JPS61194090A - ジメチルジクロルシラン直接合成のための方法 - Google Patents
ジメチルジクロルシラン直接合成のための方法Info
- Publication number
- JPS61194090A JPS61194090A JP61033111A JP3311186A JPS61194090A JP S61194090 A JPS61194090 A JP S61194090A JP 61033111 A JP61033111 A JP 61033111A JP 3311186 A JP3311186 A JP 3311186A JP S61194090 A JPS61194090 A JP S61194090A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- metal
- zinc
- tin
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 27
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims description 10
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 title claims description 7
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 title claims description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 7
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 title description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 15
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 10
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims description 7
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 6
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical class [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 5
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000000320 mechanical mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000851515 Homo sapiens Transmembrane channel-like protein 8 Proteins 0.000 description 1
- 102100036770 Transmembrane channel-like protein 8 Human genes 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 carbonates) Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000000374 eutectic mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/835—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with germanium, tin or lead
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/843—Arsenic, antimony or bismuth
- B01J23/8435—Antimony
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、ジメチルジクロルシランの直接合成のため
の方法及び触媒に関する。
の方法及び触媒に関する。
オルガノクロルシラン類特にジメチルジクロルシラン(
以下、DMC8と略記する)の工業的製造法としては、
特に米国特許第2.380.995号に記載され、また
ワルター・ノール(WalterNQII ) Icよ
って「ケミストリー・アンド・テクノロジー・オブ・シ
リコーンズ(Chemistry andTechno
logy of 3i1icones ) J (アカ
デミツク・プレス(Academic Press )
社(1968年)発行〕、第26〜41頁にも記載され
た方法がよく知られている。
以下、DMC8と略記する)の工業的製造法としては、
特に米国特許第2.380.995号に記載され、また
ワルター・ノール(WalterNQII ) Icよ
って「ケミストリー・アンド・テクノロジー・オブ・シ
リコーンズ(Chemistry andTechno
logy of 3i1icones ) J (アカ
デミツク・プレス(Academic Press )
社(1968年)発行〕、第26〜41頁にも記載され
た方法がよく知られている。
この「直接合成」又はl”’lochow合成」と言わ
れる方法によれば、オルガノクロルシラン類、特kDM
cSは、次の反応式: %式% で表される触媒としての鋼の存在下における塩化メチル
と固体状珪素との反応によって直接製造される。
れる方法によれば、オルガノクロルシラン類、特kDM
cSは、次の反応式: %式% で表される触媒としての鋼の存在下における塩化メチル
