓｔｒｙ　）”第４巻、６５７頁以降（１９
８４年）〕。特に非対称的に置換されたフラン（例えば
２，４−二置換体）を合成する際には、必要な出発物質
を製造することが困難である。この理由から、殺虫剤合
成のための所望の中間体である、例えば２−ベンジル−
４−ヒドロキシメチルフランのためには、種々の方法が
推奨される〔“ＪＯ８（ｃ）”１９７１年、２５５１頁
；“グエグラ−（Ｗｅｇｌｅｒ　）”第７巻（１９８１
年）、７６頁；ドイツ連邦共和国特許出願公開第２１２
２８２３号明細書〕。しかしながら、これらの全ての方
法は解決困難な欠点を有する〔低い全収率を伴う多工程
式合成、高温による安全問題、異性体形成〕。

発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は容易に入手される出発物質から出発しか
つ容易に実施される、置換されたフランの製法を提供す
ることであった。

問題点を解決するための手段 ところで、一般式■： 〔式中、Ｒ１−Ｒ４は前記のものを表わし、かつ又はヒ
ドロ、キシ基、ハロゲン原子、又は分離可能な保護基に
よってキャップされたヒドロキシ基を表ワす〕で示され
る相応するインキサシリンを水素添加することにより、
前記種類のフランが有利に得られることが判明した。

置換されたインキサシリンの水素添加は公知であり〔“
ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エテイー（Ｊ、Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　）”第
１ｔ１４巻、４０２４頁（１９８２年）、′テトラヘド
ロン０レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、
　）”第２３巻、３１２３頁（１９８２年）及び同第２
４巻、１３３７頁（１９８３年）〕かつまた複素環式化
合物の合成のために利用された。従って、例えば適当に
置換されたインキサシリンから水素添加分離によりピロ
ン（米国特許第４，１３６，１１４号明細書）、ピリジ
ン〔“ジャーナル・オプ・オルガニック・ケミストリー
（Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈ＠ｍ、）”第３６巻、２７８４
頁（１９７１年）〕ピリミジンもしくはピリミドン〔“
ジャーナル・オブ・パルマスエチカル・ソサイエティー
（ジャパン）　（Ｊ、Ｐｈａｒｍ、　Ｂｏａ、　（Ｊａ
ｐ））”第８３巻、４７１頁（１９６３年）又は“アナ
リ・ディ・ヘミ力（Ａｎｎ。

Ｃｈｉｍｉｃａ　）”第５６巻、８５８頁（１９６６年
）〕、ピラソール〔“ヘミツシエ・ペリヒｆ　（Ｃｈｅ
ｍ、Ｂｅｒ、）第１０６巻、３３２頁（１９７３年）又
はＴＨ第２９巻、４２９１頁（１９７３年）〕、イミダ
ゾール〔アナリ・ディ鳴へミカ（Ａｎｎ、　Ｃｈｉｍｉ
　ｃａ　）”第６０巻、３４３頁（１９７０年）或はま
たフラノン〔“テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、）”（１９８３年）２０７９
頁又（１９６６年）２３３頁又は（１９６７）　３２７
頁又は“ガセツタ（Ｇａｚｅｔｔａ　）　（１９６６年
）　１０７３頁〕を得ることができる。

本発明によるフランの形成は、上記の水素添加のいずれ
においても、適当に置換された出発物質〔すなわち５−
ヒドロキシメチル置換インキサシリン、例えば“ジャー
ナル・ジ・アメリン・ケミカル−ソサイエテイ−（Ｊ、
Ａｍ、Ｏｈｅｍ、　Ｓｏｅ、　）第１０５巻、５８２６
〜５８３３頁（１９８３年）：化合物ｔＳａ　］が上記
反応に使用されたにもかかわらず、観察されていない。

もっばら、“アクタ・ヘミ力・スカンジナビ力（Ａｃｔ
ａ　ｃｈ＠ｍ、　５ｃａｎｄ、）”　Ｅ３６巻１−１４
頁（１９８２年ンに記載された非水素添加条件下でのイ
ソキサプリンの酸性触媒転位だけは、特殊な置換基に関
してジケトン中間段階を介してフラン誘導体を生成した
。しかしながら、僅かでも置換パターンがずれると、も
はやフラン誘導体重生成せず、むしろフラノン又はシク
ロベンテノンを生成した。

一般式■のインキサシリンは　Ｒ１又はＲ３が水素原子
を表わすものを除き、新規物質である。Ｒ３がエーテル
化又はエステル化されたヒドロキシメチル基を表わし並
びにＸがキャップされたヒドロキシ基を衣わす場合には
、夫々二官能性反応体と環を形成してエーテル化又はエ
ステル化を行うことができると理解されるべきである。

