JPS61196583A - 光起電力装置 - Google Patents
光起電力装置Info
- Publication number
- JPS61196583A JPS61196583A JP60036211A JP3621185A JPS61196583A JP S61196583 A JPS61196583 A JP S61196583A JP 60036211 A JP60036211 A JP 60036211A JP 3621185 A JP3621185 A JP 3621185A JP S61196583 A JPS61196583 A JP S61196583A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous layer
- layer
- type amorphous
- silicon oxide
- silicon nitride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L31/075—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier the potential barriers being only of the PIN type
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、基板上に、n型アモルファス層、真性アモル
ファス層、n型アモルファス層G 一単位とするp−1
−n層が二単位以上積層された光起電力装置に関する。
ファス層、n型アモルファス層G 一単位とするp−1
−n層が二単位以上積層された光起電力装置に関する。
(従来の技術およびその問題点)
一般に、アモルファス半導体層を用いた光起電力装置は
、第2図に示すように1基板a上に順次p型アモルファ
スrfib、真性アモルファス層C5n型アモルファス
層d、i3明導電膜eおよび電極rが積層された構造で
ある。
、第2図に示すように1基板a上に順次p型アモルファ
スrfib、真性アモルファス層C5n型アモルファス
層d、i3明導電膜eおよび電極rが積層された構造で
ある。
ところで、電力用太陽電池を考えた場合、変換効率を考
慮すると、第2図に示した構造のものよりも、第3図に
示すような、n型アモルファス層す、 l¥、性アモ
ルファス層c、n型アモルファス層dを一単位とするp
−1−n層gが二単位以上積層された構造のものの方が
光の吸収効率に優れており有利である。
慮すると、第2図に示した構造のものよりも、第3図に
示すような、n型アモルファス層す、 l¥、性アモ
ルファス層c、n型アモルファス層dを一単位とするp
−1−n層gが二単位以上積層された構造のものの方が
光の吸収効率に優れており有利である。
しかし、第3図に示すような太陽電池は、各単位間でn
型アモルファス層とn型アモルファス層とが直接接触す
る構造であるため、膜作成時において下地の影響を受け
る。このため、太陽電池としての特性および信頼性にも
悪影響を及ばず可能性がある。また、太陽電池の耐熱性
を考慮した場合、互いに接触するn型アモルファス層と
n型アモルファス層での相互拡散も十分者えられ、信頼
性に欠けるといった問題がある。
型アモルファス層とn型アモルファス層とが直接接触す
る構造であるため、膜作成時において下地の影響を受け
る。このため、太陽電池としての特性および信頼性にも
悪影響を及ばず可能性がある。また、太陽電池の耐熱性
を考慮した場合、互いに接触するn型アモルファス層と
n型アモルファス層での相互拡散も十分者えられ、信頼
性に欠けるといった問題がある。
(発明の目的)
本発明は9上記したような従来の多層型光起電力装置の
変換効率および信頼性の問題点に鑑み。
変換効率および信頼性の問題点に鑑み。
高変換効率、高信頼性の光起電力装置を提供することを
目的する。
目的する。
(発明の構成)
本発明の光起電力装置は、靭板トに、p型アモルファス
層、真性アモルファス層、n型アモルファス層を一単位
とするp−1−n層が二単位以上積層され、各単位間に
、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もしくはシリコ
ン窒化膜が形成されているものである。
層、真性アモルファス層、n型アモルファス層を一単位
とするp−1−n層が二単位以上積層され、各単位間に
、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もしくはシリコ
ン窒化膜が形成されているものである。
(実施例)
以下9本発明の構成を実施例につき図面を参照して説明
する。
する。
第1図は本発明に係る光起電力装置の概略図である。
基板1上に、p型アモルファス層2.真性アモルファス
Jfif3.n型アモルファス層4を一単位とするp−
1−n層5が二単位積層されており、それら各単位5.
5間に、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もくしは
シリコン窒化膜6が形成されている。なお5図中、7は
上側のp−1−n層5上に設けられた透明導電膜、8は
この透明導電膜7ヒに設けられた電極である。
Jfif3.n型アモルファス層4を一単位とするp−
1−n層5が二単位積層されており、それら各単位5.