と固体状珪素との反応によって直接製造される。
実際的には、この直接合成の際に他の化合物、特にCH
sSiCl、 (以下、MTC8と略記する)及び(C
Hs)3SiC1(以下、TMC8と略記する)が生成
する。
sSiCl、 (以下、MTC8と略記する)及び(C
Hs)3SiC1(以下、TMC8と略記する)が生成
する。
また、例えばCH35tHc12、(CH,)2SiH
CI 及び分子量の大きい化合物(即ちポリシラン類
、主にジシラン類)のような他の副生成物も生成する。
CI 及び分子量の大きい化合物(即ちポリシラン類
、主にジシラン類)のような他の副生成物も生成する。
直接合成によって生成する全ての化合物の中で最も需要
の多い化合物はDMC8である。この化合物を加水分解
し重合させるととkよって、シリコーン類梨造用原料で
あるオイル及びガムが得うれる。そのため、DMC8は
米国特許第2,258,218号〜第2.258.22
2号に記載されたようなポリオルガノシロキサン樹脂の
製造、米国特許第2、−469.888号及び第λ46
9.8 gl 0号に記載されたオイルの製造、並びに
米国特許第2,44B、756号に記載されたポリオル
ガノシ田キサンエラストマーの製造に有用である。
の多い化合物はDMC8である。この化合物を加水分解
し重合させるととkよって、シリコーン類梨造用原料で
あるオイル及びガムが得うれる。そのため、DMC8は
米国特許第2,258,218号〜第2.258.22
2号に記載されたようなポリオルガノシロキサン樹脂の
製造、米国特許第2、−469.888号及び第λ46
9.8 gl 0号に記載されたオイルの製造、並びに
米国特許第2,44B、756号に記載されたポリオル
ガノシ田キサンエラストマーの製造に有用である。
この直接合成反応用の触媒として、銅又は銅化合物を珪
素との合金状又は珪素との機械的混合物状で、随意に無
機担体上に配置させて使用することが知られている。
素との合金状又は珪素との機械的混合物状で、随意に無
機担体上に配置させて使用することが知られている。
DMC8の収率をよりよくするために1この銅に種々の
添加剤を添加することが、すでに提案されている。この
添加剤としては、亜鉛又は塩化亜鉛(米国特許第2,4
64,053号)、アルミニウム(米国特許第2.40
へ370号及び第2,427,605号)、錫、マンガ
ン、ニッケル及び銀(英国特許第1201.446号)
、コバルト(英国特許第907、161号)、又は塩化
カリウム(ソ連国特許第507.650号)が挙げられ
ている。
添加剤を添加することが、すでに提案されている。この
添加剤としては、亜鉛又は塩化亜鉛(米国特許第2,4
64,053号)、アルミニウム(米国特許第2.40
へ370号及び第2,427,605号)、錫、マンガ
ン、ニッケル及び銀(英国特許第1201.446号)
、コバルト(英国特許第907、161号)、又は塩化
カリウム(ソ連国特許第507.650号)が挙げられ
ている。
フランス国特許第950,488号には、前記反応を制
御するために銅に添加する添加剤として錫及びアンチモ
ンを使用することの可能性がすでに記載されている。ま
た、フランス国特許第1.05ス183号には、前記直
接合成の際に使用する接触素材のための脱酸剤としての
カルシウム、マグネシウム、ベリリウム、ストロンチウ
ム及びバリウムの添加も記載されている。
御するために銅に添加する添加剤として錫及びアンチモ
ンを使用することの可能性がすでに記載されている。ま
た、フランス国特許第1.05ス183号には、前記直
接合成の際に使用する接触素材のための脱酸剤としての
カルシウム、マグネシウム、ベリリウム、ストロンチウ
ム及びバリウムの添加も記載されている。
これら添加剤を使用することによって該直接合成法は確
かに改良されはするが、しかしそれでも以下に挙げる欠
点: ・DMC8の選択性〔平均重量比MTC8/DMC8及
び(又は)生成するシラン類の総量に対するDMC8の
モルXKよって評価される〕が不充分なままであるとと
; ・反応開始時間が長すぎ、開始温度が高すぎるこ・触媒
系の平均的活性度〔これは生産性とも呼ばれるものであ
り、導入した珪素1kgについて1時間に得られるメチ
ルクロルシラン類(MC3)の重tKよって評価される
〕及び珪素の最大転化度が不充分なままであること; ・触媒系が不純物に対して過敏であること;・副生成物
特にジシラン類の生成炭が高いままであること: の少なくとも1つを有する。
かに改良されはするが、しかしそれでも以下に挙げる欠
点: ・DMC8の選択性〔平均重量比MTC8/DMC8及
び(又は)生成するシラン類の総量に対するDMC8の
モルXKよって評価される〕が不充分なままであるとと
; ・反応開始時間が長すぎ、開始温度が高すぎるこ・触媒
系の平均的活性度〔これは生産性とも呼ばれるものであ
り、導入した珪素1kgについて1時間に得られるメチ
ルクロルシラン類(MC3)の重tKよって評価される
〕及び珪素の最大転化度が不充分なままであること; ・触媒系が不純物に対して過敏であること;・副生成物
特にジシラン類の生成炭が高いままであること: の少なくとも1つを有する。
本発明の正確な目的は、該直接合成法を実施するための
方法及び触媒であって、上記した欠点を有しないか又は
少なくともそれら欠点の影響を明らかに軽減せしめ得る
方法及び触媒を提係することである。
方法及び触媒であって、上記した欠点を有しないか又は
少なくともそれら欠点の影響を明らかに軽減せしめ得る
方法及び触媒を提係することである。
本発明の目的は、以下:
鳴生産性即ち単位接触素材について単位時間忙得られる
MC8の量が増大すると同時にDMC8の平均選択性が
高いこと; 一反応開始時における初期選択性が高く且つそれが触媒
系の最終的な分解時まで維持され得ること; ・珪素の最大転化度が高いこと; 一分子量の大きい生成物のMC8に対する含有率(重量
比)が低いこと; 自触媒を損う不純物(特に鉛)k対する触媒系の感度の
