JPS61194067A - ビ―2h―ピロール―ジオン化合物 - Google Patents

ビ―2h―ピロール―ジオン化合物

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JPS61194067A
JPS61194067A JP61035368A JP3536886A JPS61194067A JP S61194067 A JPS61194067 A JP S61194067A JP 61035368 A JP61035368 A JP 61035368A JP 3536886 A JP3536886 A JP 3536886A JP S61194067 A JPS61194067 A JP S61194067A
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    • A61P25/28Drugs for disorders of the nervous system for treating neurodegenerative disorders of the central nervous system, e.g. nootropic agents, cognition enhancers, drugs for treating Alzheimer's disease or other forms of dementia
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式(I)。
C式中R1及びR2ば、それぞれカルボキシ低級アルキ
ル基又は非置換或いは低級アルキル基、ヒドロキシ低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、アミノ低
級アルキル基、N−七ノー若しくはN、N−ジ−低級ア
ルキルアミノ低級アルキル基、それぞれ4〜8員の、場
合により、低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基若
しくはヒドロキシ基で(アルキレンアミノ基上で)置換
されたN、N−アルキレンアミノ低級アルキル基或いは
場合により、低級アルコキシカルボニル基及び場合によ
り、付加的にヒドロキシ基で(アルケニレンアミノ基で
)置換されたN、N−アルケニレンアミノ低級アルキル
基又はN、N−(アザ−1N′−低級アルキルアザル若
しくはNo−低級アルカノイルアザ−、オキサ−若しく
はチア)アルキレンアミノ低級アルキル基、カルバモイ
ル低級アルキル基、N−モノ−若しくはN、N−ジ低級
アルキルカルバモイル低級アルキル基、3〜8員の、シ
クロアルキル基、ジシクロアルキル基又はトリシクロア
ルキル基又は非置換又はフェニル部分が低級アルキル基
、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニル低級アルキル基でN−モ
ノ−若しくはN。
N−ジ置換されたカルバモイル低級アルキル基又はそれ
ぞれ3〜7員の、場合により、低級アルコキシカルボニ
ル基及びオキソ基若しくはヒドロキシ基で置換されたア
ルキレン基又は場合により、低級アルコキシカルボニル
基及び場合により、付加的にヒドロキシ基で置換された
アルケニレン基又はアザ−1N′−低級アルキルアザー
或いはNo−低級アルカノイルアザ−、オキサ−若しく
はチア−アルキレン基でジ置換されたカルバモイル低級
アルキル基を表し、R3、R4、R5及びR,はそれぞ
れ水素又は低級アルキル基を表すか、又はR3とR4及
び/又はR5とR6は一緒に4〜8員のアルキレン基を
表し、R7、Ra、R9及びR10はそれぞれ水素を表
すか、又はR7はR8と一緒に、及び/又はR9はR1
0と一緒にそれぞれ付加的結合を表す〕の新規置換テト
ラヒドロ−、ヘキサヒドロ−又はオクタヒドロ−〔3゜
4g−ビー2H−ピロール)−2,2”−ジオン及びそ
の塩、特に薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は、例えば、R2及びR2がそれぞれカルボキシ
低級アルキル基又は非置換又は低級アルキル基、ヒドロ
キシ低級アルキル基、アミン低級アルキル基、N−モノ
−若しくはN、N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル
基、4〜8員のN。
N−アルキレンアミノ−若しくはN、N−(アザ−、オ
キサ−若しくはチア)アルキレンアミノ低級アルキル基
、カルバモイル低級アルキル基、N−モノ−若しくはN
、N−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、3
〜8員のシクロアルキル基、非置換フェニル低級アルキ
ル基或いはフェニル部分が低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン及び/又はトリフルオロメチル基で置
換されたフェニル低級アルキル基でN−モノ−若しくは
N、N−ジ置換されたカルバモイル低級アルキル基、又
は3〜7員のアルキレン基或いはアザ−、オキサ−若し
くはチア−アルキレン基でジ置換されたカルバモイル低
級アルキル基を表し、R3、R4、R5及びR6がそれ
ぞれ水素又は低級アルキル基を表すか、又はR3とR4
及び/又はR5とR6が一緒に4〜8員のアルキレン基
を表し、R7がR8と一緒に、及びR9がR10と一緒
にそれぞれ付加的結合を表す一般式(I)の1゜1“、
5,5°−テトラヒドロ−〔3,4“−ビー 2 H−
ピロール)−2,2°−ジオン及びその塩に関する。
以上及び以下において、低級の基とは、例えば7個以下
、特に4([1i11以下の炭素原子を有する基を表す
低級アルキル基は、例えば炭素原子数1〜4のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、イソブチル基、5ec−ブチル基又はtert、−ブ
チル基であるが、炭素原子数4〜7のアルキル基、例え
ばペンチル基、ヘキシル基又はヘプチル基であってもよ
い。
カルボキシ低級アルキル基は、例えばカルボキシ−C,
−C,−アルキル基であり、例えばカルボキシメチル基
、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基
又は4−カルボキシブチル基を表すが、2−カルボキシ
プロピル基、2−カルボキシ−2−メチルプロピル基又
は1−力ルポキシエチル基であってもよい。
カルバモイル低級アルキル基は、例えばカルバモイル−
c、−C4−アルキル基であり、例えばカルバモイルメ
チル基、2−カルバモイルエチル基、3−カルバモイル
プロピル基又は4−カルバモイルブチル基であるが、2
−カルバモイルプロピル基、2−カルバモイル−2−メ
チル−プロピル基又は1−カルバモイルエチル基であっ
てもよい。
ヒドロキシ低級アルキル基は、特にα−位より高位にヒ
ドロキシ基を有し、例えば対応するヒドロキシ−C2−
C4−アルキル基、例えば2−ヒドロキシエチル基、3
−若しくは2−ヒドロキシプロピル基又は4−ヒドロキ
シブチル基を表す。
ヒドロキシ低級アルキル基で置換されたカルバモイル低
級アルキル基は、例えばN−(2−ヒドロキシエチル)
カルバモイルメチル基である。
低級アルコキシ低級アルキル基は、特にα−位より高位
に低級アルコキシ基を有し、例えばC1〜C4−アルコ
キシ−C2−C4−アルキル基、例えば2−メトキシエ
チル基、3−メトキシプロピル基、更に2−エトキシエ
チル基ヲ表ス。
アミノ低級アルキル基又はN−モノ−若しくはN、N−
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基は、特にα−位よ
り高位にアミノ基又はN−モノ−若しくはN、N−ジ低
級アルキルアミノ基を有し、例えばアミノ−C2−C4
−アルキル基、C,−07−アルキルアミノ−C2−C
4−アルキル基又はジ−C+   C4−アルキルアミ
ノ−C2−C4−アルキル基、例えば2−アミノエチル
基、3−アミノプロピル基、2−(N−イソプロピルア
ミノ)エチル基、2   (N  tert−ブチルア
ミノ)エチル基、l−(N、N−ジメチルアミノ)エチ
ル基、2− (N、N−ジエチルアミノ)エチル基又は
特に2−(N、N−ジイソプロピルアミノ)エチル基で
ある。
4〜8員のN、N−アルキレン−若しくはN。
N−アルケニレン−又はN、 N−(アザ−、オキサ−
若しくはチア)アルキレンアミノ低級アルキル基は、特
にα−位より高位にN、N−ジ置換アミノ基を有し、例
えば、場合により低級アルコキシカルボニル基、例えば
c、−C,−アルコキシカルボニル基、例えばメトキシ
−若しくはエトキシカルボニル基、及びオキソ基又はヒ
ドロキシ基で置換された4〜6員のN、N−アルキレン
−アミノ−C2−C4−アルキル基又は場合により低級
アルコキシカルボニル基、例えばC,−C,−アルコキ
シカルボニル基、例えばメトキシ−若しくはエトキシカ
ルボニル基、及び場合により付加的にヒドロキシ基で置
換されたN、N−アルケニレンアミノ−C2−C4−ア
ルキル基又は非置換N、N−(3−アザ)−1N、N−
(3−オキサ)−若しくはN、N−(3−チア)−アル
キレンアミ/’  C2C4−アルキル基、例えば2−
 (3゜3−ジメチルアミノジノ)エチル基、2−ピロ
リジノエチル基、2−ピペリジノエチル基、2−(3−
エトキシカルボニル−4−オキソービベリジノ)エチル
基、2−(3−メトキシカルボニル−4−オキソ−ピペ
リジノ)エチル基、2−(3−ニトキシカルボニル−4
−ヒドロキシ−ピペリジノ)エチル基、2− (3−メ
トキシカルボニル−4−ヒドロキシ−ピペリジノ)エチ
ルi、1−(3−メトキシカルボニル−1,2,5,6
−チトラヒドロビリジノ)エチル基、2− (2,6−
シメチルビリジノ)エチル基、2−モルホリノエチル基
、2−(4−メチルピペラジノ)エチル基又は2−(4
−アセチルピペラジノ)エチル基である。
N−モノ−又はN、 N−ジ低級アルキルカルバモイル
低級アルキル基は、例えばN  CI   C7〜アル
キルカルバモイル−若しくはN、N−ジ−C,−C4−
アルキルカルバモイル−C,−C4−アルキル基、例え
ばN、N−ジメチルカルバモイルメチル基、N−エチル
カルバモイルメチル基、N、N−ジイソプロピルカルバ
モイルメチル基、2− (N、N−ジメチルカルバモイ
ル)エチル基又は2− (N、N−ジイソプロピルカル
バモイル)エチル基である。
3〜8員のシクロアルキル基、ジシクロアルキル基又は
トリシクロアルキル基は、例えば、炭素原子数3〜8の
単環式シクロアルキル基、例えばシクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基
、更にシクロヘプチル基又はシクロオクチル基、炭素原
子数7〜9の双環式シクロアルキル基、例えばビシクロ
−〔2゜2.2〕−オクチル基、又は炭素原子数8〜1
.2の三環式シクロアルキル基、例えばアダマンチル基
である。
低級アルコキシ基は、例えば、炭素原子数1〜4のアル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
5ec−ブトキシ基又はtert −ブトキシ基である
が、炭素原子数5〜7のアルコキシ基、例えばペンチル
オキシ基、ヘキシルオキシ基又はヘプチルオキシ基であ
ってもよい。
ハロゲンは、例えば原子番号35以下のハロゲン、例え
ば弗素、塩素又は臭素である。
フェニル低級アルキル基は、例えばフェニル−C+  
C4−アルキル基、例えばベンジル基、2−フェニルエ
チル基、2− <3.4−ジメトキシフェニル)エチル
基、又は3−フェニルプロピル基である。
3〜7員のアルキレン基は、例えば、場合により低級ア
ルコキシカルボニル基、例えばCI −04−アルコキ
シカルボニル基、例えばメトキシカルボニル基若しくは
エトキシカルボニル基、及びオキソ基又はヒドロキシ基
で置換された3〜7員のアルキレン基、例えば1.3−
プロピレン基、1.3− (2,2−ジメチル)プロピ
レン基、1゜4−ブチレン基、1.5−ペンチレン基、
1,5−(2−メトキシ−若しくはエトキシカルボニル
−3−オキソ)ベンチレン基、1.5−(2−メトキシ
−若しくは2−エトキシカルボニル−3−ヒドロキシ)
−ベンチレン基又は1.6−ヘプチレン基を表す。3〜
7員のアルキレン基で置換されたカルバモイル低級アル
キル基は、従って、例えばピペリジノカルボニル低級ア
ルキル基又は(3−メトキシカルボニル−4−オキソ−
ピペリジノカルボニル)メチル基を表すが、ピロリジノ
カルボニルメチル基であってもよい。
3〜7員のアルケニレン基は、例えば、1,5−(2−
低6Aアルコキシカルボニル)−ベンl−−゛2−エニ
レン基又は1.5− (2−低級アルコキシ力ルボニル
〜3−ヒドロキシ)ベント−2−エニレン基、対応して
置換されたカルバモイル低級アルキル基、例えば3  
C,C4−アルコキシカルホニ/L/−1iJlえば3
−メトキシカルボニル−1,2,5,6−チトラヒドロ
ーピリジノカルポニルメチル基、又は3−C1−04−
アルコキシカルボニル−1例えば3−メトキシカルボニ
ル−4−ヒドロキシ−1,2,5,6−チトラヒドロー
ピリジノカルポニルメチル基を表す。
3〜7員のアザ−、オキサ−又はチアアルキレン基は、
特に5〜6個の連鎖質を有し、例えば、1.5−(3−
アザ)ペンチレン基、■、5−(3−メチル−3−アザ
)ベンチレン基、1. 5=(3−オキサ)ペンチレン
基又は1.5−(3−チア)ペンチレン基を表す。3〜
7員のアザ−、オキサ−又はチアアルキレン基で置換さ
れたカルバモイル低級アルキル基は、例えばモルホリノ
−1(4−メチル)ピペラジノ−5(4−アセチル)ピ
ペラジノ−又は(シス−2,6−ジメチル)ピペラジノ
カルボニルメチル基を表す。
一般式(1)の化合物は、不整炭素原子の数に応じて、
光学的対字体又はジアステレオマーのような立体異性体
、又は光学的対字体混合物、ジアステレオマー混合物、
ラセミ化合物又はラセミ混合物のような立体異性体混合
物として存在することができる。これらはすべて一般式
(I)に対応し、従って、本発明に含まれる。
一般式(1)の化合物の塩は、例えば、塩基との薬学的
に許容しうる塩、同様に分子内塩及びR1及び/又はR
2が塩基性を有する、即ち、カルバモイル基が塩基性基
、例えばアミノ低級アルキル基、N−モノ−若しくはN
、N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基又はN、N
−アルキレン−若しくはN、N−(アザ−、オキサ−若
しくはチア)アルキレンアミノ低級アルキル基で置換さ
れている一般式(1)の化合物の薬学的許容しうる酸付
加塩である。
一般式(I)の化合物と塩基との薬学的に許容しうる塩
は、例えば金属塩又はアンモニウム塩、例えばアルカリ
金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばナトリウム塩、
カリウム塩、マグネシウム塩若しくはカルシウム塩、更
にアンモニア若しくは適当な有機アミンとのアンモニウ
ム塩、例えば低級アルキル基及び/又はヒドロキシ低級