5間に、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もくしは
シリコン窒化膜6が形成されている。なお5図中、7は
上側のp−1−n層5上に設けられた透明導電膜、8は
この透明導電膜7ヒに設けられた電極である。
上記p型アモルファス層2.真性アモルファス層3.n
型アモルファス層4の各層は、モノシラン雰囲気中での
グロー放電分解により作成される。
型アモルファス層4の各層は、モノシラン雰囲気中での
グロー放電分解により作成される。
E記シリコン酸化膜6はモノシランに酸素ガスを添加し
、また、シリコン窒化膜6はアンモニアガス或いは窒化
ガスを添加して上記各層と同様グロー放電分解により容
易に形成できる。このようにして形成されるシリコン酸
化#6もしくはシリコン窒化膜6の膜厚を100Å以下
としたのは次の点からである。
、また、シリコン窒化膜6はアンモニアガス或いは窒化
ガスを添加して上記各層と同様グロー放電分解により容
易に形成できる。このようにして形成されるシリコン酸
化#6もしくはシリコン窒化膜6の膜厚を100Å以下
としたのは次の点からである。
すなわち、これら両膜は1周知のように良好な絶縁膜で
あるため、膜が厚いと電流が取り出せなくなる。しかし
、100Å以下の膜厚になるとトンネル現象により電流
が流れるといった点からである。
あるため、膜が厚いと電流が取り出せなくなる。しかし
、100Å以下の膜厚になるとトンネル現象により電流
が流れるといった点からである。
また、これらの膜6が不純物(リン、ボロン)の相互拡
散を押さえ、装置の信頼性を高めている。
散を押さえ、装置の信頼性を高めている。
(発明の効果)
以−ト述べたように2本発明の光起電力装置は。
変換効率および信頼性に優れている。
また、単位間に形成されるシリコン酸化膜もくしはシリ
コン窒化膜はガスの種類を変えるだけで容易に形成する
ことができるため、製造が容易である。
コン窒化膜はガスの種類を変えるだけで容易に形成する
ことができるため、製造が容易である。
第1図は本発明の光起電力装置の一実施例を示す概略図
、第2図および第3図は従来例を示す概略図である。 1・・・基板 2・・・p型アモルファス層 3・・・真性アモルファス層 4・・・n型アモルファス層 5・・・p−1−n層 6・・・シリコン酸化膜(シリコン窒化膜)第7図
、第2図および第3図は従来例を示す概略図である。 1・・・基板 2・・・p型アモルファス層 3・・・真性アモルファス層 4・・・n型アモルファス層 5・・・p−1−n層 6・・・シリコン酸化膜(シリコン窒化膜)第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上に、p型アモルファス層、真性アモルファス
層、n型アモルファス層を一単位とするp−i−n層が
二単位以上積層された光起電力装置において、 各単位間に、膜厚が100Å以下のシリコ ン酸化膜もしくはシリコン窒化膜が形成されていること
を特徴とする光起電力装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60036211A JPS61196583A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 光起電力装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60036211A JPS61196583A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 光起電力装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61196583A true JPS61196583A (ja) | 1986-08-30 |
Family
ID=12463417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60036211A Pending JPS61196583A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 光起電力装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61196583A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63503103A (ja) * | 1985-09-30 | 1988-11-10 | 鐘淵化学工業株式会社 | マルチジャンクション型半導体デバイス |
JPH04127580A (ja) * | 1990-09-19 | 1992-04-28 | Hitachi Ltd | 多接合型アモルファスシリコン系太陽電池 |
JP2005159320A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 太陽電池及び太陽電池の製造方法 |
WO2005088734A1 (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-22 | Kaneka Corp | 薄膜光電変換装置 |
WO2006093275A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 積層型有機太陽電池 |
JP2006279011A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-10-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 積層型有機太陽電池 |
WO2009144944A1 (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | 三菱電機株式会社 | 光電変換装置 |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP60036211A patent/JPS61196583A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63503103A (ja) * | 1985-09-30 | 1988-11-10 | 鐘淵化学工業株式会社 | マルチジャンクション型半導体デバイス |
JPH04127580A (ja) * | 1990-09-19 | 1992-04-28 | Hitachi Ltd | 多接合型アモルファスシリコン系太陽電池 |
JP2005159320A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 太陽電池及び太陽電池の製造方法 |
WO2005088734A1 (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-22 | Kaneka Corp | 薄膜光電変換装置 |
WO2006093275A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 積層型有機太陽電池 |
JP2006279011A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-10-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 積層型有機太陽電池 |
US8237048B2 (en) | 2005-03-04 | 2012-08-07 | Panasonic Corporation | Multilayer organic solar cell |
WO2009144944A1 (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | 三菱電機株式会社 | 光電変換装置 |
JP4671002B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2011-04-13 | 三菱電機株式会社 | 光電変換装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3278811A (en) | Radiation energy transducing device | |
JPS62221167A (ja) | 多層型薄膜太陽電池 | |
JPS59175166A (ja) | アモルファス光電変換素子 | |
JPS61104678A (ja) | アモルフアス太陽電池 | |
JPS61196583A (ja) | 光起電力装置 | |
JPS5846074B2 (ja) | 光起電力装置の製造方法 | |
JPH0656895B2 (ja) | 半導体デバイス | |
JPH0237116B2 (ja) | ||
JPH0125235B2 (ja) | ||
US20040065807A1 (en) | Photoelectric conversion device | |
JP2936269B2 (ja) | アモルファス太陽電池 | |
JPS6074685A (ja) | 光起電力装置 | |
JPS6161551B2 (ja) | ||
JP2004186443A (ja) | 透光性薄膜太陽電池及び透光性薄膜太陽電池モジュール | |
JPS611062A (ja) | 光起電力装置 | |
JPS62256481A (ja) | 半導体装置 | |
CN117457759B (zh) | 双面太阳能电池片、电池组件和光伏系统 | |
JPS6130079A (ja) | 光起電力素子 | |
JPH0544836B2 (ja) | ||
JPS61139074A (ja) | 光起電力素子 | |
JPS6358974A (ja) | アモルフアス光起電力素子 | |
JPS6284570A (ja) | 光電池デバイス | |
JPS5975679A (ja) | 光起電力装置 | |
JPS63222469A (ja) | 積層型光起電力素子 | |
JPS62189763A (ja) | 太陽電池セル |