減少;及び ・反応温度が高すぎないこと: を達成せしめ得る#直接合成を実施するための方法及び
触媒を提供することである。
MC8の量が増大すると同時にDMC8の平均選択性が
高いこと; 一反応開始時における初期選択性が高く且つそれが触媒
系の最終的な分解時まで維持され得ること; ・珪素の最大転化度が高いこと; 一分子量の大きい生成物のMC8に対する含有率(重量
比)が低いこと; 自触媒を損う不純物(特に鉛)k対する触媒系の感度の
減少;及び ・反応温度が高すぎないこと: を達成せしめ得る#直接合成を実施するための方法及び
触媒を提供することである。
以下においては、特に記載がない場合、示された百分率
は重量百分率である。
は重量百分率である。
これら上記の目的及び以下の詳細な記載から明らかにな
る他の目的は、塩化メチルを、珪素と鋼又は銅化合物を
含有する触媒とからなる固体状接触素材と反応させるこ
とによってジメチルジクロルシランを製造する方法であ
って、前記触媒にさらK、珪素と触媒とからなる固体状
接触素材に対して、錫及びアンチモンから選択される少
なくとも1種の金属又は錫及び(若しくは)アンチモン
の化合物約10〜1000 ppm (金属錫及び(又
は)金属アンチモンとして計算して〕並びに、ベリリウ
ム、マグネシウム及びカルシウムから選択される金属系
添加剤又はこれら3種の金属の化合物約a01〜2X、
好ましくは約105〜1%(金属の重量として計算して
)を含有させたことを特徴とする前記方法に事実土間す
る本発明によって達成される。
る他の目的は、塩化メチルを、珪素と鋼又は銅化合物を
含有する触媒とからなる固体状接触素材と反応させるこ
とによってジメチルジクロルシランを製造する方法であ
って、前記触媒にさらK、珪素と触媒とからなる固体状
接触素材に対して、錫及びアンチモンから選択される少
なくとも1種の金属又は錫及び(若しくは)アンチモン
の化合物約10〜1000 ppm (金属錫及び(又
は)金属アンチモンとして計算して〕並びに、ベリリウ
ム、マグネシウム及びカルシウムから選択される金属系
添加剤又はこれら3種の金属の化合物約a01〜2X、
好ましくは約105〜1%(金属の重量として計算して
)を含有させたことを特徴とする前記方法に事実土間す
る本発明によって達成される。
該触媒は、接触素材の総重量に対して1〜30重量%、
好ましくは5〜12重量%の含有率で使用することがで
きる。
好ましくは5〜12重量%の含有率で使用することがで
きる。
該触媒は、合金状又は機械的混合物の形状で珪素中に導
入することができる。
入することができる。
銅化合物としては、金属銅のほかに、特に米国特許第2
,464,035号に記載されたように、鋼ハロゲン化
物又は例えばCuO及びCu2Oと〜・つた酸化鋼を使
用することができる。
,464,035号に記載されたように、鋼ハロゲン化
物又は例えばCuO及びCu2Oと〜・つた酸化鋼を使
用することができる。
鋼ハロゲン化物としては、Cu C12又はCurlを
使用することができる。実際、本発明に従って銅をCu
C1又はCu Cl 2の形状で添加した場合により良
好な結果、@に選択性及び珪素転化度の点でより良好な
結果が得られている。
使用することができる。実際、本発明に従って銅をCu
C1又はCu Cl 2の形状で添加した場合により良
好な結果、@に選択性及び珪素転化度の点でより良好な
結果が得られている。
特定の具体例によれば、該触媒には金属亜鉛又は亜鉛化
合物、好ましくは塩化亜鉛若しくは酸化亜鉛もまた含有
させることができる。
合物、好ましくは塩化亜鉛若しくは酸化亜鉛もまた含有
させることができる。
亜鉛は、該接触素材の重量に対してQ、01〜3重量%
、好ましくは0.02〜1重量%(金属亜鉛として計算
して)の濃度で存在させることができる。亜鉛の90重
重量まで、好ましくは50重量%までは、銅の塩素化の
触媒作用をし且つ(或いは)銅塩及び(若しくは)ベリ
リウム、マグネシウム及びカルシウム塩と一緒になって
共融混合物及び(又は)低融点相を形成するよ5な他の
金属で代用することができる。
、好ましくは0.02〜1重量%(金属亜鉛として計算
して)の濃度で存在させることができる。亜鉛の90重
重量まで、好ましくは50重量%までは、銅の塩素化の
触媒作用をし且つ(或いは)銅塩及び(若しくは)ベリ
リウム、マグネシウム及びカルシウム塩と一緒になって
共融混合物及び(又は)低融点相を形成するよ5な他の
金属で代用することができる。
適し得る金属としては、アルミニウム、カドミウム、マ
ンガン、ニッケル及び銀が挙げられるしベリリウム、マ
グネシウム及びカルシウムの金属系添加剤としては、そ
の純粋な金属に加えて、例えばこれら金属のハロゲン化
物(好ましくは塩化物)、炭酸塩及び硝酸塩のような金
属化合物を使用することができる。
ンガン、ニッケル及び銀が挙げられるしベリリウム、マ
グネシウム及びカルシウムの金属系添加剤としては、そ
の純粋な金属に加えて、例えばこれら金属のハロゲン化
物(好ましくは塩化物)、炭酸塩及び硝酸塩のような金
属化合物を使用することができる。
特に好適な化合物はBe C12、MgCl2、CaC
l2、BeC0,、MgC0,、CaC0,、Be(N
O3)2及びMg(Nos)2である。これらアルカリ
土類金属又は金属化合物を以下において、「本発明の添
加剤」と呼ぶ。
l2、BeC0,、MgC0,、CaC0,、Be(N
O3)2及びMg(Nos)2である。これらアルカリ
土類金属又は金属化合物を以下において、「本発明の添
加剤」と呼ぶ。
前記珪素の粒子の粒度は、少なくとも50重量%の粒子
の直径が10〜500μmであるようなものであるのが
望ましい。
の直径が10〜500μmであるようなものであるのが
望ましい。
同様に、触媒も粒状で存在し、その平均直径は1〜10
0μmがよい。接触素材の粒度なこれらのような値にし
た条件下においては、該直接合成反応を流動床状の接触
