JPS61184230A - 二重オリフイス圧力制御弁 - Google Patents

二重オリフイス圧力制御弁

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JPS61184230A
JPS61184230A JP61018285A JP1828586A JPS61184230A JP S61184230 A JPS61184230 A JP S61184230A JP 61018285 A JP61018285 A JP 61018285A JP 1828586 A JP1828586 A JP 1828586A JP S61184230 A JPS61184230 A JP S61184230A
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capsule
fluid
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 の流入およびそこからの流出を制御する圧力制御弁に関
する。
一層詳しくは、本発明は摩擦装置の保合中に二重勾配圧
力機能を与える圧力制御に関するものである。
従来の二重勾配圧力制御では、ただ1つのオリフィスと
アキュムレータか、あるいは、0T変圧力調整升とアキ
ュムレータを利用している。このような装置はほぼ満足
できる制御を行なうが、その反面大きなスペースを必要
とする。スペースはトランスミッション制御に関しては
重要な事項であるから、できる限りスペースを小さくす
ることが望ましい。
本発明は、摩擦クラッチその他の摩擦装置の保合を圧力
制御弁によって制御し、この圧力制御弁を摩擦装置の保
合時の充填及び保合期間中に圧力と時間の関係を制御で
きるようにすることを目的とする。
この目的のために、本発明による圧力制御弁は特許請求
の範囲第1項の特徴部分に記載されている事項によって
特徴付けられる。
本発明による圧力制御弁は2つのオリフィスを有し、こ
れらオリフィスの一方が迅速な充填のだめの急速々流れ
を与え、他方のオリフィスが滑らか々最終係合を可能と
すべく制御した圧力上昇を与えるようになっている。
本発明によれば、制御弁カプセルがそれを摺動自在に配
置した段付き直径の内径孔と協働して、摩擦装置に対し
てその保合時に異なつた流量を定めることのできる2つ
の異なったオリフィスを形成するので、アキュムレータ
が圧力上昇を制御する必要なしに二重勾配圧力機能を利
用することができる。
本発明による圧力制御弁の好適な実施例においては、圧
力制御弁は供給通路と制御通路を連絡している段付き直
径の内径孔内に摺動自在に配置した円筒形の弁カプセル
を包含し、この弁カプセルは中間直径の内径孔部分内に
より小さい直径の内径孔部分に向う方向へばね付勢され
、供給通路内の所定の圧力に応答してより大きい直径の
内径孔部分内に移動し、それと協働して迅速な充填のだ
めの高い流量オリフィスを形成し、制御通路内の所定の
圧力で中間直径の内径孔部分にもどって低い流量のオリ
フィスを定め、それによって、摩擦装置の最終係合時に
制御通路内の圧力がより遅い速度で上昇する。
以下、添付図面を参照しながら本発明の詳細な説明する
図面を参照して、ここでは類似した符号は同じあるいは
相当する部分を示しているが、第1図に全体的に70で
示す摩擦装置はハウジング12を包含し、このハウジン
グは外側円筒形部分14と、内側円筒形部分16と、連
結ハブ部分18とを有する。内側円筒形部分16は軸2
0に駆動的に連結しである。
内外の円筒形部分14、16内には流体作動式のピスト
ン22が摺動自在に配置してあり、これはハブ18と協
働して付与室24を形成する。ピストン22は、好まし
くばばね(図示せず)によってハブ18に向ってばね付
勢されている。円筒形ハブ部材26が円筒形部分16に
相対的に回転自在に配置あるいは支持されている。この
ハブ部材26はスプライン部28を有し、このスプライ
ン部に複数の摩擦ディスク30がスプライン結合されて
いる。摩擦ディスク30は複数の摩擦ディスク320間
にはさまれており、摩擦ディスク32はハウジング12
の円筒形部分14に形成したスプライン部34に駆動的
に連結しである。
伺与室24は制御通路36と連通しており、この制御通
路36は後述するように付与室24に力n圧流体を送る
。摩擦装置70のような摩擦装置では周知であるように
、付与室24が加圧されたとき、ピストン22が動いて
摩擦ディスク30.32の相互摩擦保合を生じさせる。
その結果、ハウジング12とハブ部材26の間にトルク
伝達関係が定められる。このトルク伝達関係は軸20と
ハブ部材26の同時回転を与えるのに有効であり得るし
、あるいは、ハブ部材26がトランスミッションハウジ
ング(図示せず)の一部のよう々固定部材に連結しであ
る場合には、軸20の制動を行なうことになることも考
えられる。
軸20は38で示すトランスミッションハウジングの一
部内に回転自在に支持されている。ハウジング38には