アルキル基を有する脂肪族アミン、例えばN−ヒドロキ
シ低級アルキルアミン、例えばエタノールアミン、N−
ヒドロキシ低級アルキル−N、N−ジ(低級アルキル)
−アミン、例えば2,2−ジメチルアミノエタノール、
N、N−ジ(ヒドロキシ低級アルキル)アミン、例えば
ジェタノールアミン、又はN、N、N−)リ (ヒドロ
キシ低級アルキル)アミン、例えばトリエタノールアミ
ンとの塩、同様にN−トリ (ヒドロキシメチル)−メ
チルアミンとの塩、更にカルボン酸の塩基性脂肪族エス
テルとの塩、例えば4−アミノ安息香酸−2−ジエチル
アミノエチルエステルとの塩、低級アルキレンアミン、
例えばl−エチルピペリジン、シクロアルキルアミン、
例えばジシクロヘキシルアミン又はベンジルアミン、例
えばN、N’−ジベンジルエチレンジアミン、ジベンジ
ルアミン又はN−ベンジル−β−フェニルエチルアミン
との塩である。
薬学的に許容しうる酸付加塩は、例えば適当な鉱酸、例
えばハロゲン水素酸、硫酸若しくは燐酸との塩、例えば
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩若しくは燐
酸塩、又は適当な有機カルボン酸若しくはスルホン酸、
例えば場合によりヒドロキシル化された脂肪族モノ−若
しくはジカルボン酸との塩、例えば酢酸塩、蓚酸塩、フ
マール酸塩、マレイン酸塩、アスコルビン酸塩若しくは
クエン酸塩、脂肪族又は芳香族スルホン酸又はN−置換
スルファミン酸との塩、例えばメタンスルホン酸塩、ヘ
ンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩又はN
−シクロへキシルスルファミン酸塩である。
単離又は精製のためには、薬学的に不適当な塩を使用す
ることもできる。治療のためには、薬学的に許容しうる
無毒性塩だけを使用するので、これが好ましい。
一般式(1)の化合物及びその薬学的に許容しうる塩は
、有用な薬理作用、特に向精神作用を有する。これらの
化合物は、マウスに腹腔内又は経口投与で約0.1■/
kg以上の投与量で、電気ショックの記憶喪失作用を、
ビラセタムの向精神有効量(100■/kg、腹腔内)
を投与した後と少なくとも同程度に低減する。向精神作
用を証明するには、例えば、ツウ−コンパートメント−
テストを利用することができる。
この種の薬理モデルに関する文献としては、例えば下記
のものが挙げられる:ニス・ジエイ・サラ(S、 J、
 5ara)及びディ・レフエブレ(D。
Lefevre ) 、サイコツアルマコロギア(Ps
ychopharmacologia ) 25巻、3
2〜40頁(1972)、1回の学習における低酸素症
性記憶喪失及びピラセタムによる薬学的保護。ボッギャ
ン(Boggan、凱0. >及びシュレジンジャー(
Schlesinger、 K、 ) 、ビハビオラー
ル・バイオロジイ(Behavioral Biolo
gy)  12巻、127〜134頁(1974)。
更に、一般式(1)の化合物は、モンダトリ(Mond
adori )及びバッサ−(Wasser)によるス
テップ−ダウン・受動的回避テスト〔サイコファルマコ
ロジ−(Psychopharmacologie )
 63巻、297〜300頁(1979) )において
強い記憶改善作用を示す。これらの物質は、学習試験の
30分前に腹腔内投与(有効量0.1.1.0.10■
/kg)すると、有効である。学習試験の60分前に経
口投与(有効量0.1.1.10■/kg)及び学習試
験直後に腹腔内投与(有効量0.1.1.10mg /
 kg )する際にも、明瞭な作用が確認された。
一般式(1)の化合物及びその薬学的に許容しうる塩は
、従って、向精神剤として、例えば中枢機能不全、特に
種々の原因による記憶障害、例えば老人痴呆又はアルツ
ハイマー型痴呆、更に、脳損傷及び卒中の後遺症の治療
に使用することができる。
本発明は、特に、R1及びR2がそれぞれ独立にカルポ
ギシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、N
−七ノー若しくはN、N−ジ低級アルキルカルバモイル
低級アルキル基、カルバモイル基の窒素原子に対してα
−位より高位にヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基
、アルキレン基、アルケニレン基若しくはアザ−、オキ
サ−若しくはチアアルキレンアミノ基を有するN−七ノ
ー若しくはN、N−ジ(ヒドロキシ低級アルキル)カル
バモイル低級アルキル基、N−(低級アルコキシ低級ア
ルキル)カルバモイル低級アルキル基、N−モノ−若し
くはN、N−ジ(アミノ低級アルキル)カルバモイル低
級アルキル基、N−(低級アルキルアミノ低級アルキル
)−若しくはN−(ジ低級アルキルアミノ低級アルキル
)カルバモイル低級アルキル基、それぞれ4〜8員の、
場合により低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基若
しくはヒドロキシ基で置換されたN−(アルキレンアミ
ノ低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基又は場合
により低級アルコキシカルボニル基及び場合により付加
的にヒドロキシ基で置換されたN−(アルケニレンアミ
ノ低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基、場合に
より低級アルキル基でC−及び/又はNo−置換された
か又は低級アルカノイル基でNo−置換されたN−〔(
アザ)アルキレンアミノ低級アルキル〕カルバモイル低
級アルキル基、N−((オキサ)アルキレンアミノ低級
アルキル〕カルバモイル低級アルキル基又はN−〔(チ
ア)アルキレンアミノ低級アルキレンカルバモイル低級
アルキル基、N−(カルバモイル低級アルキル)カルバ
モイル低級アルキル基、N−(N’−モノ−若しくはN
o、N“−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル)
カルバモイル低級アルキル基、3〜8員の単環式N−七
ノー若しくはN、N−ジシクロアルキルカルバモイル低
級アルキル基、N−ビシクロアルキルカルバモイル低級
アルキル基、N−)ジシクロアルキルカルバモイル低級
アルキル基、非置換又はフェニル部分が低級アルキル基
、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はトリシルオロ
メチル基で置換されたN−七ノー若しくはN、 N−ジ
(フェニル低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基
又はそれぞれ4〜8員の、場合により低級アルコキシカ
ルボニル基及びオキソ基又はヒドロキシ基で置換された
N、N−アルキレンカルバモイル低級アルキル基、場合
により低級アルコキシカルボニル基及び場合により付加
的にヒドロキシ基で置換されたN、N−アルケニレンカ
ルバモイル低級アルキル基、場合により低級アルキル基
でC−及び/又はNo−置換されたか又は低級アルカノ
イル基でN“−置換されたN、N−(アザ)アルキレン
カルバモイル低級アルキル基又はN、N−(オキサ−若
しくはチア)アルキレンカルバモイル低級アルキル基を
表し、R3、R4、R5及びR6がそれぞれ水素又は低
級アルキル基を表すか、又はR3とR4及び/又はR5
とR6が一緒に4〜8員のアルキレン基を表し、R,、
R8,、R9及びR10がそれぞれ水素を表すか又はR
7がR8と一緒に及び/又はR9がR10と一緒にそれ
ぞれ付加的結合を表す一般式(I)の化合物、特に、R
1及びR2が同一であり、R3、R4、R5及びR6が
水素を表し、及び/又はRワとR8及びR9とRIDが
一緒にそれぞれ付加的結合を表す化合物及びその塩、特
に薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は(fllえば特に、R1及びR2がそれぞれ独
立にカルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アル
キル基、N−七ノー若しくはN、N−ジ低級アルキルカ
ルバモイル低級アルキル基、カルバモイル基の窒素原子
に対してα−位より高位にヒドロキシ基、アミノ基、低
級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アルキ
レン基、若しくはアザ−、オキサ−若しくはチアアルキ
レンアミノ基を有するN−モノ−若しくはN、N−ジ(
ヒドロキシ低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基
、N−七ノー若しくはN、  N−ジ(アミノ低級アル
キル)カルバモイル低級アルキル基、N−(低級アルキ
ルアミノ低級アルキル)−若しくはN−(ジ低級アルキ
ルアミノ低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基、
それぞれ4〜8員のN−(アルキレンアミノ低級アルキ
ル)カルバモイル低級アルキル基、N−〔(アザ)アル
キレンアミノ低級アルキル〕カルバモイル低級アルキル
基、N−((オキサ)アルキレンアミノ低級アルキル〕
カルバモイル低級アルキル基又はN−〔(チア)アルキ
レンアミノ低級アルキレンカルバモイル低級アルキル基
、N−(カルバモイル低級アルキル)カルバモイル低級
アルキル基、N−(N’−モノ−若しくはN’、N”−
ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル)カルバモイ
ル低級アルキル基、3〜8員の単環式N−モノ−若しく
はN。
N−ジシクロアルキルカルバモイル低級アルキル基、非
置換又はフェニル部分が低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン及び/又はトリフルオロメチル基で置換
されたN−モノ−若しくはN。
N−ジ(フェニル低級アルキル)カルバモイル低級アル
キル基又はそれぞれ4〜8員のN、N−アルキレンカル
バモイル低級アルキル基、N、N−(アザ−、オキサ−
若しくはチア)アルキレンカルバモイル低級アルキル基
を表し、R3、R,、R3及びR6がそれぞれ水素又は
低級アルキル基を表すか、又はR3とR4及び/又はR
5とR6が一緒に4〜8員のアルキレン基を表し、RT
がReと一緒に及び/又はR9がR10と一緒にそれぞ
れ付加的結合を表す一般式(1)の化合物、特に、R1
及びR2が同一であり、R3、R4、R5及びR6が水
素を表す化合物及びその塩に関する。
本発明は、殊に、R1及びR2がそれぞれ独立に合計炭
素原子数5以下のカルボキシ低級アルキル基、例えばカ
ルボキシメチル基若しくは2−力ルボキシエチル基、合
計炭素原子数5以下のカルバモイル低級アルキル基、例
えばカルバモイルメチル基若しくは2−カルバモイルエ
チル基、それぞれ各アルキル部分に4個以下の炭素原子
を有するN−モノ−若しくはN、 N−ジ低級アルキル
カルバモイル低級アルキル基、例えばN−モノ−若しく
はN、N−ジメチルカルバモイルメチル基或いはN−モ
ノ−若しくはN、 N−ジイソプロピルカルバモイルメ
チル基、ヒドロキシアルキル部分及びアルキル部分に4
個以下の炭素原子を有するN−モノ−若しくはN、 N
−ジ(ω−ヒドロキシ低級アルキル)カルバモイル低級
アルキル基、例えばN−七ノー若しくはN、 N−ジ(
2−ヒドロキシエチル)カルバモイルメチル基、又はア
ミノ低級アルキル部分及びアルキル部分に4個以下の炭
素原子を有するN−(ω−アミノ低級アルキル)カルバ
モイル低級アルキル基、例えばN−(2−アミノエチル
)カルバモイルメチル基、各アルキル部分に4個以下の
炭素原子を有するN−(ω−(N’、N’−ジ低級アル
キルアミノ)低級アルキレンカルバモイル低級アルキル
基、例えばN−(2−ジメチルアミノエチル)カルバモ
イルメチル基若しくはN−(2−ジイソプロピルエチル
)カルバモイルメチル基、4〜7個の環成員及び各、ア
ルキル部分に4個以下の炭素原子を有するN〜(ω−ア
ルキレンアミノ低級アルキル)カルバモイル低級アルキ
ル基、例えばN−C2−(3,3−ジメチルアゼチジノ
)エチル〕カルバモイルメチル基、N−(2−ピロリジ
ノエチル)カルバモイルメチル基、N−(2−ピペリジ
ノエチル)カルバモイルメチル基若しくはN−C2−(
2,6−シメチルビペリジノ)エチル〕カルバモイルメ
チル基、4〜7個の環成員及び各アルキル部分に4個以
下の炭素原子を有するN−[ω−(3−アザアルキレン
アミノ)低級アルキル〕カルバモイル低級アルキル基、
例えばN−(2〜ピペラジノエチル)カルバモイルメチ
ル基若しくハN−[2−(4−メチルピペラジノ)エチ
ル〕カルバモイルメチル基、4〜7個の環成員及び各ア
ルキル部分に4個以下の炭素原子を有するN−(ω−(
3−オキサアルキレンアミノ)低級アルキル〕カルバモ
イル低級アルキル基、例えばN−(2−モルホリノエチ
ル)カルバモイルメチル基、各アルキル部分に4個以下
の炭素原子を有するN−・(フェニル低級アルキル)カ
ルバモイル低級アルキル基(フェニル部分は炭素原子数
4以下の低級アルキル基、例えばメチル基、炭素原子数
4以下の低級アルコキシ基、例えばメトキシ基、原子番
号35以下のハロゲン、例えば塩素、及び/又はトリフ
ルオロメチル基で七ノー又はジ置換されていてもよい)
、例えばN−(2−フェニルエチル)−若しくはN−C
2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチル〕カルバモ
イルメチル基、各アルキル部分に41[1i1以下の炭
素原子を有するN−(α−カルバモイル低級アルキル)
カルバモイル低級アルキル基、例えばN−(カルバモイ
ルメチル)カルバモイルメチル基、4〜7個の環成員及
び各アルキル部分に4個以下の炭素原子を有するN、N
−アルキレンカルバモイル低級アルキル基、例えば(3
゜3−ジメチルアゼチジノ)カルボニルエチル基、ピロ
リジノカルボニルメチル基、ピペリジノカルボニルメチ
ル基若しくは(2,6−シメチルビペリジノ)カルボニ
ルメチル基、4〜7個の環成員及び各アルキル部分に4
個以下の炭素原子を有するN、N−(アザアルキレン)
カルバモイル低級アルキル基、例えばピペラジノカルボ
ニルメチル基Mしくは(4−メチルピペラジノ)カルボ
ニルメチル基、4〜7個の環成員及び各アルキル部分に
4個以下の炭素原子を有するN、N−(3−オキサアル
キレン)カルバモイル低級アルキル基、例えばモルホリ
ノカルボニルメチル基、又は4〜7個の環成員及び各ア
ルキル部分に4(llil以下の炭素原子を有するN、
N−(3−チアアルキレン)カルバモイル低級アルキル
基、例えばチオモルホリノカルボニルメチル基を表し、
R3、R4、R5及びRsが水素を表すか、又はR3と
R5が炭素原子数4以下の同一の低級アルキル基、例え
ばメチル基を表し、R4とR6が水素又は炭素原子数4
以下の同一の低級アルキル基、例えばメチル基を表すか
又はR3とR4及びR5とR6が一緒に炭素原子@2〜
6の同一の低級アルキレン基、例えばエチレン基、1.