素材によって実施することができる。
0μmがよい。接触素材の粒度なこれらのような値にし
た条件下においては、該直接合成反応を流動床状の接触
素材によって実施することができる。
本発明の直接合成法は、一般的に次の3種の装f:米国
特許第2.449.821号に記載されたような攪拌原
型反応器、米国特許第2.389.951号に記載され
たような流動床型反応器又は回転式オーブン:のうちの
いずれか1つの中で実施できる。
特許第2.449.821号に記載されたような攪拌原
型反応器、米国特許第2.389.951号に記載され
たような流動床型反応器又は回転式オーブン:のうちの
いずれか1つの中で実施できる。
また、触媒は、フランス国特許第1,545.407号
に記載されたように、砂、粉砕シリカ、シリカゲル、ア
ルミナ、粉砕耐火性れんが、石油クラブキング用触媒、
ゼオライト及び焼成粘土のような粒状の無機物質上に堆
積させて使用することもできる。
に記載されたように、砂、粉砕シリカ、シリカゲル、ア
ルミナ、粉砕耐火性れんが、石油クラブキング用触媒、
ゼオライト及び焼成粘土のような粒状の無機物質上に堆
積させて使用することもできる。
該反応は280〜450℃、特に290〜570’Cに
おいて行われる。
おいて行われる。
該反応は、特に選定する反応温度が約330℃又はそれ
以上であり且つ反応を流動床内で実施する場合、反応を
より高温において開始することなく選定した温度におい
て直接実施することができる。
以上であり且つ反応を流動床内で実施する場合、反応を
より高温において開始することなく選定した温度におい
て直接実施することができる。
本発明の添加剤の重量含有率は、接触素材の重量に対す
る金属の重量として計算して約101〜2重量%、好ま
しくは11.1〜to重量%であり得る。(LOIX未
満では添加剤の作用が実質的に認められず、2重量に以
上では該添加剤は選択性を著しく低下せしめる有害作用
を有する。
る金属の重量として計算して約101〜2重量%、好ま
しくは11.1〜to重量%であり得る。(LOIX未
満では添加剤の作用が実質的に認められず、2重量に以
上では該添加剤は選択性を著しく低下せしめる有害作用
を有する。
錫及び(若しくは)アンチモン、又は錫及び(若しくは
)アンチモンの化合物の重量含有率は、接触素材の重量
に対する金属錫及び(又は)金属アンチモンの重量とし
て計算して約10〜11000pp、好ましくは30〜
250 ppmであるのがよいj 少なくとも10 ppfnの錫及び(又は)アンチモン
が存在しなければならない。実際、本発明の添加剤の有
益な作用は、錫及び(又は)アンチモンの存在下におい
てのみ得られるということが、本発明によって示されて
いる。しかしながら、重量含有率が1 o o o p
pm以上忙なると、該反応K。
)アンチモンの化合物の重量含有率は、接触素材の重量
に対する金属錫及び(又は)金属アンチモンの重量とし
て計算して約10〜11000pp、好ましくは30〜
250 ppmであるのがよいj 少なくとも10 ppfnの錫及び(又は)アンチモン
が存在しなければならない。実際、本発明の添加剤の有
益な作用は、錫及び(又は)アンチモンの存在下におい
てのみ得られるということが、本発明によって示されて
いる。しかしながら、重量含有率が1 o o o p
pm以上忙なると、該反応K。
そして特に選択性に有害な作用がもたらされるようであ
る。好適な金属である錫は、青銅の形状又は例えば塩化
錫のような錫化合物の形状で添加することができる。
る。好適な金属である錫は、青銅の形状又は例えば塩化
錫のような錫化合物の形状で添加することができる。
実質的に同じ効果を維持しながら350〜360℃より
低い温度において該反応を実施することが望まれるなら
ば、亜鉛又は亜鉛化合物、好ましくは塩化亜鉛を、接触
素材に対してQ、01〜3%、好ましくは102〜1X
の重量含有率で添加すればよいということが本発明によ
ってわかった。
低い温度において該反応を実施することが望まれるなら
ば、亜鉛又は亜鉛化合物、好ましくは塩化亜鉛を、接触
素材に対してQ、01〜3%、好ましくは102〜1X
の重量含有率で添加すればよいということが本発明によ
ってわかった。
本発明の添加剤の9011量にまで、好ましくは500
重量まで(金属の重量として計算して)は、リチウム、
ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムから選
択されるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物で代用す
ることができる(セシウムが好ましいアルカリ金属であ
る)ことが本発明によってわかった。
重量まで(金属の重量として計算して)は、リチウム、
ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムから選
択されるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物で代用す
ることができる(セシウムが好ましいアルカリ金属であ
る)ことが本発明によってわかった。
本発明の触媒を使用することKよって、330〜350
℃において攪拌床中で該反応を実施した場合に非常に高
い選択性を得ることができる。
℃において攪拌床中で該反応を実施した場合に非常に高
い選択性を得ることができる。
かくして、平均重量比MTC8/DMC8を約α07又
はα07未満で且つα05)IC到達し得る値に、生成
するシラン類の総量に対するDMC8の平均モル%を約
85%又は85%以上で且つ92%に到達し得る値に、
珪素の最大転化度を約5ON又は50%より大きく且つ
約85Xk到達し得る値に、そして平均活性度をSi1
に9について1時間当たりに生成するMC8の重量で表
わして約125g又は125IIより大きく且つ180
yないしそれ以上に到達し得る値にすることができる。