供給通路40が形成してあり、この供給装置は普通のト
ランスミッション制御弁及びポンプ組立体42と連通し
ている。軸20には軸線方向に延びる段付き直径の内径
孔44が形成してあり、この内径孔は大径部46と、中
間径部48と、小径部50とを有する。大径部46は制
御通路36と連絡しており、小径部50は半径方向の供
給通路52と連絡している。この半径方向の供給通路5
2は軸20の外面と連通している。
半径方向の供給通路52は一対の互いに隔たった環状の
シール54.56の間に形成さレタスペース53と連通
している。このスペース53はハウジング38に形成さ
れている供給通路40とも連絡している。段付き直径内
径孔44は58で示す制御弁を収容している。第3図及
び第4図で最も良くわかるように、制御弁58は円筒形
のカプセル60を包含し、このカプセル内にペレット逆
止弁62がある。カプセル60は縮径部64を有し、こ
の縮径部は逆止弁62の外径よりも小さくなっており、
第3図に示すように逆止弁によって効果的にシールされ
得る。
カプセル60は複数の内向きに曲がった舌片部66も有
し、これらの舌片部66は第4図に示すように逆止弁6
2のだめの右方向止めとなると共に、逆止弁の外面を流
体が通過するのを許すようになっている。カプセル60
はさらに複数の半径方向通路(穴)68を有し、これら
の半径方向通路はカプセル60の内側面積を、第1図に
示すように段付き直径内径孔の中間径部48に連通させ
、あるいは第2図に示すように大径部46と連通させる
。制御弁58はばね部材70も包含し、このばね部材は
大径部46内に配置してあり、カプセル60を右方向に
付勢しており、その結果、大径部の右端が小径部50と
中間径部48のつながるところに着座する。   ゛ト
ランスミッションの制御弁及びポンプ組立体42を操作
して摩擦装#70の保合を生じさせたいとき、供給通路
40.52および小径部50が加圧されることになる。
流体圧力がカプセル60全通して直ちに制御通路36お
よび付与室24に伝えられることはない。したがって、
小径部50が大径部46よりもかなり大きい圧力となり
、カプセル60を左方向へ移動させ、最終的には、半径
方向通路68が小径部50からの流体を大径部46に連
通させる。カプセル60の外側円筒形面が小径部46の
表面と協働して1つの流量制御オリフィスを形成する。
これは制御通路36と付与室24への流体の流量を定め
る。
流体が付与室24に流入すると、付与室24、制御通路
36および大径部46内の圧力が高まる。この圧力上昇
はピストン22を移動させてそのすぐ隣にある摩擦ディ
スク32と係合させる。こうして、摩擦装置70の保合
が開始する。この圧力レベルに達すると、ばね70の力
および大径部46内の圧力が中間径部48内の圧力に打
ち勝つに充分なものとなり、カプセル60が第1図に示
す位置にもどることになる。この位置において、付与室
24へさらに流入した流体はカプセル60の外面と中間
径部48の外面の間を通らなければならない。この間隙
は大径部46との間隙よりも小さいので、流量が減じ、
付与室24内の圧力上昇速度は小さくなる。しだがって
、摩擦装置70の係合動作の最終部分は最初の室充填部
分よシも遅い速度で生じる。
組立体42がq擦装置70の分離についての信号を与え
たとき、供給通路40が排出部に接続される。このとき
、大径部46内の圧力は逆止弁62を第4図に示す位置
まで移動させることにより、付与室24内の圧力排出が
急速に行なわれる。
前述の説明から明らか々ように、本発明は圧力供給通路
と摩擦装置制御通路の間に2棟類のオリフィス関係を設
定することによって、摩擦装置の保合時に圧力上昇速度
を遅くする機能と、圧力の急速上昇機能とを備えた圧力
制御弁を提供する。また・、これらのオリフィスが制御
した係合を与えるが、圧力排出機能と干渉することもな
ければ、それを制限することもない。
こうして、上述の本発明の実施例では、二重勾配圧力機
能を足めて選択的に係合可能な摩擦装置の係脱を行なう
改良された制御弁は、供給通路と制御通路の間にある段
付き直径内径孔内に配置したばね付勢されたカプセルを
包含し、供給通路内の圧力が上昇したときにカプセルが
第1の位置に向って移動して流体の流量を高め、以て制
御通路内の圧力上昇率を高め、次に供給通路と制御通路
の間に所定の圧力差が生じたときに当初の位置に移動し
て流体流量を絞り、以って制御通路内の圧力上昇率を低
下させる。
〔主要部分の符号の説明〕
70・・・摩擦装置、12・・・ハウジング、14・・
外側円筒形部分、16・・・内側円筒形部分、18・・
・ハブ部分、20・・・軸、22・・・ピストン、24
・・・付与室、26・・・ハブ部材、30.32・・摩
擦ディスク、38・・・ハウジング、40・・・供給通
路、42・・・トランスミッション制御弁及びポンプ組
立体、44・・・段付き直径内径孔、46・・・大径孔
、48・・・中間径部、50・・・小径部、52・・・
半径方向供給通路、58・・・制御弁、60・・・カプ
セル、62・・・逆止弁、70・・・ばね部材

