JPS61196583A - 光起電力装置 - Google Patents

光起電力装置

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JPS61196583A
JPS61196583A JP60036211A JP3621185A JPS61196583A JP S61196583 A JPS61196583 A JP S61196583A JP 60036211 A JP60036211 A JP 60036211A JP 3621185 A JP3621185 A JP 3621185A JP S61196583 A JPS61196583 A JP S61196583A
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JP
Japan
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amorphous layer
layer
type amorphous
silicon oxide
silicon nitride
Prior art date
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Pending
Application number
JP60036211A
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English (en)
Inventor
Tetsuhiro Okuno
哲啓 奥野
Masaya Hijikigawa
正也 枅川
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Publication of JPS61196583A publication Critical patent/JPS61196583A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L31/075Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier the potential barriers being only of the PIN type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、基板上に、n型アモルファス層、真性アモル
ファス層、n型アモルファス層G 一単位とするp−1
−n層が二単位以上積層された光起電力装置に関する。
(従来の技術およびその問題点) 一般に、アモルファス半導体層を用いた光起電力装置は
、第2図に示すように1基板a上に順次p型アモルファ
スrfib、真性アモルファス層C5n型アモルファス
層d、i3明導電膜eおよび電極rが積層された構造で
ある。
ところで、電力用太陽電池を考えた場合、変換効率を考
慮すると、第2図に示した構造のものよりも、第3図に
示すような、n型アモルファス層す、  l¥、性アモ
ルファス層c、n型アモルファス層dを一単位とするp
−1−n層gが二単位以上積層された構造のものの方が
光の吸収効率に優れており有利である。
しかし、第3図に示すような太陽電池は、各単位間でn
型アモルファス層とn型アモルファス層とが直接接触す
る構造であるため、膜作成時において下地の影響を受け
る。このため、太陽電池としての特性および信頼性にも
悪影響を及ばず可能性がある。また、太陽電池の耐熱性
を考慮した場合、互いに接触するn型アモルファス層と
n型アモルファス層での相互拡散も十分者えられ、信頼
性に欠けるといった問題がある。
(発明の目的) 本発明は9上記したような従来の多層型光起電力装置の
変換効率および信頼性の問題点に鑑み。
高変換効率、高信頼性の光起電力装置を提供することを
目的する。
(発明の構成) 本発明の光起電力装置は、靭板トに、p型アモルファス
層、真性アモルファス層、n型アモルファス層を一単位
とするp−1−n層が二単位以上積層され、各単位間に
、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もしくはシリコ
ン窒化膜が形成されているものである。
(実施例) 以下9本発明の構成を実施例につき図面を参照して説明
する。
第1図は本発明に係る光起電力装置の概略図である。
基板1上に、p型アモルファス層2.真性アモルファス
Jfif3.n型アモルファス層4を一単位とするp−
1−n層5が二単位積層されており、それら各単位5.
5間に、膜厚が100Å以下のシリコン酸化膜もくしは
シリコン窒化膜6が形成されている。なお5図中、7は
上側のp−1−n層5上に設けられた透明導電膜、8は
この透明導電膜7ヒに設けられた電極である。
上記p型アモルファス層2.真性アモルファス層3.n
型アモルファス層4の各層は、モノシラン雰囲気中での
グロー放電分解により作成される。
E記シリコン酸化膜6はモノシランに酸素ガスを添加し
、また、シリコン窒化膜6はアンモニアガス或いは窒化
ガスを添加して上記各層と同様グロー放電分解により容
易に形成できる。このようにして形成されるシリコン酸
化#6もしくはシリコン窒化膜6の膜厚を100Å以下
としたのは次の点からである。
すなわち、これら両膜は1周知のように良好な絶縁膜で
あるため、膜が厚いと電流が取り出せなくなる。しかし
、100Å以下の膜厚になるとトンネル現象により電流
が流れるといった点からである。
また、これらの膜6が不純物(リン、ボロン)の相互拡
散を押さえ、装置の信頼性を高めている。
(発明の効果) 以−ト述べたように2本発明の光起電力装置は。
変換効率および信頼性に優れている。
また、単位間に形成されるシリコン酸化膜もくしはシリ
コン窒化膜はガスの種類を変えるだけで容易に形成する
ことができるため、製造が容易である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光起電力装置の一実施例を示す概略図
、第2図および第3図は従来例を示す概略図である。 1・・・基板 2・・・p型アモルファス層 3・・・真性アモルファス層 4・・・n型アモルファス層 5・・・p−1−n層 6・・・シリコン酸化膜(シリコン窒化膜)第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)基板上に、p型アモルファス層、真性アモルファス
    層、n型アモルファス層を一単位とするp−i−n層が
    二単位以上積層された光起電力装置において、 各単位間に、膜厚が100Å以下のシリコ ン酸化膜もしくはシリコン窒化膜が形成されていること
    を特徴とする光起電力装置。
JP60036211A 1985-02-25 1985-02-25 光起電力装置 Pending JPS61196583A (ja)

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