3−プロピレン基、1゜4−ブチレン基、1.5−ペン
チレン基若しくは1.3− (2,2−ジメチル)−プ
ロピレン基を表し、R7がR8と一緒に及び/又はR9
がR10と一緒にそれぞれ付加的結合を表す一般式(1
)の化合物、特にR1及びR2が同一であり、R3、R
4、R5及びR6が水素を表す化合物及びその塩、特に
薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は、好ましくは、R2及びR2が同一であり、カ
ルボキシ−C,−C4−アルキル基、例えばカルボキシ
メチル基若しくは2−カルボキシエチル基、カルバモイ
ル−c、−〇4−アルキル基、例えばカルバモイルメチ
ル基若しくは2−カルバモイルエチル基、N−モノ−C
I −CF  !しくはN、N−ジ−C,−C4−アル
キルカルバモイル−C,−C4−アルキル基、例えばN
−エチル−1N−(2,2−ジメチルプロピル)−若し
くはN、N−ジイソプロピルカルバモイルメチル基、N
−(ω−ジ−CI −C4−アルキルアミノ−C2C4
−アルキル)カルバモイル−01−c4−アルキル基、
例えばN−(2−ジイソプロピルアミノエチル)カルバ
モイルメチル基、N−(ω−ヒドロキシ−C2−c4−
アルキル)カルバモイル−C,−C,−アルキル基、例
エバN−(2−ヒドロキシエチル)カルバモイルメチル
基、N〜(ω−ジ−C+  C4−アルコキシ−C2−
C,−アルキル)カルバモイル−CI −C4−アルキ
ル基、例えばN−(3−メトキシプロピル)カルバモイ
ルメチル基、5若しくは6員の又は5若しくは6員環か
ら構成されたN−シクロアルキル−1N−ビシクロアル
キル−若しくはN−1リシクロアルキル力ルバモイル−
CI  −04−アルキル基、例えばN−シクロへキシ
ル−1N−ビシクロ(2,2,2)オクチル−若しくは
アダマンチルカルバモイルメチル基、5若しくは6員の
、場合により炭素原子数5以下のCI −04−アルコ
キシカルボニル基、例えばメトキシ−若しくはエトキシ
カルボニル基で3位が置換され、オキソ基若しくはヒド
ロキシ基で4位が置換されたN、N−アルキレンアミノ
カルボニル−C,−C4−アルキル基、例えばピペラジ
ノカルボニルメチル基、3−メトキシカルボニル−4−
ヒドロキシ−ピペラジノカルボニルメチル基、3−エト
キシカルボニル−4−ヒドロキシ−ピペリジノカルボニ
ルメチル基、3−エトキシカルボニル−4−オキソ−ピ
ペリジノカルボニルメチル若しくは3−メトキシカルボ
ニル−4−オキソ−ピペリジノカルボニルメチル基、5
若しくは6員の、場合によりCI  C4−アルコキシ
カルボニル基、例えばメトキシ−若しくはエトキシカル
ボニル基で3位が置換され、場合により付加的にヒドロ
キシ基で4位が置換されたアルケニレンアミノカルボニ
ル−CI  C4−アルキル基、例えばN−(3−メト
キシカルボニル−1.2,5.6−チトラヒドロビリジ
ノ)−若しくはN− (4−ヒドロキシ−3−エトキシ
カルボニル−1.2。
5、6−チトラヒドロビリジノ)カルボニルメチル基、
5若しくは6員の、場合によりCI   Ca−アルキ
ル基若しくはCI  Ca−アルカノイル基でNo−位
が置換されたN, N− (アザ)アルキレンアミノカ
ルボニル−CI−Ca−アルキル基、例えば(N’−メ
チル)ピペラジノ−若しくは(N’−アセチル)ピペラ
ジノカルボニルメチル基、5若しくは6員のN,N− 
(オキサ)アルキレンアミノカルボニル−CI−C4−
アルキル基、例えばモルホリノカルボニルメチル基、又
はフェニル部分が場合によりC.−C.−アルコキシ基
、例えばメトキシ基で七ノー若しくはジ置換されたN−
フェニル−c,−C.−アルキルカルバモイル−C,−
C,−アルキル基、例えばN−(2−フェニルエチル)
カルバモイルメチル基若しくはN− (2− (3.4
−ジメトキシフェニル)エチル〕カルバモイルメチル基
を表し、R3、R4、RS及びR6が水素を表し、R.
、R.、R9及びR10がそれぞれ水素を表すか、又は
特にR7がR8と一緒に及びR9がR10と一緒にそれ
ぞれ1個の付加的結合を表す一般式(I)の化合物、特
に、R,及びR2が同一であり、R3、R4、R5及び
R6が水素を表す化合物及びその塩、特に薬学的に許容
しうる塩に関する。
本発明は、殊に、R,及びR2が同一のカルボキシ−C
,−C.−アルキル基若しくはカルバモイル−C,−C
,−アルキル基、例えばカルボキシメチル基若しくはカ
ルバモイルメチル基、又はωーN,Nージ−Cl  −
C4−アルキルアミノ−C.−C.−アルキル基、例え
ば2−ジイソプロピルアミノエチル基若しくはカルバモ
イルメチル基でN−七ノー置換されたカルバモイルメチ
ル基、ω−ヒドロキシ−C2−C4−アルキル基、例え
ば2−ヒドロキシエチル基でN−モノ−若しくは′N,
Nージ置換されたカルバモイルメチル基又は4〜6員の
(3−ci−C4−アルキル−3−アザ)アルキレン基
<CI−C4−アルキル基は例えばメチル基を表す)で
N,N−ジ置換されたカルバモイルメチル基を表し、R
 3 、R 4 、R 5及びR6が水素を表し、R7
がR8と一緒に、及びR9がR10と一緒にそれぞれ1
個の付加的結合を表す一般式(r)の化合物及びその塩
、特に薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は、殊に、R1及びR2が同一のカルボキシ−C
.−C4−アルキル基又はカルバモイル−C,−C4−
アルキル基、例えばカルボキシメチル基又はカルバモイ
ルメチル基を表し、R3、R4、R.及びR6が水素を
表し、R7がR8と一緒に、及びR9がR10と一緒に
それぞれ1個の付加的結合を表す一般式(I)の化合物
及びその塩、特に薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は、好ましくは薬学的に許容しうるアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニア若しくは薬学的
に許容しうる低級アルキル基及び/又はヒドロキシ低級
アルキル基を有する脂肪族アミンとのアンモニウム塩、
好ましくはナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩
、ジエチルアンモニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)アンモニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)
アンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)メチル−
アンモニウム塩又はN、N−ジメチル−N−(2−ヒド
ロキシエチル)アンモニウム塩の形の一般式(1)の化
合物に関する。
本発明は、殊に実施例に挙げた一般式(1)の化合物及
びその薬学的に許容しうる塩に関する。
本発明は、更に、一般式(I)の化合物及びその塩を製
造する、それ自体公知の方法に基づく方法に関する。本
発明方法は、 a)一般式(■): 〔式中Xは場合により、エステル化又はエーテル化され
たヒドロキシ基を表す〕の化合物又はその塩を閉環させ
るか、又は b)一般式(■): 〔式中R’+ は基R1に変化しうる基を表し、R’2
は基R2又はこの基に変化しうる基を表す〕の化合物又
はその塩において、R’+を基R1に変え、かつ場合に
よりR2に変化しうる基R’2を基R2に変えるか、又
は C)一般式(■); 〔式中R″1は水素を表し、R′″2は水素又は基R2
を表す〕の化合物又はその塩において、水素原子R゛′
1を基R1で置換し、及び場合により水素原子R″2を
基R2で置換するか、又はd)一般式(■): 曙 。ン の化合物又はその互変異性体及び/又はその塩を一般式
(■): ン の化合物又はその互変異性体と縮合させ、必要に応じ、
得られた化合物を一般式(1)の他の化合物に変え、得
られた異性体混合物を異性体に分離し、及び/又は得ら
れた遊離化合物を塩に変えるか、又は得られた塩を遊離
化合物若しくは他の塩に変えることを特徴とする。
前記方法による反応の実施及び新規出発原料又は中間体
の製造は、公知の出発原料又は中間体の反応方法及び形
成方法と同様にして行う。以下の記載で、特に断らない
場合には、その都度常用の助剤、例えば触媒、縮合剤及
び加溶媒分解剤及び/又は溶剤又は希釈剤並びに反応条
件、例えば温度条件及び圧力条件並びに場合により保護
ガスを使用する。
IL!lによる閉環のための一般式(II)の出全原料
において、エステル化ヒドロキシ基又は、例えば、ハロ
ゲン水素酸、例えば塩化水素酸又は低級アルカン酸でエ
ステル化されたものであり、ニーチル化ヒドロキシ基は
、例えば低級アルカノール又は場合により、例えば低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はニ
トロ基で置換されたフェノールでエーテル化されたもの
である。従って、Xは、例えばヒドロキシ基、ハロゲ/
、例えば塩素、低級アルカノイルオキシ基、例えばアセ
トキシ基、低級アルコキシ基、例えばメトキシ基若しく
はエトキシ基、フェノキン基又はp−ニトロフェノキシ
基を表す。
一般式(11)の化合物の塩は、例えばアルカリ金属塩
、例えばナトリウム塩若しくはカリウム塩、又はその分
子内塩である。
分子内縮合は、Xがヒドロキシ基を表す一般式(II)
の化合物から出発して常法で、例えば脱水する、卯ち、
例えば水結合剤、例えば五酸化燐又は有機カルボジイミ
ド、例えばジシクロへキシルカルボジイミドを用いて、
生成する反応水を除去するか、又はXがエステル化され
たヒドロキシ基を表す一般式(n)の化合物から出発し
て、例えば塩基、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類
金属金属の水酸化物又は炭酸塩、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム又は炭酸カリウム、又は第三級有機
アミン、例えばトリ低級アルキルアミン、例えばトリエ
チルアミン、若しくはピリジンの存在で蒸溜、特に共沸
蒸溜するか、又はXがエーテル化されたヒドロキシ基を
表す一般式(n)の化合物から出発して、場合により生
成するアルコールを除去しながら、例えば蒸溜又は共沸
蒸溜によって行う。
一般式(II)の出発原料をその場で製造し、例えば、
一般式(■): の化合物を塩基、特に金属塩基、例えばアルカリ金属水
素化物、アミド又はアルコキシド、例えば水素化ナトリ
ウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド又はナトリウム低級アルコキシド若しくはカリウム低
級アルコキシド、殊にナトリウムメトキシドの存在で、
一般式(■):CR3−C(= O)  X+    
   (■)〔式中X1は特にエーテル化ヒドロキシ基
、例えば低級アルコキシ基を表す〕の化合物と縮合させ
ることによって、単離することなく閉環させるのが好ま
しい。
R9とR10が一緒に付加的結合を表す一般式(II)
の得られた化合物において、必要に応じて二重結合を例
えばパラジウム付き活性炭又は他の適当な水素添加触媒
の存在で水素を用いて単結合に飽和することができる。
一般式(■)の中間体自体は、例えば、一般式(IXb
): R2NHC(Rs )(R6)−C(=O)−CH2C
(=O)  X+       (IXb)〔式中X1
は特にエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ
基を表す〕の化合物を塩基、特に金属塩基、例えばアル
カリ金属水素化物、アミド又はアルコキシド、例えば水
素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソプ
ロピルアミド又はナトリウム低級アルコキシド若しくは
カリウム低級アルコキシド、殊にナトリウムメトキシド
の存在で、一般式(Xa): R+  NHC(R3)(R4)  C(=O)  X
(Xa) C式中Xは場合によりエステル化又はエーテル化された
ヒドロキシ基、特に塩素、低級アルコキシ基又は場合に
より置換されたフェノキシ基、例えばp−ニトロフェノ
キシ基を表す〕の化合物と反応させ、R7とR8が一緒
に付加的結合を表す一般式(■)の反応生成物において
、必要に応じて二重結合を例えばパラジウム付き活性炭
又は他の適当な水素添加触媒の存在で水素を用いて単結
合に飽和することによって製造することができる。
更に、一般式(■)の化合物は、一般式:〔式中R’3
及びR’ 4は水素とは異なるものを表し、X゛はエト
キシカルボニル基を表す〕の化合物又は、一般式(Xl
a)又は(Xlb)の化合物の互変異性体、例えばそれ
ぞれΔ34−エノールを塩基、特に金属塩基、例えばア
ルカリ金属水素化物、アミド又はアルコキシド、例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド又はナトリウム低級アルコキシド若しく
はカリウム低級アルコキシド、殊にナトリウムメトキシ
ドの存在で、一般式(Xb): R2NH−C(Rs )  (Re )  C(=O)
 −X(Xb) の化合物と反応させ、一般式(XIa)又は(XI b
 )の化合物から出発して得られた、RりとR8が一緒
に付加的結合を表す一般式(■)の化合物において、必
要に応じて二重結合を例えばパラジウム付き活性炭又は
他の適当な水素添加触媒の存在で水素を用いて単結合に
飽和することによって製造することができる。
方m−により基R1及び/又はR2に変化しうる基R’
 +又はR’2は、例えば、場合により置換されたカル
バモイル低級アルキル基R1又はR2とは異なる、官能
基で変形されたカルボキシ低級アルキル基、例えばエス
テル化若しくは無水物化されたカルボキシ低級アルキル
基、更にシアノ低級アルキル基である。エステル化カル
ボキシ低級アルキル基は、例えば脂肪族又は芳香族エス
テル化カルボキシ低級アルキル基、例えば低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基又は、例えば低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はニトロ基で
置換されたフェノキシカルボニル低級アルキル基、例え
ばフェノキシ−1p−ニトロフェノキシ−若しくは2,
4−ジニトロフェノキシカルボニル低級アルキル基であ
る。無水物化されたカルボキシ低級アルキル基は、例え
ばハロゲン−1特にクロロカルボニル低級アルキル基で
ある。基R゛1及びR’2の両方が同一の基R1及びR
2に変化しうる同一の基であるか、又は基R’2がR2
を表し、R’ +が基R1に変化しうる基を表すのが好
ましい。
官能基で変形されたカルボキシ低級ア゛ルキル基R°、
及び/又はR’2をカルボキシ低級アルキル基R1及び
/又はR2に変える反応は、例えば加水分解分解によっ
て行われ、エステル化又は無水物化されたカルボキシ低
級アルキル基を場合により置換されたカルバモイル低級
アルキル基R1又はR2に変える反応は、例えばアンモ
ニア又は対応するアミン、例えばモノ−若しくはジ低級
アルキルアミン、モノ−若しくはジ−(ヒドロキシ低級
アルキル)アミン、それぞれ4〜8員の、場合により低
級アルコキシカルボニル基及びオキソ基又はヒドロキシ
基で置換されたN−(アルキレンアミノ低級アルキル)
アミン又は場合により低級アルコキシカルボニル基及び
場合により更にヒドロキシ基で置換されたN−(アルケ
ニレンアミノ低級アルキル)アミン、場合により低級ア
ルキル基でC−及び/又はNo−置換されたか又は低級
アルカノイル基でN“−置換されたN−〔(アザ)−ア
ルキレンアミノ低級アルキル〕アミン、又はN−((オ
キサ−若しくはチア)−アルキレンアミノ低級アルキル
〕アミン、それぞれ3〜8員のモノ−若しくはジ−(シ
クロアルキルアミノ低級アルキル)アミン、(ビシクロ
アルキルアミノ低級アルキル)アミン、(トリシクロア
ルキルアミノ低級アルキル)アミン、場合によりフェニ
ル部分が低級アルコキシカルボニル基及びヒドロキシ基
又はオキソ基で置換されたアルキレンアミン、場合によ
り低級アルコキシカルボニル基及び場合により更にヒド
ロキシ基で置換されたアルケニレンアミン、場合により
低級アルキル基及び/又は(Inアルカノイル基で置換
されたアザアルキレンアミン又はオキサ−若しくはチア