はα07未満で且つα05)IC到達し得る値に、生成
するシラン類の総量に対するDMC8の平均モル%を約
85%又は85%以上で且つ92%に到達し得る値に、
珪素の最大転化度を約5ON又は50%より大きく且つ
約85Xk到達し得る値に、そして平均活性度をSi1
に9について1時間当たりに生成するMC8の重量で表
わして約125g又は125IIより大きく且つ180
yないしそれ以上に到達し得る値にすることができる。
選択性が約90X又はそれより大きいということは、フ
ランス国特許第1,545.407号の実施例に記載さ
れたような、同じ種類でしかし本発明の添加剤を含有し
ない触媒素材を使用して達成される選択性と較べて特に
驚威的であると思われる。
ランス国特許第1,545.407号の実施例に記載さ
れたような、同じ種類でしかし本発明の添加剤を含有し
ない触媒素材を使用して達成される選択性と較べて特に
驚威的であると思われる。
また、錨及び(又は)アンチモンを含有しない以外は本
発明に従った接触素材を使用した場合、下記実施例中の
比較例に示されたよ5に、この接触素材はその活性度が
非常に低いので、工業的に用いることができない。
発明に従った接触素材を使用した場合、下記実施例中の
比較例に示されたよ5に、この接触素材はその活性度が
非常に低いので、工業的に用いることができない。
生成する分子量の大きい生成物の、得られるMC8に対
する百分率は約2Xであり得て、そして一般的には約4
X未漕である。
する百分率は約2Xであり得て、そして一般的には約4
X未漕である。
上記の結果は、反応温度を高くした場合にさらに改良さ
れ得る。該反応を流動床中で実施しても、同様の結果が
得られる。
れ得る。該反応を流動床中で実施しても、同様の結果が
得られる。
該反応を攪拌床中340℃未満において実施する場合に
は、該反応を340℃より高い温度において数10分間
かけて開始させるのが望ましい。
は、該反応を340℃より高い温度において数10分間
かけて開始させるのが望ましい。
該反応を攪拌床中3°40℃より高い温度において実施
するか又はCuC1若しくはCu C12のような塩化
鋼を使用する場合には、前記の反応開始形式を必要とし
ない。
するか又はCuC1若しくはCu C12のような塩化
鋼を使用する場合には、前記の反応開始形式を必要とし
ない。
本発明の他の利点及び特性は、下記の実施例(これは、
本発明を単に例示するためのものであり、それを何ら限
定しない)kよって明らかKなるであろう。
本発明を単に例示するためのものであり、それを何ら限
定しない)kよって明らかKなるであろう。
本実施例においては、特に記載しない限り、゛底部に焼
結ガラス製ガス・ディストリビュータが備えられた内径
60箇、高さ250簡の円筒状パイロット反応器を使用
した。少なくとも5ONの粒子の平均粒度が60〜20
0μmであるような粉末状で珪素及び触媒を装入した。
結ガラス製ガス・ディストリビュータが備えられた内径
60箇、高さ250簡の円筒状パイロット反応器を使用
した。少なくとも5ONの粒子の平均粒度が60〜20
0μmであるような粉末状で珪素及び触媒を装入した。
核反応は攪拌床中で実施し、前記反応器には外部加熱装
置を設けた。
置を設けた。
りし
触媒系: CnC1/CaC12/ ZnC1、/ S
n ; 530℃金属1[拌機及び焼結ガラス製ガス・
ディストリビュータを備えたガラス製の垂直円筒形反応
器(直径60諺)内に、珪素210.iF、塩化第−鋼
1&4g、塩化カルシウム1244g、塩化亜鉛153
g及び錫2Xを含有する青銅2.0gよりなる粉末を装
入した。この反応器を、窒素気流下において徐々に20
0℃に加熱した。次いで、反応温度を上昇させ続けなが
ら、窒素供給を停止し、161y毎時の流量で塩化メチ
ルの添加を開始した。
n ; 530℃金属1[拌機及び焼結ガラス製ガス・
ディストリビュータを備えたガラス製の垂直円筒形反応
器(直径60諺)内に、珪素210.iF、塩化第−鋼
1&4g、塩化カルシウム1244g、塩化亜鉛153
g及び錫2Xを含有する青銅2.0gよりなる粉末を装
入した。この反応器を、窒素気流下において徐々に20
0℃に加熱した。次いで、反応温度を上昇させ続けなが
ら、窒素供給を停止し、161y毎時の流量で塩化メチ
ルの添加を開始した。
次いで反応温度を345℃に調節し、約1時間この温度
に保った後に330℃に下げた。
に保った後に330℃に下げた。
330℃において3.4時間縁作した後に、塩・ 化
メチルの流量を27!/毎時に増加させた。
メチルの流量を27!/毎時に増加させた。
反応が自発的に且つ完全に停止、するまで、330℃に
おける加熱及び攪拌を続けた。
おける加熱及び攪拌を続けた。
この実験では、反応器内に装入した珪素1kgkついて
1時間に165yという生産性で、クロルシランが1艮
5g製造された。
1時間に165yという生産性で、クロルシランが1艮
5g製造された。
生成した混合物は、平均重量比MT CS/DMC3(
LO87、分子量の大きい生成物の含有量17重量%と
いう特性を有していた。
LO87、分子量の大きい生成物の含有量17重量%と
いう特性を有していた。
気相クロマトグラフィーの結果、以下のような平均分子
選択性が測定されたニ ーMe 5iC1: 847N −MeSiC1: 6,53% −MeSiC1: 4.55%。
選択性が測定されたニ ーMe 5iC1: 847N −MeSiC1: 6,53% −MeSiC1: 4.55%。
珪素の最大転化度: 55%。
比較例
触媒系: CuC1/ CaC12/ ZnC12y
330℃金属製攪拌機及び焼結ガラス製ガス・ディスト
リビュータを備えたガラス製の垂直円筒形反応器(直径
601m1K)内に、珪素210g、塩化第一銅1&4
g、塩化カルシウムt244.i?及び塩化亜鉛t53
gよりなる粉末を装入した。この反応器を、窒素気流下
において徐々に200℃に加熱した。次いで、反応温度