特殊な操作法に依存して、上記反応は直接的に実施する
ことができ又は中間段階としてヒドロキシケトン■：を
単離しかつ引続いての工程で所望のフラン誘導体ｌを得
ることができる： （１丁）　　　　　　　　　　　　　　　　　（丁ｒｒ
＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）Ｘ
　　　　　　　　　　　　　Ｘ 前記の２−ベンジル−４−ヒドロキシメチルフランの場
合に関しては、反応は以下のように表わすことができる
： この反応の円滑な経過は、従来特に置換されたイソキサ
ゾールの水素添加によってはジヒドロフラン−３−オン
の合成だけが記載される（　ＴＨＬ（１９８３）　２０
７９　；　ＴＨＬ（１９６６）　２３３　；ＴＨＬ　（
１９６７）　３２７；ガセツタ（１９６６）　１０７３
　）　：にすぎないことからしても驚異的である。

更に、特殊なインキサシリン置換はＴ　ｉ　Ｃｔ３で還
元すると２，５−二置換フランを生成する〔“アクタ、
ケミ力・スカンジナビ力”　Ｒ３６巻（１９８２））：
新規先駆物質■を製造するために、特に以下の反応が挙
げられる： インキサゾリンｌＩ： は、例えば゛°ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃ
ｌｅｓ）”第１２巻、１２４３頁以降（１９７９年）に
記載の方法に基づき、以下の反応： に基づきニトリルオキシドを特定のオレフィンと反応さ
せることによつ得ることができる。

前記反応におし・て、又はヒドロキシ基、又は分離可能
な保護基、例えばｔ−ブチル、トリメチルシリル、アセ
チル、ベンジルによってキャップされたヒドロキシ基を
衣わす。その他にも、前記方法に基づき得られる別のイ
ソキサゾリンから本発明によるインキサシリンの多数の
ものを得ることができる、例えば３位で置換された５、
５−ビス−ヒドロキシメチルインキサシリンはヒドロキ
シ基で前記の保護基を施すか又は該保護基を分離するか
又はヒドロキシ基とハロゲン原子又はハロゲン原子と保
護基を相互に交換することができる。

出発物質として必要なニトリルオキシドは、例エバ相応
するオキシムから得ることができ又は脂肪族ニトロ化合
物が得ることができる。

このためには上記“ペテロサイクルズ及びそこに記載の
文献から公知方法、更に“ホウベン−バイル、メトーデ
ン（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、ＭｅＬｈｏｄｅｎ）、第
１４版、第１０／３巻、８３頁及び“ジャーナル・オプ
・オルガニック・ケミストリー（Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈ
ｅｍ）”第２８巻、１１５０頁（１９６３年）〕が挙げ
られる。このインキサシリン合成における非対称的誘導
の特殊な観点に関しては、イエガー（Ｊａｇｅｒ）及び
ショーエ（８ｃｈｏｈｅ　）が報告している〔“テトラ
ヘドン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ
、　）”第２４巻、５３０１〜５３０４頁（１９８３）
）。

式■のニトリルオキシドの単離は無条件に必要ではない
。該二）　ＩＪルオキシドは、直接的に式■のイソキサ
ゾリンに転化されるアルケニル化合物の存在下に同時に
製造するのが有利である。

イソキサゾリンを製造するために使用されるニトリルオ
キシド及びアルケニル化合物は、当モル比で又は夫々一
方の反応成分を過剰で使用することができる。

反応のための溶剤としては、例えば夫々のアルケニル化
合物自体、更に芳香族化合物（例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン）、ハロゲン化すした芳香族化合物、ケト
ン（例えばアセトン、メチルエチルケトン、シイソプロ
ヒ／Ｉ／ケトン）、エーテル（例工ばジオキサン、ジエ
チルエーテル、ＴＨＦ　）、塩素化脂肪族炭化水素（例
えばジクロルエタン、クロロホルム、塩化メチレン）が
適当である。

更に言及すれば、これらのニトリルオキシドに対するオ
レフィンの付加はその都度の置換基の種類に基づき進行
する、従って場合によって異性体又は異性体の混合物も
予測されうる。一般には、ニトリルオキシドの酸素原子
に付加される、オレフィン結合の側は豆体的に大きな置
換基を有する側であると予測される。

前記の全ての反応は、一般に約１５０　℃未満で十分な
速度で進行する。

実施例 インキサシリンを得るためのもう１つの方法は以下の製
造例２から明らかである。

Ｕ−（ｊ−ＵＨ３ フェニルアセトアルドキシム１５９２及びインブチレン
アセテ−）　２Ｕ２．５　ｆをジエチルエーテル５０（
Ｊ−中に溶かしかつ激しく攪拌しなから１０−１５℃で
１０チの次亜鉛素酸ナトリウム溶液１０５０−を加える
。数時間攪拌した後に、有機相を水で振り出し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥しかつ溶剤を除去する。