アルキレンアミンと反応させることによって行われる。
加水分解は常法で、例えば酸性又はアルカリ性試薬の存
在で行う。エーテル化又は無水物化されたカルボキシ低
級アルキル基とアンモニアとの反応は、必要に応じて最
初に形成されるアンモニウム塩を例えば加熱、水結合剤
、例えば五酸化燐若しくは有機カルボジイミド、例えば
ジシクロへキシルカルボジイミド、又は酸結合剤、例え
ば第三級有機窒素塩基、例えばピリジン若しくはトリ低
級アルキルアミン、例えばトリエチルアミンで処理する
ことによって脱水するか、又は生成するアルコールを蒸
溜又は共沸蒸溜によって除去しながら行う。
R゛1及び/又はR’2がエステル化カルボキシ低級ア
ルキル基を表す一般式(I[)の化合物から出発して、
必要に応じて、生成するアルコールを蒸溜又は共沸蒸溜
により反応系から除去する。R’ +及び/又はR’2
が無水物化されたカルボキシ低級アルキル基を表す一般
式(I[)の化合物から出発して、塩基、例えばアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、例
えば水酸化すl−IJウム、水酸化カリウム又は炭酸カ
リウム、第三級有機アミン、例えばトリ低級アルキルア
ミン、例えばトリエチルアミン、又はピリジンの存在で
操作するのが好ましい。シアノ低級アルキル基R’ +
及び/又はR’2をカルボキシ低級アルキル基又はカル
バモイル低級アルキル基に加水分解するか又は酸性試薬
と反応させ、次いで第−級若しくは第二級の前記アハン
と反応させて、まずアミジノ基に変え、これを次に加水
分解して、対応するN−モノ−若しくはN、N−ジ置換
カルバモイル低級アルキル基にすることができる。
加水分解は、両方の場合に酸性試薬の存在で、最初に挙
げた方法の場合には塩基性試薬の存在で過酸化水素の存
在で実施することができる。適当な酸性試薬は、例えば
鉱酸、例えばハロゲン水素酸、例えば塩化水素酸若しく
は臭化水素酸、又は硫黄若しくは燐の酸素酸、例えば硫
酸、燐酸若しくはポリ燐酸である。塩基性試薬は、例え
ばアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又は炭
酸塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム又は炭酸カリウムである。
一般式(I[I)の出発原料は、例えば、一般式(IX
c): R’2  NHC(R5)  (R6)  C(=O)
−CH2C(=O)  XI       (IXC)
〔式中X、はエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アル
コキシ基を表す〕の化合物を塩基、特に金属塩基、例え
ばアルカリ金属水素化物、アミド又はアルコキシド、例
えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジ
イソプロピルアミド又はナトリウム低級アルコキシド若
しくはカリウム低級アルコキシド、殊にナトリウムメト
キシドの存在で、一般式(Xb): R’1−NH−C(R3)  (R4)   C(=O
)   X(Xb) 〔式中Xは場合によりエステル化又はエーテル化された
ヒドロキシ基、特に塩素、低級アルコキシ基−又は場合
により置換されたフェノキシ基、例えばp−ニトロフェ
ノキシ基を表す〕の化合物と反応させ、一般式(■a)
: 〔式中R7及びR8は一緒に付加的結合を表す〕の反応
生成物において、必要に応じて二重結合を例えばパラジ
ウム付き活性炭又は他の適当な水素添加触媒の存在で水
素を用いて単結合に飽和し、一般式(■a)の化合物を
塩基、特に金属塩基、例えばアルカリ金属水素化物、ア
ミド又はアルコキシド、例えば水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド又はナト
リラム低級アルコキシド若しくはカリウム低級アルコキ
シド、殊にナトリウムメトキシドの存在で、一般式(■
): CH3C(=O)  Xt       (■)〔式中
X、は特にエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコ
キシ基を表す〕の化合物と縮合させ、一般式(I[a)
: 〔式中R9及びR10は一緒に付加的結合を表す〕の反
応生成物を常法で、例えば方法a)に記載したようにし
て閉環させ、必要に応じて予め又はその後にR9及びR
10によって一緒に表される二重結合を、例えばパラジ
ウム付き活性炭又は他の適当な水素添加触媒の存在で水
素を用いて、単結合に水素添加することによって製造す
ることができる。
R11及びR’2が同一であり、例えば低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基、特にメトキシカルボニル低
級アルキル基を表し、R3、R,、R5及びR6が水素
を表す一般式(III)の化合物を製造する特に好適な
方法は、一般式(XII)  :OH 〔式中GOORは低級アルコキシカルボニル基、特にメ
トキシカルボニル基を表す〕の化合物又はその互変異性
体、例えば対応するΔ34−エノールを含水アセトニト
リル中で約50〜82℃に加熱し、その際ROOC−基
を脱離しながら、一般式(I[’): OHu の対応する化合物に二量体化することにあり、本発明方
法の特に好ましい実施態様では、この化合物をアンモニ
ア又は適当なアミンと反応させて一般式(1’): の対応する化合物の対応するアンモニウム塩にアミツリ
シスすることができ、これを次に酸で処理することによ
って一般式(I′)の遊離化合物を遊離させることがで
きる。
kによる基R1及び/又はR2による水素の置換は、例
えば一般式(XIIIa):R+  X       
   (XDIa>及び/又は(XI[Ib): R2−X           (XI[Ib)〔式中
Xはそれぞれ反応性エステル化ヒドロキシ基、例えばハ
ロゲン水素酸又はスルホン酸でエステル化されたヒドロ
キシ基、例えば塩素、臭素若しくは沃素又はアルカン−
若しくは場合により置換されたベンゼンスルホニルオキ
シ基、例えばメタン−、エタン−、ベンゼン−5p−)
ルエンー若L<はp−ブロモベンゼンスルホニルオキシ
基を表す〕の化合物との反応によって行う。この場合に
も、Rパ1及びR2の両方が水素を表すか、又はR″2
が基R2を表し、R″1が水素を表すのが好ましい。
反応は、常法で、好ましくは塩基性縮合剤、例えば金属
塩基又は第四級アンモニウム塩基又は第三級アミン、例
えばアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物
、炭酸塩、アルコキシド、アミド或いは水素化物、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
ナトリウムメトキシド、カリウムter t−ブトキシ
ド、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド
若しくは水素化ナトリウム、第四級アンモニウムヒドロ
キシド、例えばテトラブチルアンモニウムヒドロキシド
若しくはベンジルートリメチルアンモニウムヒドロキシ
ド又はトリ低級アルキルアミン若しくは第三級へテロ芳
香族塩基、例えばトリエチルアミン若しくはピリジンの
存在で行う。
一般式(IV)の出発原料は、例えば、一般式(IXd
): R”2  NHC(R5)(Rs)  C(=O)−C
H2C(=O)  X+       (IXd)c式
中X1はエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコキ
シ基を表す〕の化合物を塩基、特に金属塩基、例えばア
ルカリ金属水素化物、アミド又はアルコキシド、例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド又はナトリウム低級アルコキシド若しく
はカリウム、 低級アルコキシド、殊にナトリウムメト
キシドの存在で、一般式(XC): R”+  NHC(R3)  (R4) −〇 (=O
)−X                (Xb)〔式
中Xは場合によりエステル化又はエーテル化されたヒド
ロキシ基、特に塩素、低級アルコキシ基又は場合により
置換されたフェノキシ基、例えばp−ニトロフェノキシ
基を表す〕の化合物と反応させ、一般式(■b): 〔式中R7及びR8は一緒に付加的結合を表す〕の反応
生成物において、必要に応じて二重結合を例えばパラジ
ウム付き活性炭又は他の適当な水素添加触媒の存在で水
素を用いて単結合に飽和し、一般式(■b)の化合物を
塩基、特に金属塩基、例えばアルカリ金属水素化物、ア
ミド又はアルコキシド、例えば水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド又はナト
リウム低級アルコキシド若しくはカリウム低級アルコキ
シド、殊にナトリウムメトキシドの存在で、一般式(■
): CH3−C(=O)  Xt       (■)〔式
中X1は特にエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アル
コキシ基を表す〕の化合物と縮合させ、一般式(IIb
): 〔式中R9及びR10は一緒に付加的結合を表す〕の反
応生成物を常法で、例えば方法a)に記載したようにし
て閉環させ、必要に応じて予め又はその後にR9及びR
10によって一緒に表される二重結合を単結合に水素添
加することによって製造することができる。
R”l 、R”2 、R3、R4、R5及びR6が水素
を表す一般式(IV)の化合物は、更に、場合によりp
−位が低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン
で置換されたベンゾイルアジドを高圧水銀蒸気ランプで
照射しながらジケテンと反応させ、一般式(XIV) 
 : H 〔式中Bzは場合によりp−位が低級アルキル基、低級
アルコキシ基又はハロゲンで置換されたベンゾイル基を
表す〕の反応生成物を塩基、特にアルカリ金属又はアル
カリ土類金属の水酸化物で処理することによって製造す
ることができる。
R″監及びR′°2が水素を表し、R5及びR6がR3
及びR4と同じものを表す一般式(V)の化合物は、更
に、一般式(XV): X+  C(=O)  C(R3)  (R4) −N
H−C(=O)  CH2C(=O)  Xi   (
XV)〔式中X、はエーテル化ヒドロキシ基、例えば低
級アルコキシ基を表す〕の化合物を金属塩基、例えばナ
トリウムメトキシド若しくはエトキシドと反応させ、得
られた一般式(XVI)  :の化合物を塩基、例えば
アルカリ金属水酸化物、例えば水中の水酸化ナトリウム
で処理することによって製造することができる。
五法工[による一般式(V)及び(VI)の化合物の縮
合は、一般に自然に行われるが、加熱及び塩基、例えば
アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若しくは水酸化
バリウム、又は酸、例えばハロゲン水素酸、例えば塩化
水素酸、硫黄若しくは燐の酸素酸、例えば硫酸若しくは
有機カルボン酸、例えば酢酸の存在によって促進される
特にR1及びR2が同一であり、R5及びR6がR3及
びR4と同じものを表す一般式(I)の化合物を製造す
るため適当な、方法d)の実施態様では、出発原料を例
えばその場で製造し、単離することなく自動縮合に付す
ことができる。この場合、一般式(X■): 〔式中X“は脱離可能な基、例えばアシル基、特に有機
カルボン酸又は炭酸半エステルから誘導されたアシル基
、例えば低級アルカノイル基、例えばアセチル基、又は
場合により例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基及
び/又はハロゲンで置換されたベンゾイル基又は低級ア
ルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル基を
表す〕の化合物から出発し、加熱及び/又は酸の作用に
よリアシル基X°を脱離させ、その際中間に生成する一
般式(VI)の化合物を所望の方法で自動縮合させて一
般式(1”)? の対応する化合物にするのが好ましい。
X”が炭酸半エステルから誘導されたアシル基を表す一
般式(X■)の中間体は、例えば、一般式(XVIa)
 : H2N  C(R3)(R4)  C(=O)  XI
及び一般式(XIXa): 1−Y c式中Xはエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコ
キシ基を表し、Yはハロゲン、特に塩素又は臭素を表す
〕の化合物の反応によって得られた一般式(Xa): R+ NHC(R3)(R4)  C(=O)−XI(
Xa) の化合物を一般式(XX): X2  C(=O)  CH2−X ’     (X
X)〔式中X2は場合によりエステル化されたヒドロキ
シ基、特にヒドロキシ基又は塩素を表す〕の化合物と反
応させ、一般式(XXI): X ” −CH2C(=O)  N (R+ )−C(
R3)(R4)  C(=O)  X  (XXI)の
縮合生成物を閉環させることによって製造される。一般
式(XVIa)の化合物と一般式(XIXa)の化合物
及び一般式(Xa)の化合物と一般式(XX;X=塩素
)の化合物の反応は、例えば塩基、例えば水酸化ナトリ
ウム又はトリ低級アルキルアミン、例えばトリエチルア
ミンの存在で行われ、一般式(Xa)の化合物と一般式
(XXiX=ヒドロキシ基)の化合物の反応は、例えば
水結合剤、例えばN、N”−ジアルキル−若しくはN、
N’−ジシクロアルキルルボジイミド、例えばN、N’
−ジイソプロピル−若しくはN、N’−ジシクロへキシ
ルカルボジイミドの存在で行われる。
しかし、例えば前記の反応サイクルと同様な、一般式(
X Vl a )の化合物とR’s  Y (XX I
 ;Y=ハロゲン)を反応させて一般式(XXn):R
’+  NHC(R3)(R4)  C(=O)  X
I(XXn) の化合物にする反応、この化合物と一般式(XX)の化
合物との縮合及び縮合生成物の閉環によって良好に得ら
れる、一般式(Xll): 〔式中C0ORは低級アルコキシカルボニル基、例えば
メトキシカルボニル基を表し、R’ 、は低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基、例えばメトキシカルボニ
ル低級アルキル基を表す〕の化合物において、基R’ 
+を常法で、例えば方法C)に記載したのと同様にして
、特にアンモニア又は対応するアミンで処理することに
よって基R1に変えることもできる。
X゛がアセチル基を表す一般式(X■)の化合物は、例
えば、対応する一般式(Xa)の化合物を塩基、例えば
エタノール中のナトリウムエトキシドの存在でジケテン
と反応させることによって好適に得ることができる。
方法d)の他の好ましい実施態様では、R1とR2、R
3とR5及び/又はR4とR6が異なる一般式(1)の
化合物を製造することもでき、一般式(XXII[a)
: R1 及び一般式(XXI[[b): 〔式中R0はヒドロキシ基に変化しうる同−又は異なる
基を表す〕の化合物のほぼ等モルの混合物から一般式(
V)及び(Vl)の対応する中間体を遊離させ、これら
をその生成条件下に相互に縮合させる。R7とR2、R
3とR5及び/又はR4とRGが異なる場合、一般式(
1)の非対称化合物(Ra ≠R2、R3≠R5及び/
又はR4≠Re)の他に一般式(1)の対称化合物、例
えば一般式(Ia)又は(Ib): 又は の化合物も得られ、望ましくない場合には、これを反応
混合物から分離しなければならない。
一般式(V)及び(VI)の反応成分の遊離、即ち、R
oをヒドロキシ基に変える反応は、常法で、例えば酸処
理によって行う。一般式(XXI[[a)又は(XXI
[b)の化合物は、例えば、一般式%式%): 又は一般式(XXIVb): Rs  CH(Re )−C(=O)  CH2−C(
=O)  Xt          (XXIVb)〔
式中X1はエーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコ
キシ基を表す〕の化合物を一般式(XXV): Ro  H(XXV) のアルコールの反応性エステル、例えばハロゲン水素酸
エステルとアルカリ金属水素化物の存在で反応させるこ
とによって一般式(XXvTa):Ra  CH(Ra