を上昇させ続けながら、窒素供給を停止し、161/毎
時の流量で塩化メチルの添加を開始した。
330℃金属製攪拌機及び焼結ガラス製ガス・ディスト
リビュータを備えたガラス製の垂直円筒形反応器(直径
601m1K)内に、珪素210g、塩化第一銅1&4
g、塩化カルシウムt244.i?及び塩化亜鉛t53
gよりなる粉末を装入した。この反応器を、窒素気流下
において徐々に200℃に加熱した。次いで、反応温度
を上昇させ続けながら、窒素供給を停止し、161/毎
時の流量で塩化メチルの添加を開始した。
次いで反応温度を345℃に調節し、約1時間この温度
に保った後に330℃に下げた。
に保った後に330℃に下げた。
反応が自発的に且つ完全に停止するまで、330℃にお
ける加熱及び攪拌を続けた。
ける加熱及び攪拌を続けた。
この実験では、反応器内に装入した珪素1に9について
1時間に35.9という生産性で、クロルシランが5時
間しか製造されなかった。
1時間に35.9という生産性で、クロルシランが5時
間しか製造されなかった。
生成した混合物は、平均重量比MT CS/DMC8[
L21、分子量の大きい生成物の含有量156重量%と
いう特性を有していた。
L21、分子量の大きい生成物の含有量156重量%と
いう特性を有していた。
気相クロマトグラフィーの結果、以下のような平均分子
選択性が測定された: * Me2SiC12: 6q、 1X・MeSiCl
:12.6% sMesicl :1α4%。
選択性が測定された: * Me2SiC12: 6q、 1X・MeSiCl
:12.6% sMesicl :1α4%。
Claims (9)
- (1)塩化メチルを、珪素と銅若しくは銅化合物を含有
する触媒とからなる固体状接触素材と反応させることに
よってジメチルジクロルシランを製造する方法であって
、前記触媒にさらに、珪素と触媒とからなる固体状接触
素材に対して、錫及びアンチモンから選択される少なく
とも1種の金属又は錫及び(若しくは)アンチモンの化
合物約10〜1000ppm〔金属錫及び(又は)金属
アンチモンとして計算して〕並びに、ベリリウム、マグ
ネシウム及びカルシウムから選択される金属系添加剤又
はこれら3種の金属の化合物約0.01〜2%、好まし
くは約0.05〜1%(金属の重量として計算して)を
含有させたことを特徴とする前記ジメチルジクロルシラ
ン製造方法。 - (2)前記した錫及び(又は)アンチモンの含有量が3
0〜250ppmであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の方法。 - (3)前記した金属系添加剤の含有量が0.05〜1.
0%であることを特徴とする特許請求の範囲第1又は2
項記載の方法。 - (4)前記触媒が固体接触素材に対して亜鉛又は亜鉛化
合物約0.01〜3%(金属亜鉛として計算して)をも
含有することを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項の
いずれかに記載の方法。 - (5)前記亜鉛の90%までを、銅の塩素化の触媒作用
をし且つ(或いは)銅塩若しくはセシウム塩と一緒にな
って共融混合物及び(又は)低融点相を形成する金属で
代替したことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
方法。 - (6)前記金属がアルミニウム、カドミウム、マンガン
、ニッケル及び銀から選択されることを特徴とする特許
請求の範囲第5項記載の方法。 - (7)前記金属系添加剤の90重量%(金属の重量とし
て計算して)までを、リチウム、ナトリウム、カリウム
、ルビジウム及びセシウムから選択されるアルカリ金属
又はアルカリ金属化合物で代替したことを特徴とする特
許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の方法。 - (8)前記亜鉛の含有量が0.02〜1重量%であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第4〜7項のいずれかに
記載の方法。 - (9)使用する触媒が含有する鋼又は銅化合物が、鋼、
塩化第一鋼又は塩化第二鋼であることを特徴とする特許
請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR85/02550 | 1985-02-22 | ||
FR8502550A FR2577930B1 (fr) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | Procede et catalyseur avec un metal alcalino-terreux choisi comme additif parmi le calcium, le magnesium et le beryllium pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61194090A true JPS61194090A (ja) | 1986-08-28 |
Family
ID=9316522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61033111A Pending JPS61194090A (ja) | 1985-02-22 | 1986-02-19 | ジメチルジクロルシラン直接合成のための方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4684741A (ja) |
EP (1) | EP0194214B1 (ja) |
JP (1) | JPS61194090A (ja) |
BR (1) | BR8600677A (ja) |
DE (1) | DE3661536D1 (ja) |