収量３３３２キ理論値の９２．８％。エタノール／石油
エーテルからの結晶は７８〜７９℃で溶融する。

イソキサプリンの製造例２ 塩化メチレン６００１中のアリルアセテート２ｔｌＵＶ
及び２−メチルブチルアルドキシム２４２１に１０チの
ＮａＯＨ溶液１９６０　ｆを徐々に加えかつ室温で３時
間攪拌する。有機相を分離し、水で洗浄し、１Ｊａ２ｓ
Ｏ４上で乾燥しかつｆ過後に溶剤を除去する。

残留する油状物（３３９ｔ　）は３−ｓ−ｔ−ブチル−
５−アセトキシメチル−イソキサゾールである。

３００−ＭＨｚ−ＮＭＲ−’スペクトル、ＣＤＣｌ２中
（ｐｐｍ）　：　０．９５（３Ｈ）　；ｌ　、０８（３
Ｈ）；　１．２−１．３（２Ｈ）　；　２．Ｕ４（３Ｈ
）　；　２．３（ＬＨ）；２．３５（ＩＨ）　；３．０
（ＩＨ）　；４．０−４．１（２Ｈ）；　４．４（ＩＨ
）フランの製造１ ３−ベンジル−５，５−ビス（ヒドロキシメチル）イソ
キサゾリン８８．４ｆをテトラヒドロンラン５５０−１
水４〇−及び氷酢酸８０コ中に回収しかつ酸化白金１．
６１を加える。水素を導入すると、僅かな発熱反応が開
始し、水素吸収の終了後にｒ別し、濃縮しかつ該残渣を
アセトンと攪拌する。溶解しなかった酢酸アンモニウム
をｒ別し、該Ｐ液を再び濃縮しかつ次いで塩化メチレン
３００−中で１０％の塩酸３００ｍ１と２０℃で１時間
攪拌する。次いで、塩化メチレン中の溶液を分離し、水
で洗浄しかつ濃縮する。ＮＭＲ分光分析において純粋の
２−ベンジル−４−ヒドロキシメチルフラン５９．２Ｐ
Ｃイソキサゾリンに対して７９％）が残留する。蒸留（
０，３シ１２５〜１２８）により、融点３７〜３８′Ｃ
を有する物質５２．Ｏｆが得られる。

フランの製造例２ メタノール４００１及び水２７ｆ中の３−ｓ−ブチ）ｖ
−５−アセトキシメチルイソキサゾール１００　ｒをラ
ネーニッケル２５ｆを用いて２０〜３０℃で水素添加す
る。次（・で、沢過し、溶剤を除去しかつ蒸留する。７
０〜８０℃で蒸留移行する液体は２−３−ブチル−フラ
ンである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、 Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は置換されていない
   又はハロゲン原子、ハロゲンアルキル基、アルコキシ基
   、ハロゲンアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジアル
   キルホスホニル基又はアルコキシカルボニル基によつて
   置換されたアルキル基、アリール基、アルアルキル基、
   アルコキシカルボニル基又をエジアルコキシホスホニル
   基を表わし、Ｒ＾２及びＲ＾４はまた水素原子を表わし
   かつＲ＾３はまたヒドロキシアルキル基、又は分離可能
   な保護基によつてキャップされたヒドロキシアルキル基
   を表わし、 Ｘはヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は分離可能な保護
   基によつてキャップされたヒドロキシ基を表わす〕で示
   されるイソキサゾリン。
2. （２）一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は水素原子又は置換
   されていない又はハロゲン原子、ハロゲンアルキル基、
   ニトロ基、シアノ基、ジアルキルホスホニル基又はアル
   コキシカルボニル基によつて置換されたアルキル基、ア
   リール基、アルアルキル基、アルコキシカルボニル基又
   はジアルコキシホスホニル基を表わし、Ｒ＾３はまたヒ
   ドロキシアルキル基、又は分離可能な保護基によつてキ
   ャップされたヒドロキシアルキル基を表わす〕で示され
   るフランを製造する方法において、一般式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は前記のも
   のを表わしかつＸはヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は
   分離可能な保護基によつてキャップされたヒドロキシ基
   を表わす〕で示される相応するイソキサゾリンを水素添
   加することを特徴とするフランの製法。
3. （３）水素添加を非酸性条件下で実施し、一般式III：
   Ｒ＾１ＣＯ−ＣＨＲ＾２−Ｃ（ＯＨ）Ｒ＾３−ＣＨ（Ｘ
   ）Ｒ＾４（III）で示される相応するヒドキシケトンを
   中間生成物として製造しかつ該中間生成物を酸性化によ
   りフランに転化する、特許請求の範囲第２項記載の方法
   。