 )  C(Ro ) =CH−C(=O)−X   
        (XXVIa)又は一般式(XXVI
b): R5CH(RG)   C(Ro)=CH−C(=O)
−X’             (XXVIb)のエ
ノールエーテルに変え、これを、例えばN−ブロモスク
シンイミドを用いてハロゲン化し、一般式(XXVI[
a): 又は 一般式(XX■b): 〔式中Halはハロゲン、例えば臭素を表す〕の反応生
成物を一般式(XXVIa): H2N  Rt           (XXVIa)
又は一般式(XXVIb): H2N  R2(XXM[b) の対応するアミノ化合物と反応させることによって製造
される。
本発明により得られる化合物の二最式」上り例の 八 
への・  ・、としては、特に、基RI及びR2のとこ
ろでの導入、変換及び脱離反応並びにR7とR8及び/
又はR9とR10によって一緒に表される二重結合の飽
和が挙げられる。
例えば、本発明方法により得られる、R7がR,と−緒
に及び/又はR9がR10と一緒に11固又は場合によ
り2個の付加的結合を表す一般式(I)の化合物におい
て、例えば水素添加触媒、例えばパラジウム付き活性炭
の存在で水素を用いて、二重結合を単結合に飽和するこ
とができる。
更に、非置換カルバモイル低級アルキル基R1及び/又
はR2を低級アルカノール、低級アルカンジオール、N
−モノ−若しくはN、N−ジ低級アルキルアミノアルカ
ノール、N、N−アルキレンアミノ−若しくはN、N−
(アザ−、オキサ−若しくはチア)アルキレンアミノ低
級アルカノール、シクロアルカノール、又は場合により
置換されたフェニル低級アルカノールの反応性エステル
、例えばハロゲン水素酸エステル、例えば塩化水素酸エ
ステル、臭化水素酸エステル若しくは沃化水素酸エステ
ル、又はスルホン酸エステル、例えばp−t−ルエンス
ルホン酸エステルと反応させることによって、低級アル
キル基、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキ
ル基、N−モノ−若しくはN、N−ジ低級アルキルアミ
ノ低級アルキル基、4〜8員のN、N−アルキレンアミ
ノ−若しくはN、N−(アザ−、オキサ−若しくはチア
)アルキレンアミノ低級アルキル基、カルバモイル低級
アルキル基、N−モノ−若しくはN、N−ジ低級アルキ
ルカルバモイル低級アルキル基、3〜8員のシクロアル
キル基、非置換又はフェニル部分が低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はトリフルオロメチ
ル基で置換されたフェニル低級アルキル基でN−モノ−
又はN、 N−ジ置換することができる。同様の方法で
、前記の基の一つでN−モノ置換されたカルバモイル低
級アルキル基でN、N−ジ置換されたか又は非置換のカ
ルバモイル低級アルキル基をアルカンジオール又は(ア
ザ−、オキサ−若しくはチア)アルカンジオールの反応
性ジエステルと反応させることによって、3〜7員アル
キレン基又はアザ−、オキサ−若しくはチア−アルキレ
ン基でN、N−ジ置換された対応するカルバモイル低級
アルキル基に変えることもできる。
更に、場合により置換されたカルバモイル低級アルキル
基R1及び/又はR2を常法で、例えば酸性又は塩基性
試薬の存在で、カルボキシ低級アルキル基に加水分解す
ることができる。適当な酸性試薬は、例えば鉱酸、例え
ばハロゲン水素酸、例えば塩化水素酸若しくは臭化水素
酸、又は硫黄若しくは燐の酸素酸、例えば硫酸、燐酸若
しくはホリ燐酸である。塩基性試薬は、例えばアルカリ
金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
又は炭酸カリウムである。
逆に、遊離カルボキシ低級アルキル基R1及び/又はR
2を、例えばアンモニア又は対応するアミン、即ち、モ
ノ−若しくはジ低級アルキルアミン、モノ−若しくはジ
−(ヒドロキシ低級アルキル)アミン、4〜8員のモノ
−若しくはジ−(N“、N“−アルキレンアミノ低級ア
ルキル)−1七ノー若しくはジ−(N’、N’−(アザ
−、オキサ−若しくはチア)−アルキレンアミノ低級ア
ルキレンアミン、3〜8員のモノ−若しくはジ−(シク
ロアルキルアミノ低級アルキル)アミン、場合によりフ
ェニル部分が低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ
ゲン及び/又はトリフルオロメチル基で置換されたモノ
−若しくはジ−(フェニル低級アルキル)アミン又は4
〜8員のアルキレンアミン又はアザ−、オキサ−若しく
はチアアルキレンアミンと、必要に応じて、最初に生成
するアンモニウム塩を、例えば加熱、水結合剤、例えば
五酸化燐又は有機カルボジイミド、例えばジシクロへキ
シルカルボジイミドでの処理によって脱水しながら、又
は生成する水を蒸溜若しくは共沸蒸溜によって除去しな
がら反応させることにより場合により置換されたカルバ
モイル低級アルキル基に変えることができる。
本発明により得られる   2A の  又は異性体混
合物からの所望成分の単離には、特に下記の点に注意す
る。
少なくとも1個の不整炭素原子を有する一般式(I)の
化合物は、その数に応じて立体異性体、例えば光学的対
掌体、ジアステレオマー又はエピマーを形成することが
でき、純粋な立体異性体又は立体異性体混合物の形で生
ずる。
ジアステレオマー混合物は、物理的性質の相違に基づい
て、常用の化学的及び物理化学的分離方法、例えば分別
結晶、蒸溜、クロマトグラフィー及び他の相分記法によ
り分離することができる。
光学的対掌体混合物は、通常のラセミ分割法、例えば光
学活性溶剤からの結晶、光学活性固定相若しくは移動相
でのクロマトグラフィー、又は光学活性カルボン酸若し
くはスルホン酸、例えばD−若しくはL−形の酒石酸、
ジ−o−)ルイル酒石酸、リンゴ酸、マンデル酸、キナ
酸若しくは樟脳スルホン酸を用いるジアステレオマー補
助化合物、例えばジアステレオマー酸付加塩の中間形成
、ジアステレオマーの分離及び一般式(1)の光学的対
掌体化合物の遊離により分離することができる。その都
度、有効な光学的対掌体を単離するのが好ましい。
゛  A  びその声の  ・ は、例えば、遊離化合
物を酸と反応させるか、又は塩を塩基若しくは他の酸の
塩と反応させる°ことによって行う。
本発明方法によって得られる化合物を塩に変え、これを
精製するか、又はジアステレオマーに分離し、塩から再
び遊離化合物を遊離させ、必要に応じて他の塩に変える
ことによって、新規化合物の塩をその精製のため、及び
前記のように光学的対掌体の分離のために使用すること
もできる。
得られる遊離化合物をそれ自体公知の方法で、例えば適
当な溶剤又は溶剤混合物中の遊離化合物の溶液を前記の
塩若しくはその溶液、又は適当なアニオン交換体と反応
させることによって、塩基との塩に変えることができる
得られた塩基との塩をそれ自体公知の方法で、例えば酸
、例えば鉱酸、例えは塩化水素酸又は硫酸で処理するこ
とによって遊離化合物に変えることができる。
一般式(I)の塩基性化合物の両性塩を、酸で処理して
酸付加塩に、また、塩基で処理して塩基性塩に変えるこ
とができる。同様に酸付加塩又は塩基との塩から塩基又
は酸で処理することにより両性塩基性化合物を遊離させ
ることができる。
その塩を含めて新規化合物を水和物の形で得るか、又は
結晶のために使用した溶剤を含めることもできる。
新規化合物の遊離の形のものとその塩の形のものとは、
密接な関係を有するので、以上及び以下の記載において
、遊離化合物又はその塩とは、意味及び目的に応じて、
場合により対応する塩又は遊離化合物をも意味するもの
とする。
本発明は更に、任意の段階で中間生成物として得られる
化合物を出発原料として使用し、残りの工程を実施する
か、又は反応条件下に出発原料を生成させるか、又はそ
の誘導体、場合により塩の形で使用する、前記方法の実
施態様に関する。
本発明方法において、始めに特に有用であると記載した
化合物を生ずる出発原料を使用するのが好ましい。新規
出発原料及びその製造方法は、同様に本発明の対象であ
る。
本発明は、一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容
しうる塩を含む医薬製剤に関する。この製剤は、有効成
分を単独で、又は医薬に許容しうる賦形剤と一緒に含み
、温血動物に腸管内、例えば経口若しくは直腸内投与、
又は腸管外投与する製剤である。有効成分の投与量は、
温血動物の種、年齢及び個体の状態、並びに投与方法に
左右される。
通常、体重約75kgの温血動物に対して経口投与で、
1日当たりのおよその投与量は約10〜100■である
が、これを数回の同量の投与量に分割するのが好ましい
新規医薬製剤は、例えば有効成分を約10%〜約80%
、好ましくは約20%〜約60%含む。
本発明により、腸管内又は腸管外投与用の医薬製剤は、
例えば投与単位形製剤、例えば糖衣錠、錠剤、カプセル
剤又は坐剤、更にアンプル剤である。
これらはそれ自体公知の方法で、例えば常用の混合、造
粒、打錠、糖衣掛け、溶解及び凍結乾燥法によって製造
される。有効成分を固体賦形剤と混合し、得られた混合
物を場合により造粒し、混合物又は顆粒を必要に応じて
、適当な助剤を添加した後、錠剤又は糖衣錠核に加工す
ることによって経口投与用の医薬製剤を得ることもでき
る。
適当な賦形剤は、特に充填剤、例えば糖類、例えば乳糖
、蔗糖、マンニット若しくはソルビット、セルロース製
剤及び/又は燐酸カルシウム、例えば燐酸三カルシウム
若しくは燐酸水素カルシウム、更に、結合剤、例えばト
ウモロコシ澱粉、小麦澱粉、米澱粉若しくはバレイショ
澱粉を使用した澱粉糊、ゼラチン、トラガント、メチル
セルロース及び/又はポリビニルピロリドン、及び/又
は必要に応じて崩壊剤、例えば前記の澱粉、更にカルボ
キシメチル澱粉、架橋ポリビニルピロリドン、寒天、ア
ルギン酸若しくはその塩、例えばアルギン酸ナトリウム
である。助剤は、特に流動性調節剤及び滑沢剤、例えば
珪酸、タルク、ステアリン、酸若しくはその塩、例えば
ステアリン酸マグネシウム又はステアリン酸カルシウム
、及び/又はポリエチレングリコールである。糖衣錠コ
アに適当な、場合により耐胃液性皮膜を施すことができ
、その際殊に、場合によりアラビアゴム、タルク、ポリ
ビニルピロリドン、ポリエチレングリコール及び/又は
二酸化チタンを含む濃厚糖溶液、又は適当な有機溶剤又
は溶剤混合物に熔かしたラッカー溶液、又は耐胃液性皮
膜を製造するために、適当なセルロース製剤、例えばア
セチルセルロースフタレート若しくはヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースフタレートの溶液を使用する。例え
ば活性物質の異なる投与量を示すため、錠剤または糖衣
錠の皮膜に色素又は顔料を添加することができる。
他の経口投与に使用しうる医薬製剤は硬質ゼラチンカプ
セル及びゼラチン及び軟化剤、例えばグリセリン若しく
はソルビットから成る軟質閉鎖カプセルである。硬質カ
プセルは有効成分を顆粒の形で、例えば充填剤、例えば
乳糖、結合剤、例えば澱粉、及び/又は湯沢剤、例えば
タルク若しくはステアリン酸マグネシウム及び場合によ
り安定剤を含むことができる。軟質カプセルにおいては
有効成分を適当な液体、例えば脂肪油、パラフィン油又
は液体ポリエチレングリコールに溶解又は懸濁しておく
のが好ましく、その際同様に安定剤を添加してもよい。
直腸内に投与しうる医薬製剤としては、例えば、有効成
分を坐剤基剤と組み合わせて含む坐剤が該当する。坐剤
基剤としては、例えば天然又は合成のトリグリセリド、
パラフィン系炭化水素、ポリエチレングリコール又は高
級アルカノールが適当である。更に、有効成分と基剤と
の混合物を含むゼラチン−直腸カプセルを使用すること
もできる。
基剤としては、例えば液体トリグリセリン、ポリエチレ
ングリコール又はパラフィン系炭化水素が該当する。
腸管外投与には、特に水溶性有効成分、例えば水溶性塩
の水溶液、更に有効成分の懸濁液、例えば相応する油性
注射用懸濁液(適当な親油性溶剤又はビヒクル、例えば
脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エステル、例え
ばオレイン酸エチル若しくはトリグリセリドを使用する
)又は水性注射用懸濁液(粘度上昇性物質、例えばすl
−IJウムカルボキシメチルセルロース、ソルビット及
び/又はデキストラン及び場合により安定剤を含む)が
適当である。
同様に、本発明は、一般式(I)の化合物及び塩形成作
用を有する該化合物の塩の、好ましくは脳機能不全の治
療のための用途に関する。・下記の実施例は、前記の本
発明を説明するものであるが、決してその範囲に国定す
べきものではない。温度は摂氏で、圧力はmbarで示
す。
実施例1 1.1’、5.5”−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
]−1.1’−ジ酢酸ジメチルエステル9.7g(0,
03モル)ヲ濃アンモニア水溶?&100m1に溶かし
、室温で12時間攪拌する。
次いで、赤褐色残渣を水200m1に取り、強い酸性反
応を呈するまで、塩化水素酸の濃水溶液を加える。沈澱
した無色の沈澱を戸別し、水及びアセトンで洗浄し、高
度真空中で50℃で乾燥する。
1.1“、5,5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2“−ジオキソ−〔3,4“−ビー2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジアミドが融点298〜300℃
(分解)の微細な白色結晶の形で得られる。
出発原料として使用した1、1°、5.5’−テトラヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−2,2“−ジオキソ−(3,4
′−ビ−2H−ピロール〕−1゜1′−ジ酢酸ジメチル
エステルは、例えば下記のようにして製造することがで
きる: a)イミノジ酢酸ジメチルエステル塩酸塩197.6g
 (1モル)をクロロホルム10100O中に懸濁し、
Q ’Cに冷却する。この温度でまず10分以内にトリ
エチルアミン222.6 g (2,2モル)、次に9
0分以内にクロロホルム120m1中のマロン酸モノメ
チルエステルクロリド150.2g(1,1モル)の溶
液を滴加する。次いで、反応混合物を室温で4時間攪拌
し、次に水500m1を加える。
有機相を分離し、それぞれ500m1の2N塩酸、水、
飽和重炭酸ナトリウム溶液及び再び水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、−過し、真空中で蒸発乾個
する。攪拌しながらヘキサン400m1を添加すること
により油性残渣を結晶させる。−過し、少量のヘキサン
で洗浄し、真空中で乾燥した後、N−(2−メトキシカ
ルボニル−アセチル)−イミノジ酢酸ジメチルエステル
の融点61〜62℃の無色の結晶が得られる。
b)メタノール900m1中のナトリウム17.1 g
(0,75モル)の溶液にメタノール200m1に溶か
したN−(2−メトキシカルボニルアセチル)−イミノ
ジ酢酸ジメチルエステル196.5g(0,75モル)
を滴加する。次いで、反応混合物を12時間加熱還流し
、室温に冷却し、水流ポンプの真空中で蒸発乾個する。
帯黄色残渣を水500m1に熔かし、珪藻土の層により
一過し、1:1の含水塩化水素酸160m1を加える。
更に1時間攪拌した後、生じた結晶を戸別し、アセトン
で洗浄し、乾燥する。融点192℃(分解)の2゜5−
ジヒドロ−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニル−
2−オキソ−IH−ピロール−1−酢酸メチルエステル
が得られる。
C)前記のピロール誘導体75.5 g (0,165
モル)を水75m1及びアセトニトリル750m1中に
懸濁する。攪拌下に65〜70℃に加熱すると、二酸化
炭素の脱離が開始し、形成した澄明な溶液を30分後に
水流ポンプの真空中で蒸発により濃縮する。油性残渣を
水500m1に取り、90〜95℃に加熱する。沈澱し
た生成物を戸別し、水で洗浄し、高度真空中で乾燥する
。1,1°。
5.5′−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2゜21−
ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1
“−ジ酢酸ジメチルエステルが融点228℃(分解)の
無色の結晶の形で得られる。
実施例2 1.1’、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジメチルエーステルロ、5g(0
,02モル)を2−フェニルエチルアミン30m1中で
110℃で12時間攪拌する。
次いで、徐々に形成した懸濁液を室温に冷却し、水25
0m1上に注ぎ、製塩化水素水溶液で強酸性に調節し、
吸引−過する。メソチェ上の残渣を数回水で洗浄し、ア
セトン150m1中で沸点で短時間攪拌し、冷却し、濾
過し、高度真空中で乾燥する。1.1′,5,5′−テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−〔
3,4“−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸ジ
−N−(2−フェニルエチル)−アミドが融点250℃
(分解)の微細な白色結晶の形で得られる。
実施例3 1.1’、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−(3,4”−ビー2H−ピロール
)−1,1°−ジ酢酸ジメチルエステル6.5g(0,
02モル)を水100m1及び濃苛性ソーダ水溶液20
m1中で90℃で12時間攪拌する。次いで、溶液を氷
水浴で冷却しながら製塩化水素酸水溶液で強酸性に調節
する。形成した懸濁液を更に2時間攪拌し、−過し、水
及びアセトンで洗浄し、高度真空中で乾燥する。1,1
“。
5.5′〜テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2゜2“−
ジオキソ−(3,4”−ビー2H−ピロール)−1,1
°−ジ酢酸が融点268℃(分解)の微細な白色結晶の
形で得られる。
実施例4 1.1’、5,5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,21−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
)−1,1“−ジ酢酸ジメチルエステル4.9 g (
0,015モル)を2−ジイソプロピルアミノエチルア
ミン30m1中で105℃に12時間加熱する。反応混
合物を冷却し、水流ポンプの真空中で濃縮する。油性残
渣をジエチルエーテル150m1に取り、過剰の塩化水
素酸のエーテル性溶液(約4N)で強酸性に調節する。
樹脂錠沈澱が形成している溶液を再び水流ポンプの真空
中で濃縮する。吸湿性残渣を水100m1に熔かし、溶
液を2N苛性ソーダでアルカリ性に調節し、ジエチルエ
ーテル100m1を加える。水相を分離した後、エーテ
ル層中で白色結晶が析出する。この結晶をt別し、真空
中で乾燥する。1.1’、’5.5゛−テトラヒドロ−
4−ヒドロキシ−2゜2′−ジオキソ−[3,4′−ビ
−2H−ピロール)−1,1“−ジ酢酸ジ−N−(2−
ジイソプロピルアミノエチル)アミドの2−ジイソプロ
ピルアミノエチルアンモニウム塩が融点163〜164
℃の無色の結晶の形で得られる。
実施例5 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1°、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2’−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール) −1,1’
−ジ酢酸ジメチルエステル4.8 g (0,015モ
ル)及びピペリジン25mNから1.1’、5.5’−
テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−
〔3,4“−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸
ジピペリジドが融点150〜155℃(分解)の微細な
淡黄色結晶の形で得られる。
実施例6 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1’、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2’−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジメチルエステル4.8 g (0,015モル
)及びシクロヘキシルアミン25m1から1.1’、5
.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジ
オキソ−〔3゜41−ビー2H−ピロール)−1,1’
−ジ酢酸ジ−N−シクロヘキシルアミドが融点257℃
(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例7 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1’、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2°−ジオ
キソ−〔3,4“−ビー2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジメチルエステル4.8 g (0,015モル
)及びモルホリン25m1から1,1°、5.5’−テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(
3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1“−ジ酢酸ジ
モルホリンが融点250°C(分解)の淡黄色結晶の形
で得られる。
実施例8 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1“、5,
5°−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2”−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジメチルエステル6.4g(0,02モル)及び
70%エチルアミン水溶液50m1から、室温で48時
間攪拌した後1゜1’、5.5’−テトラヒドロ−4−
ヒドロキシ−2,2’−ジオキソ−(3,4′−ビ−2
H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸ジ−N−エチルアミ
ドが融点190℃(分解)の淡黄色結晶の形で得られる
実施例9 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1“、5,
5°−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2”−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジメチルエステル4.8 g (0,015モル
)及び2− (3,4−ジメトキシフェニル)エチルア
ミン20m1から1゜1’、5.5“−テトラヒドロ−
4−ヒドロキシ−2,2’−ジオキソ−(3,4′−ビ
−28−ピロール)−1,1°−ジ酢酸ジ−N−(2−
(3,4−ジメトキシフェニル)エチルコアミドが融点
199℃(分解)の微細な白色結晶の形で得られる。
実施例10 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1’、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2’−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジエチルエステル4.8 g (0,015モル
)及び2.2−ジメチルプロピルアミン12m1から、
1.1’、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,21−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
〕−1゜1°−ジ酢酸ジ−N−(2,2−ジメチルプロ
ピル)アミドが融点242℃(分解)の微細な白色結晶
の形で得られる。
実施例11 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1’、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2“−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ酢酸ジエチルエステル4.8 g (0,015モル
)及び70%3−メトキシプロピルアミン水溶液40m
1から、室温で48時間攪拌した後1,1’、5.5’
−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2g−ジオキソ
−〔3゜4°−ビー2H−ピロール)−1,1“−ジ酢
酸ジ−N−(3−メトキシプロピル)アミドが融点21
4℃(分解)の微細な淡黄色結晶の形で得られる。
実施例12 実施例2に記載した方法と同様にして、1゜1“、5,
5°−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2”−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ヒo−ル) −1+  
1 ’−ジ酢酸ジメチルエステル4.9 g (0,0
2+ル)を70%2  (N  )チルアミノ)エタノ
ール水溶液40m1中で、室温で48時間攪拌する。反
応混合物を高度真空中で蒸発により濃縮し、油性残渣を
メタノール20m1に取り、30%ナトリウムメトキシ
ド溶液5mlを加える。アセトン200m1を添加する
ことによって1.1°、5.5°−テトラヒドロ−4−
ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(3,4′−ビ−2
H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸ジ−N−メチルーN
−2−ヒドロキシエチル)アミドのナトリウム塩を結晶
させる。を過し、洗浄し、高度真空中で乾燥した後、該
化合物が融点158℃(分解)の微細な淡黄色結晶の形
で得られる。
実施例13 1.1’、5,5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−〔3,4“−ビー2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジアミド2.9g(0,01モル
)を水50m1中に懸濁し、室温で濃アンモニア水溶液
2mlを加える。生成した帯黄色溶液を水流ポンプの真
空中で蒸発乾個し、無定形残渣をアセトン30m1に取
り、−過し、メツチェ上の残渣をアセトンで洗浄し、高
度真空中で乾燥する。1.1°、5.5’−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,2f−ジオキソ−〔3゜4′
−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸ジアミドの
アンモニウム塩が融点133℃(分解)の淡黄色粉末の
形で得られる。
実施例14 実施例13に記載した方法と同様にして、1゜1′,5
,5′−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2“−ジ
オキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1“
−ジ酢酸アミド2.9g(0,01モル)及び0. I
 N苛性ソーダ水溶液(p(16,4まで添加)から1
.1”、5.5”−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2
,2′−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)
−1,1”−ジ酢酸ジアミドのナトリウム塩が融点15
0℃(分解)の白色粉末の形で得られる。
実施例15 実施例13に記載した方法と同様にして、1゜1’、5
.5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2”−ジ
オキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’
−ジ酢酸アミド2.9g(0,01モル)及びジェタノ
ールアミン水溶液(pH6,5まで添加)から1,1“
、5.5°−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,29
−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,
1’−ジ酢酸ジアミドのジェタノールアミン塩が融点1
30℃(分解)の白色粉末の形で得られる。
実施例16 実施例13に記載した方法と同様にして、1゜1’、5
.5”−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2°−ジ
オキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール]−1,1“
−ジ酢酸アミド2.9g(0,01モル)及び2−ジメ
チルアミノエタノール5mlから、1. 1”、  5
. 5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2°−
ジオキソ−〔3゜4°−ビー2H−ピロール)−1,1
“−ジ酢酸ジアミドのN、N−ジメチル−N−エタノー
ル−アンモニウム塩が融点170℃(分解)の白色粉末
の形で得られる。
実施例17 1.1’、5.5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,29−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸2.1g(0,007モル)をメ
タノール30m1中に懸濁し、メタノール中の30%ナ
トリウムメトキシド溶液6mlを室温で加える。3時間
攪拌した後、少量の不溶性物質をr別し、を液にジエチ
ルエーテル50m1を加える。沈澱した結晶をt別し、
エーテルとメタノールとの混合物(2:1)で短時間洗
浄し、真空中で乾燥する。1.1“、5.5°−テトラ
ヒドロ−4−ヒドロキシ−2,21−ジオキソ−(3,
4”−ビー2H−ピロール〕−1゜l“−ジ酢酸のトリ
ナトリウム塩が融点300℃以上(分解)の微細な白色
結晶の形で得られる。
実施例18 実施例1に記載した方法と同様にして、3−エトキシカ
ルボニル−2,5−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2
′−ジオキソ−IH−ピロール−1−酢酸エチルエステ
ル25.7g(0,1モル)から水及びアセトニトリル
中で処理して1,1“。
5.5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2゜21−
ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1
’−ジ酢酸ジエチルエステルが融点192〜194℃の
淡黄色結晶の形で得られる。
これを実施例1に記載したのと同様の方法で融点298
〜300℃(分解)の1.l”、5゜59−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(3,4′
−ビ−2H−ピロールツー1.1’−ジ酢酸ジアミドに
変えるか、又は実施例3に記載したのと同様の方法で融
点268°C(分解)の1.1“、5.5”−テトラヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(3゜4
′−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸に変える
ことができる。
実施例19 実施例1に記載した方法と同様にして、1゜1’、5.