FR (1) | FR2577930B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014237629A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-18 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | メチルクロロシラン類の調製方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4762940A (en) * | 1987-12-11 | 1988-08-09 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of alkylhalosilanes |
US4973725A (en) * | 1988-06-28 | 1990-11-27 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Direct synthesis process for organohalohydrosilanes |
DE3823308A1 (de) * | 1988-07-09 | 1990-01-11 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
DE3841417A1 (de) * | 1988-12-08 | 1990-06-13 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
US4965388A (en) * | 1990-01-02 | 1990-10-23 | Dow Corning Corporation | Method for preparing organohalosilanes |
US5061672A (en) * | 1990-01-30 | 1991-10-29 | Elkem Metals Company | Active mass for making organohalosilanes |
FR2665446B1 (fr) * | 1990-07-31 | 1992-11-27 | Rhone Poulenc Chimie | Procede et catalyseur comprenant un compose de lanthanide comme additif promoteur pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane. |
NO950760L (no) * | 1995-02-28 | 1996-08-29 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for fremstilling av alkylhalosilaner |
KR100407518B1 (ko) * | 1995-12-29 | 2004-02-25 | 고려화학 주식회사 | 디메틸디클로로실란의제조방법 |
US6077487A (en) * | 1997-11-05 | 2000-06-20 | Millipore Corporation | Process and apparatus of removing metal carbonyls and moisture from a gas |
US6602410B1 (en) | 2000-11-14 | 2003-08-05 | The Procter & Gamble Comapny | Water purifying kits |
KR101616043B1 (ko) | 2014-07-22 | 2016-04-27 | 한화케미칼 주식회사 | 삼염화실란의 제조방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6078992A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-05-04 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | アルキルハロシラン類の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB708823A (en) * | 1950-05-19 | 1954-05-12 | Bayer Ag | Contact mass for use in the preparation of organo halogenosilanes |
DE1076131B (de) * | 1954-09-25 | 1960-02-25 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organohalogensilanen |
US2865939A (en) * | 1956-07-10 | 1958-12-23 | Du Pont | Synthesis of alkylhalosilanes |
FR1545407A (fr) * | 1966-11-28 | 1968-11-08 | Midland Silicones Ltd | Procédé de préparation d'organohalosilanes |
JPS5388683A (en) * | 1977-01-14 | 1978-08-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Methylchlorosilane synthesis catalyst |
FR2552438B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-11-08 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec un alcalin comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