5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2”−ジオ
キソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1’−
ジ(3−プロピオン酸)ジメチルエステル7.7 g 
(0,022モル)から濃アンモニア水溶液70m1中
で処理して1.1’。
5.51−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2゜29−
ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,1
’−ジ(3−プロピオン酸)アミドが融点230℃(分
解)の白色結晶の形で得られる。
出発原料として使用する1、1“、5,5“−テトラヒ
ドロー4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(3,4
”−ビー2H−ピロール〕−1゜1′−ジ(3−プロピ
オン酸)ジメチルエステルは、同様に実施例1の操作法
と同様にして、下記のようにして製造することができる
: a)N−(2−シアノエチル)グリシン98.2 g(
0,77モル)をメタノール550m1中に懸濁し、氷
/水−浴中で5℃に冷却する。この温度で冷却しながら
3時間塩化水素流を導入する。次いで、反応混合物を室
温で12時間攪拌し、更に1時間加熱還流する。無色の
懸濁液を約2/3に濃縮し、−過し、残渣を少量の冷メ
タノールで洗浄し、を液を重炭酸ナトリウムで中和し、
蒸発乾個する。
油性残渣をクロロホルム250IIIHに取り、水で振
出する。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾
個し、得られた残渣を強い減圧で蒸溜する。
N−(メトキシカルボニルメチル)−β−アミノ−プロ
ピオン酸メチルエステルが沸点73〜75’C(0,0
05mm1g=6.25 X 10−” bar )の
無色油として得られる。
b)実施例1a)に記載した操作法と同様にしてN−(
メトキシカルボニルメチル)−β−アミノ−プロピオン
酸メチルエステル35.0g(0,2モル)、トリエチ
ルアミン33ml (0,24モル)及びマロン酸モノ
メチルエステルクロリド36.2 g(0,24モル)
から塩化メチレン60m1中で、N−メトキシカルボニ
ルアセチル−N−メトキシカルボニルメチル−β−アミ
ノプロピオン酸メチルエステルが帯黄色油として得られ
る。
C)実施例1b)に記載した操作法と同様にしてメタノ
ール55m1中のN−メトキシカルボニルアセチル−N
−メトキシカルボニルメチル−β−アミノプロピオン酸
メチルエステル53.2 g(0,19モル)及びメタ
ノール240m1中のナトリウム4.4gから、融点1
70〜171℃の3−(2,5−ジヒドロ−4−ヒドロ
キシ−3−メトキシカルボニル−2−オキソ−IH−ピ
ロール〕−プロビオン酸メチルエステルが得られる。
d)実施例1c)に記載した操作法と同様にして水24
m1及びアセトニトリル240m1中の前記ビロール誘
導体24.3g(0,1モル)から、1゜1°、5.5
“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2’−ジオキ
ソ−(3,4”−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ
(3−プロピオン酸)ジメチルエステルが融点183〜
184℃の白色結晶の形で得られる。
実施例20 実施例3に記載した方法と同様にして水100m1中の
1.1’、5.5’−テトラヒドロ−4=ヒドロキシ−
2,21−ジオキソ−〔3,4°−ビー2H−ピロール
)−1,1’−ジ(3−プロピオン酸)ジメチルエステ
ル7.8 g (0,022%ル)及び濃苛性ソーダ水
溶液20m1から、1゜1’、5.5’−テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−2,2’−ジオキソ−(3,4′−
ビ− 2H−ピロール)−1,1“−ジ(3−プロピオ
ン酸)が融点227℃(分解)の無色結晶の形で得られ
る。
実施例21 1.1′、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2“−ジオキソ−〔3,4“−ビー2H−ピロール
)−1,1°−ジ酢酸4.4g(0,015モル)をグ
リシンアミド塩酸塩3.3g(0,030モル)と−緒
にジメチルホルムアミド80m1中に懸濁する。次いで
、室温でまずトリエチルアミン6、8ml (0,05
モル)、次にトリフェニルホスファイト8.1m1(0
,03モル)を潤油する。生ずる淡黄色希薄懸濁液を8
5〜90℃で3時間攪拌する。生じた褐色溶液を5°C
に冷却し、ジエチルエーテル160m1を加える。形成
した沈澱をr別し、ジエチルエーテルで洗浄し、エタノ
ール80m1中に懸濁し、ジエチルエーテル中の約4N
塩化水素溶液の過剰で酸性にする。十分攪拌した後、再
び一過し、メツチェ上の残渣を室温で12時開俵90m
1及び4N塩酸9mlと共に攪拌する。懸濁液を濾過し
、r過残渣を水及びアセトンで洗浄し、高度真空中で6
0℃で乾燥する。■。
J・、5.5゛−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,
2°−ジオキソ−〔3,4”−ビー2H−ピロール)−
1,1’−ジ酢酸ジ−N−(カルバモイルメチル)アミ
ドが融点215℃(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例22 実施例21に記載した方法と同様にして、ジメチルホル
ムアミド80m1中の1.1’、5.5“−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−〔3,4°
−ビー2H−ピロール〕−1゜1°−ジ酢酸4.4 g
 (0,015モル)、1,2゜5.6−テトラヒドロ
−ビリジン−3〜カルボン酸メチルエステル臭化水素酸
塩6.6g(0,03モル)、トリエチルアミン6.8
ml及びトリフェニルホスファイト9.3gから、1.
1’、5.5”−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,
2v−ジオキソ−[3,4”−ビー2H−ピロール〕−
1゜1“−ジ酢酸ジ−N、N−(1,5−(2−メトキ
シカルボニル)−ペント−2−エニレン〕アミドが融点
208℃(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例23 実施例21に記載した方法と同様にして、ジメチルホル
ムアミド80m1中の1,1°、5.5’−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,29−ジオキソ−〔3,4“
−ビー2H−ピロール〕−1゜1′−ジ酢酸3.3 g
 (0,011モル)、アダマンチルアミン塩酸塩4.
1 g (0,022モル)、トリエチルアミン5.1
ml及びトリフェニルホスファイト6.8gから、1.
l”、5.5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,
2g−ジオキソ−[3゜41−ビー2H−ビローノー)
−1,1“−ジ酢酸ジ−N−アダマンチルアミドが融点
220℃(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例24 実施例21に記載した方法と同様にして、ジメチルホル
ムアミド80m1中の1.1’、5.5’−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,29−ジオキソ−(3,4’
〜ビー2H−ピロール〕−1゜1°−ジ酢酸3.8 g
 (0,013モル)、N−アセチルピペラジン3.3
 g (0,026モル)、トリエチルアミン1.8m
l及びトリフェニルホスファイト、 8.1 gから、
1.1’、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−〔3゜4°−ビー2 H−ピロー
ル)−1,1’−ジ酢酸ジ(4−アセチル)ピペラジド
が融点220℃(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例25 実施例21に記載した方法と同様にして、ジメチルボル
ムアミド80m1中の1,1′,5,5′−テトラヒド
ロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−(3,4′
−ビ−2H−ピロール〕−1゜1′−ジ酢酸4.5 g
 (0,015モル)、N−メチルピペラジン5.0g
(0,05モル)及びトリフェニルホスファイト9.3
gから、1.1’、5゜5”−テトラヒドロ−4−ヒド
ロキシ−2,2“−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−
ピロール〕−1.1’−ジ酢酸ジ(4−メチル)ピベラ
ジドージ塩酸塩が融点263℃(分解)の白色結晶の形
で得られる。
実施例26 1.1“、5,5“−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2“−ジオキソ−(3,4”−ビー2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジアミド3.0 g (0,01
0モル)をメタノール70m1中に懸濁し、トリス(ヒ
ドロキシメチル)−アミノメタン2.4gを加え、室温
で12時間攪拌する。その際、遊離酸は溶解し、再び塩
として沈澱する。
生成した沈澱をr別し、冷メタノールで洗浄し、強い減
圧下に60℃で乾燥する。1.1’、5゜5′−テトラ
ヒドロ−4−ヒドロキシ−2,21−ジオキソ−(3,
4′−ビ−2H−ピロール〕−1,1”−ジ酢酸ジアミ
ドのトリス(ヒドロキシメチル)メチルアンモニウム塩
が融点203℃(分解)の白色結晶の形で得られる。
実施例27 1.1″、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,21−ジオキソ−〔3,4°−ビル2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジメチルエステル4.9 g (
0,015モル)を2−ジイソプロピルアミノエチルア
ミンの70%水溶液40m1中で室温で3日間攪拌する
。高度真空中で蒸発により濃縮した後に得られる油性残
渣をアセトン100m1中に熔かし、メタノール中のナ
トリウムメトキシドの30%溶液6mlを加える。沈澱
した生成物を戸別し、アセトンで洗浄し、強い減圧下に
70℃で乾燥する。■、1°、5.5’−テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−2,21−ジオキソ−(3,4′−
ビ−2H−ピロール)−1,1’−ジ酢酸ジ−N−(2
−ジ−イソプロピルアミノエチル)アミドのナトリウム
塩が融点215℃(分解)の淡黄褐色粉末の形で得られ
る。
実施例28 2.5−ジヒドロ−4−ヒドロキシ−3−メトキシカル
ボニル−2−オキソ−IH−ピロール−1−アセトアミ
ド4.3gをア七ト二トリル50m1及び水30m1中
にfi、4]する。75℃に加熱すると、二酸化炭素の
脱離が始まる。反応混合物をこの温度で12時間攪拌す
る。冷却した後、沈澱した生成物を戸別し、水及びアセ
トンで洗浄し、減圧下に乾燥する。1.1’、5.5°
−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ
−〔3゜4′−ビー2H−ピロール)−1,1’−ジ酢
酸ジアミドが融点300℃(分解)の白色結晶の形で得
られる。生成物は実施例1に記載したものと同一である
出発原料は、例えば下記のようにして製造することがで
きる: 実施例1に記載した2、5−ジヒドロ−4−ヒドロキシ
−3−メトキシカルボニル−2−オキソ−IH−ピロー
ル−1−酢酸メチルエステル23g(0,1モル)を濃
アンモニア水溶液200m1に溶かし、室温で12時間
攪拌する。次いで、帯黄色溶液を水流ポンプの真空中で
蒸発乾個する。得られた固体残渣を水200m1に溶か
し、強酸性反応を呈するまで、製塩化水素酸水溶液を加
える。
沈澱した無色の沈澱物を戸別し、水及びアセトンで洗浄
し、減圧下に50℃で乾燥する。2.5−ジヒドロ−4
−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニル−2−オキソ−
IH−ピロール−1−アセトアミドが融点202℃(分
解)の白色結晶の形で得られる。
実施例29 1、l’、5.5”−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−
2,2′−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール
)−1,1’−ジ酢酸ジアミド3.2g(0,01モル
)をメタノール60m1中で酸化白金0.3gの存在で
室温、常圧で水素添加する。
理論量の水素の吸収が停止するまで水素添加した反応混
合物から触媒を戸別し、蒸発乾個し、得られる残渣をエ
タノール40m1中で短時間煮沸し、?液を再び蒸発乾
個する。オクタヒドロ−4−ヒドロキシ−2,21−ジ
オキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール〕−ジ酢酸ジ
アミドが融点約120℃以上(分解)の無色の無定形粉
末の形で得られる。
実施例30 実施例29に記載した操作方法と同様にして、1.1’
、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2′
−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)−1,
1’−ジ酢酸6g(0,02モル)からオクタヒドロ−
4−ヒドロキシ−2゜21−ジオキソ−(3,4”−ビ
ー2H−ピロール)−1,1°−ジ酢酸が無色の無定形
粉末の形で得られる。
実施例31 実施例1〜28に記載したのと同様の方法で、更に、■
、1°、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2
,21−ジオキソ−(3,4′−ビ−2H−ピロール)
−1,1′−ジ酢酸ジ(シス−2,6−ジメチル)ピペ
リジド、1.1“。
5.5°−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2゜2′−
ジオキソ−〔3,4“−ビー2H−ピロール)−1,1
’−ジ酢酸ジ(2−テトラメチレン)ピペリジド、1.