FR2552437B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1986-09-12 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec le cesium comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
US4504597A (en) * | 1983-11-04 | 1985-03-12 | Scm Corporation | Cupreous catalyst and process making same |
-
1985
- 1985-02-22 FR FR8502550A patent/FR2577930B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-02-18 BR BR8600677A patent/BR8600677A/pt unknown
- 1986-02-19 JP JP61033111A patent/JPS61194090A/ja active Pending
- 1986-02-20 EP EP86420053A patent/EP0194214B1/fr not_active Expired
- 1986-02-20 DE DE8686420053T patent/DE3661536D1/de not_active Expired
- 1986-02-24 US US06/832,080 patent/US4684741A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6078992A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-05-04 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | アルキルハロシラン類の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014237629A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-18 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | メチルクロロシラン類の調製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3661536D1 (en) | 1989-02-02 |
BR8600677A (pt) | 1986-10-29 |
EP0194214B1 (fr) | 1988-12-28 |
FR2577930B1 (fr) | 1987-06-05 |
FR2577930A1 (fr) | 1986-08-29 |
EP0194214A1 (fr) | 1986-09-10 |
US4684741A (en) | 1987-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4661613A (en) | Direct catalytic synthesis of dimethyldichlorosilane from methyl chloride and silicon | |
US5654460A (en) | Method for production of aklylhalosilanes | |
CA1229842A (en) | Method for making alkylhalosilanes | |
JPS61194090A (ja) | ジメチルジクロルシラン直接合成のための方法 | |
US4762940A (en) | Method for preparation of alkylhalosilanes | |
US4656301A (en) | Direct catalytic synthesis of dimethyldichlorosilane from methyl chloride and silicon | |
JPH0551596B2 (ja) | ||
JPS61280498A (ja) | ジメチルジクロルシラン直接合成のための方法並びに添加剤としてバリウム、ストロンチウム又はそれらの混合物を含有する触媒 | |
JP2003531007A (ja) | 触体の製造方法 | |
US5117030A (en) | Catalyst/promoter for direct synthesis of dimethyldichlorosilane | |
JP2583750B2 (ja) | メチルクロルシランの製法 | |
US5061672A (en) | Active mass for making organohalosilanes | |
JPH10139785A (ja) | アルキルハロシラン類の製造方法 | |
JP3553469B2 (ja) | メチルクロロシランを直接合成するための連続法 | |
KR100785674B1 (ko) | 알킬할로실란의 직접 합성을 위한 구리, 인 및 알칼리 금속기재 촉매 조성물 | |
JP4181130B2 (ja) | アルキルハロシランの直接合成のための触媒系及び方法 | |
JP4407805B2 (ja) | オルガノハロシランの製造方法 | |
US3855259A (en) | Method of preparing phenylchlorosilanes | |
JPH1171384A (ja) | アルキルハロシランの製造方法 |