1’、5.5’−テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−2,
2′−ジオキソ−〔3゜41−ビー2H−ピロール)−
1,1’−ジ酢酸ジ(3−メトキシカルボニル−4−オ
キソ)ビペ、リジド及び1,1′,5,5′−テトラヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−5,5′−ジ(テトラメチレン
)=2,2“−ジオキソ−C3,4”−ビー2H−ビロ
ール)−1,1“−ジ酢酸ジアミドを製造することがで
きる。
実施例32 25Q?の有効成分、例えば1.1’、5.5’−テト
ラヒド口−4−ヒドロキシ−2,2′−ジオキソ−〔3
,4°−ビー2H−ビロール〕=1.1“−ジ酢酸ジア
ミド又はその塩、例えばナトリウム塩を含む錠剤は、下
記のようにして製造することができる。
Uf!i(錠剤1000個当たり) 有効成分              25.0 g乳
1唐                       
        100.7g小麦澱粉       
        7.5gポリエチレングリコール60
00      5. Ogタルク         
       5.0gステアリン酸マグネシウム  
     1゜8g脱イオン水           
  通量1逍: すべての固体成分をまず0.6 +nのメツシュ幅の篩
で篩過する。次に、有効成分、乳糖、タルク、ステアリ
ン酸マグネシウム及び半量の澱粉を混合する。残りの半
量の澱粉を水40m1中に懸濁し、この懸濁液を水10
0m1中のポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加し
、混合物を必要に応じて水を添加して造粒する。顆粒を
35°Cで一夜乾燥し、メツシュ幅1.2龍の篩で篩過
し、両面が湾曲した直径約611Iの錠剤に加工する。
実施例33 10■の有効成分、例えば1.1°、5.5“−テトラ
ヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2°−ジオキソ−(3,
4′−ビ−2H−ピロール〕−1,1“−ジ酢酸ジアミ
ド又はその塩、例えばナトリウム塩を含む錠剤は、下記
のようにして製造することができる。
一虞立(錠剤1000個当たり) 有効成分              10.0 g乳
1m                 100.7 
g小麦澱粉               7.5gポ
リエチレングリコール6000      5. Og
タルク                5.0gステ
アリン酸マグネシウム       1.8g脱イオン
水                 適量■: すべての固体成分をまず0.6鶴のメソシュ幅の篩で篩
過する。次に、有効成分、乳糖、タルク、ステアリン酸
マグネシウム及び半量の澱粉を混合する。残りの半量の
澱粉を水40m1中に懸濁し、この懸濁液を水100m
1中のポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加し、混
合物を必要に応じて水を添加して造粒する。顆粒を35
°Cで一夜乾燥し、メツシュ幅1.2 mmの篩で篩過
し、両面が湾曲した直径約611の錠剤に加工する。
実施例34 5龍wの有効成分、例えば1,1“、5.5“−テトラ
ヒドロ−4−ヒドロキシ−2,2°−ジオキソ−〔3,
4°−ビー2H−ピロール〕−1゜1°−ジ酢酸ジアミ
ド又はその塩、例えばナトリウム塩を含む錠剤は、下記
のようにして製造することができる。
−底豆(錠剤1000個当たり) 有効成分               5.0g乳糖
                150.7g小麦澱
粉              27.5 gポリエチ
レングリコール6000      5. Ogタルク
                5.0gステアリン
酸マグネシウム       1.8g脱イオン水  
            適量M31L: すべての固体成分をまず0.6 +nのメソシュ幅の篩
で篩過する。次に、有効成分、乳糖、タルク、ステアリ
ン酸マグネシウム及び半量の澱粉を混合する。残りの半
量の澱粉を水40m1中に懸濁し、この懸濁液を水10
0m1中のポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加し
、混合物を必要に応じて水を添加して造粒する。顆粒を
35℃で一夜乾燥し、メツシュ幅1.2mlの篩で篩過
し、両面が湾曲した直径約6mlの錠剤に加工する。
実施例35 実施例32〜34に記載したのと同様の方法で、実施例
1〜31による一般式(1)の他の化合物又はその塩を
含む医薬製剤を製造することもできる。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R_1及びR_2は、それぞれカルボキシ低級ア
    ルキル基又は非置換或いは低級アルキル基、ヒドロキシ
    低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、アミ
    ノ低級アルキル基、N−モノ−若しくはN,N−ジ−低
    級アルキルアミノ低級アルキル基、それぞれ4〜8員の
    、場合により、低級アルコキシカルボニル基及びオキソ
    基若しくはヒドロキシ基で(アルキレンアミノ基上で)
    置換されたN,N−アルキレンアミノ低級アルキル基或
    いは場合により、低級アルコキシカルボニル基及び場合
    により付加的にヒドロキシ基で(アルケニレンアミノ基
    上で)置換されたN,N−アルケニレンアミノ低級アル
    キル基又はN,N−(アザ−、N′一低級アルキルアザ
    −若しくはN′−低級アルカノイルアザ−、オキサ−若
    しくはチア)アルキレンアミノ低級アルキル基、カルバ
    モイル低級アルキル基、N−モノ−若しくはN,N−ジ
    低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、3〜8員の
    シクロアルキル基、ジシクロアルキル基又はトリシクロ
    アルキル基又は非置換又はフェニル部分が低級アルキル
    基、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はトリフルオ
    ロメチル基で置換されたフェニル低級アルキル基でN−
    モノ−若しくはN,N−ジ置換されたカルバモイル低級
    アルキル基又はそれぞれ3〜7員の、場合により、低級
    アルコキシカルボニル基及びオキソ基若しくはヒドロキ
    シ基で置換されたアルキレン基又は場合により、低級ア
    ルコキシカルボニル基及び場合により、付加的にヒドロ
    キシ基で置換されたアルケニレン基又はアザ−、N′−
    低級アルキルアザ−若しくはN′−低級アルカノイルア
    ザ−、オキサ−若しくはチア−アルキレン基でジ置換さ
    れたカルバモイル低級アルキル基を表し、R_3、R_
    4、R_5及びR_6はそれぞれ水素又は低級アルキル
    基を表すか、又はR_3とR_4及び/又はR_5とR
    _6は一緒に4〜8員のアルキレン基を表し、R_7、
    R_8、R_9及びR_1_0はそれぞれ水素を表すか
    、又はR_7はR_8と一緒に及び/又はR_9はR_
    1_0と一緒にそれぞれ付加的結合を表す〕の新規置換
    テトラヒドロ−、ヘキサヒドロ−又はオクタヒドロ−〔
    3,4′−ビ−2H−ピロール〕−2,2′−ジオン及
    びその塩。
  2. (2)R_1及びR_2がそれぞれ独立にカルボキシ低
    級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、N−モノ
    −若しくはN,N−ジ低級アルキルカルバモイル低級ア
    ルキル基、カルバモイル基の窒素原子に対してα−位よ
    り高位にヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アミノ基、
    低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アル
    キレン基、アルケニレン基若しくはアザ−、オキサ−若
    しくはチアアルキレンアミノ基を有するN−モノ−若し
    くはN,N−ジ(ヒドロキシ低級アルキル)カルバモイ
    ル低級アルキル基、N−(低級アルコキシ低級アルキル
    )カルバモイル低級アルキル基、N−モノ−若しくはN
    ,N−ジ(アミノ低級アルキル)カルバモイル低級アル
    キル基、N−(低級アルキルアミノ低級アルキル)−若
    しくはN−(ジ低級アルキルアミノ低級アルキル)カル
    バモイル低級アルキル基、それぞれ4〜8員の、場合に
    より、低級アルコキシカルボニル基及びオキソ基若しく
    はヒドロキシ基で置換されたN−(アルキレンアミノ低
    級アルキル)カルバモイル低級アルキル基又は場合によ
    り、低級アルコキシカルボニル基及び場合により、付加
    的にヒドロキシ基で置換されたN−(アルケニレンアミ
    ノ低級アルキル)カルバモイル低級アルキル基、場合に
    より、低級アルキル基でC−及び/又はN′−置換され
    たか及は低級アルカノイル基でN′−置換されたN−〔
    (アザ)アルキレンアミノ低級アルキル〕カルバモイル
    低級アルキル基、N−〔(オキサ)アルキレンアミノ低
    級アルキル〕カルバモイル低級アルキル基又はN−〔(
    チア)アルキレンアミノ低級アルキル〕−カルバモイル
    低級アルキル基、N−(カルバモイル低級アルキル)カ
    ルバモイル低級アルキル基、N−(N′−モノ−若しく
    はN′,N′−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキ
    ル)カルバモイル低級アルキル基、3〜8員の単環式N
    −モノ−若しくはN,N−ジシクロアルキルカルバモイ
    ル低級アルキル基、N−ビシクロアルキルカルバモイル
    低級アルキル基、N−トリシクロアルキルカルバモイル
    低級アルキル基、非置換又はフェニル部分が低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及び/又はトリフル
    オロメチル基で置換されたN−モノ−若しくはN,N−
    ジ(フェニル低級アルキル)カルバモイル低級アルキル
    基又はそれぞれ4〜8員の、場合により、低級アルコキ
    シカルボニル基及びオキソ基又はヒドロキシ基で置換さ
    れたN,N−アルキレンカルバモイル基、場合により、
    低級アルコキシカルボニル基及び場合により、付加的に
    ヒドロキシ基で置換されたN,N−アルケニレンカルバ
    モイル低級アルキル基、場合により、低級アルキル基で
    C−及び/又はN′−置換されたか又は低級アルカノイ
    ル基でN′−置換されたN,N−(アザ)アルキレンカ
    ルバモイル低級アルキル基又はN,N−(オキサ−若し
    くはチア)アルキレンカルバモイル低級アルキル基を表
    し、R_3、R_4、R_5及びR_6がそれぞれ水素
    又は低級アルキル基を表すか、又はR_3とR_4及び
    /又はR_5とR_6が一緒に4〜8員のアルキレン基
    を表し、R_7、R_8、R_9及びR_1_0がそれ
    ぞれ水素を表すか又はR_7がR_8と一緒に及び/又
    はR_9がR_1_0と一緒にそれぞれ付加的結合を表
    す特許請求の範囲第1項記載の一般式( I )の化合物
    及びその塩、特に薬学的に許容しうる塩。
  3. (3)R_1及びR_2が同一であり、カルボキシ−C
    _1−C_4−アルキル基、カルバモイル−C_1−C
    _4−アルキル基、N−モノ−C_1−C_7−若しく
    はN,N−ジ−C_1−C_4−アルキルカルバモイル
    −C_1−C_4−アルキル基、N−(ω−ジ−C_4
    −C_4−アルキルアミノ−C_2−C_4−アルキル
    )カルバモイル−C_1−C_4−アルキル基、N−(
    ω−ヒドロキシ−C_2−C_4−アルキル)カルバモ
    イル−C_1−C_4−アルキル基、N−(ω−ジ−C
    _1−C_4−アルコキシ−C_2−C_4−アルキル
    )カルバモイル−C_1−C_4−アルキル基、5若し
    くは6員又は5若しくは6員環から構成されたN−シク
    ロアルキル−、N−ビシクロアルキル−若しくはN−ト
    リシクロアルキルカルバモイル−C_1−C_4−アル
    キル基、5若しくは6員の、場合により、C_1−C_
    4−アルコキシカルボニル基で3位が置換され、オキソ
    基若しくはヒドロキシ基で4位が置換されたN,N−ア
    ルキレンアミノカルボニル−C_1−C_4−アルキル
    基、5若しくは6員の、C_1−C_4−アルコキシカ
    ルボニル基で3位が置換され、場合により、付加的にヒ
    ドロキシ基で4位が置換されたアルケニレンアミノカル
    ボニル−C_1−C_4−アルキル基、5若しくは6員
    の、場合により、C_1−C_4−アルキル基若しくは
    C_1−C_4−アルカノイル基でN′−位が置換され
    たN,N−(アザ)アルキレンアミノカルボニル−C_
    1−C_4−アルキル基、5若しくは6員のN,N−(
    オキサ)アルキレンアミノカルボニル−C_1−C_4
    −アルキル基又はフェニル部分が場合により、C_1−
    C_4−アルコキシ基でモノ−若しくはジ置換されたN
    −フェニル−C_1−C_4−アルキルカルバモイル−
    C_1−C_4−アルキル基を表し、R_3、R_4、
    R_5及びR_6が水素を表し、R_7、R_8、R_
    9及びR_1_0がそれぞれ水素を表すか、又はR_7
    がR_8と一緒に及びR_9がR_1_0と一緒にそれ
    ぞれ1個の付加的結合を表す特許請求の範囲第1項記載
    の一般式( I )の化合物及びその塩。
  4. (4)R_1及びR_2が同一のカルボキシ−C_1−
    C_4−アルキル基、カルバモイル−C_1−C_4−
    アルキル基又はω−N,N−ジ−C_1−C_4−アル
    キルアミノ−C_1−C_4−アルキル基でN−モノ−
    置換されたカルバモイルメチル基、ω−ヒドロキシ−C
    _2−C_4−アルキル基でN−モノ−若しくはN,N
    −ジ置換されたカルバモイルメチル基又は4〜6員の(
    3−C_1−C_4−アルキル−3−アザ)アルキレン
    基でN,N−ジ置換されたカルバモイルメチル基を表し
    、R_3、R_4、R_5及びR_6が水素を表す特許
    請求の範囲第1項記載の一般式( I )の化合物及びそ
    の塩。
  5. (5)R_1及びR_2が同一であり、R_3、R_4
    、R_5及びR_6が水素を表し、R_7がR_8と一
    緒に及びR_9がR_1_0と一緒にそれぞれ1個の付
    加的結合を表す特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    化合物。
  6. (6)1,1′,5,5′−テトラヒドロ−4−ヒドロ
    キシ−2,2′−ジオキソ−〔3,4′−ビ−2H−ピ
    ロール〕−1,1′−ジ酢酸ジアミド又はその塩である
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  7. (7)1,1′,5,5′−テトラヒドロ−4−ヒドロ
    キシ−2,2′−ジオキソ−〔3,4′−ビ−2H−ピ
    ロール〕−1,1′−ジ酢酸ジ−N−(2−フェニルエ
    チル)アミド又はその塩である特許請求の範囲第1項記
    載の化合物。
  8. (8)特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか1項に
    記載の化合物のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウ
    ム塩、ジエチルアンモニウム塩、ビス(2−ヒドロキシ
    エチル)アンモニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチ
    ル)アンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)メチ
    ル−アンモニウム塩又はN,N−ジメチル−N−(2−
    ヒドロキシエチル)アンモニウム塩。
  9. (9)常用の医薬助剤の他に、特許請求の範囲第1項〜
    第8項のいずれか1項による化合物を遊離の形又は薬学
    的に許容しうる塩の形で含む医薬製剤。
  10. (10)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R_1及びR_2は、それぞれカルボキシ低級ア
    ルキル基又は非置換或いは低級アルキル基、ヒドロキシ
    低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、アミ
    ノ低級アルキル基、N−モノ−若しくはN,N−ジ−低
    級アルキルアミノ低級アルキル基、それぞれ4〜8員の
    、場合により、低級アルコキシカルボニル基及びオキソ
    基若しくはヒドロキシ基で(アルキレンアミノ基上で)
    置換されたN,N−アルキレンアミノ低級アルキル基或
    いは場合により、低級アルコキシカルボニル基及び場合
    により、付加的にヒドロキシ基で置換されたN,N−ア
    ルケニレンアミノ低級アルキル基又はN,N−(アザ−
    、N′−低級アルキルアザ−若しくはN′−低級アルカ
    ノイルアザ−、オキサ−若しくはチア)アルキレンアミ
    ノ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、N−
    モノ−若しくはN,N−ジ低級アルキルカルバモイル低
    級アルキル基、3〜8員のシクロアルキル基、ジシクロ
    アルキル基又はトリシクロアルキル基又は非置換又はフ
    ェニル部分が低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ
    ゲン及び/又はトリフルオロメチル基で置換されたフェ
    ニル低級アルキル基でN−モノ−若しくはN,N−ジ置
    換されたカルバモイル低級アルキル基又はそれぞれ3〜
    7員の、場合により、低級アルコキシカルボニル基及び
    オキソ基又はヒドロキシ基で置換されたアルキレン基又
    は場合により、低級アルコキシカルボニル基及び場合に
    より、付加的にヒドロキシ基で置換されたアルケニレン
    基又はアザ−、N′−低級アルキルアザ−若しくはN′
    −低級アルカノイルアザ−、オキサ−若しくはチア−ア
    ルキレン基でジ置換されたカルバモイル低級アルキル基
    を表し、R_3、R_4、R_5及びR_6はそれぞれ
    水素又は低級アルキル基を表すか、又はR_3とR_4
    及び/又はR_5とR_6は一緒に4〜8員のアルキレ
    ン基を表し、R_7、R_8、R_3及びR_1_0は
    それぞれ水素を表すか、又はR_7はR_8と一緒に及
    び/又はR_9はR_1_0と一緒にそれぞれ付加的結
    合を表す〕の新規テトラヒドロ−、ヘキサヒドロ−又は
    オクタヒドロ−〔3,4′−ビ−2H−ピロール〕−2
    ,2′−ジオン及びその塩を製造するため、 a)一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中Xは場合により、エステル化又はエーテル化され
    たヒドロキシ基を表す〕の化合物又はその塩を閉環させ
    るか、又は b)一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中R′_1 は基R_1に変化しうる基を表し、R
    ′_2は基R_2又はこの基に変化しうる基を表す〕の
    化合物又はその塩において、R′_1を基R_1に変え
    、かつ場合により、R_2に変化しうる基R′_2を基
    R_2に変えるか、又は c)一般式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中R″_1は水素を表し、R″_2は水素又は基R
    _2を表す〕の化合物又はその塩において、水素原子R
    ″_1を基R_1で置換し、及び場合により、水素原子
    R″_2を基R_2で置換するか、又はd)一般式(V
    ): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) の化合物又はその互変異性体及び/又はその塩を一般式
    (VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) の化合物又はその互変異性体と縮合させ、必要に応じ、
    得られた化合物を一般式( I )の他の化合物に変え、
    得られた異性体混合物を異性体に分離し、及び/又は得
    られた遊離化合物を塩に変えるか又は得られた塩を遊離
    化合物若しくは他の塩に変えることを特徴とするビ−2
    H−ピロリ(ジ)ンジオンの製造方法。
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