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、流体作動式摩擦装置への加圧流体の流入およびそこ
    からの流出を制御する二重オリ フィス圧力制御弁において、 供給通路(52)と、摩擦装置制御通路 (36)と、これらの通路(52、36) 間の加圧流体の連絡を制御する弁手段(58)とを包含
    し、この弁手段(58)が3つの 直径の異なった内径孔部分(46、48、 50)を有する段付き内径孔(44)と、 1つの内径孔部分(48)内に、それとの 間に或る間隙を有して配置され、第1のオ リフィスを形成している弁カプセル(60)と、この弁
    カプセル(60)内に配置され て、前記供給通路(52)から制御通路 (36)への直接の流体の流れを阻止する 逆止弁手段(62)と、前記弁カプセル (60)を前記1つの内径孔部分(50) 内に押圧し、前記3つの直径の異なった内 径孔部分のうちの第1、第2の部分(50、48)間に
    形成された段部に着座させるば ね手段(70)と、前記弁カプセル(60)に設けられ
    、流体が前記供給通路(52) から制御通路(36)に流れるときに前記 逆止弁手段(62)をバイパスさせる半径 方向通路手段(68)とを包含し、 前記供給通路(52)内の流体圧力が前 記制御通路(36)内の流体圧力よりも少 なくとも所定量だけ大きくなったときに前 記弁カプセル(60)が前記ばね手段(70)の付勢力
    に抗して前記3つの内径孔部分 (46、48、50)のうちの第3の内径 孔部分(46)内に移動することができ、 前記第3の内径孔部分(46)、弁カプセ ル(60)および半径方向通路手段(68)が協働して
    前記供給通路(52)から制御 通路(36)への流体の流量を制御する第 2のオリフィスを形成し、この第2のオリ フィスが前記第1のオリフィスよりも大き い流量を与えて前記制御通路(36)を通 しての迅速な充填を達成し、前記第1のオ リフィスが制御通路(36)内の流体圧力 を前記迅速な充填速度よりも遅い速度で前 記供給通路(52)内の流体圧力に等しく させるような小さい流量を定めていること を特徴とする二重オリフィス圧力制御弁。
JP61018285A 1985-01-31 1986-01-31 二重オリフイス圧力制御弁 Pending JPS61184230A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/696,754 US4561460A (en) 1985-01-31 1985-01-31 Dual orifice control
US696754 1985-01-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61184230A true JPS61184230A (ja) 1986-08-16

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ID=24798406

Family Applications (1)

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JP61018285A Pending JPS61184230A (ja) 1985-01-31 1986-01-31 二重オリフイス圧力制御弁

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EP (1) EP0190822A1 (ja)
JP (1) JPS61184230A (ja)
AU (1) AU574555B2 (ja)

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AU5254586A (en) 1986-08-07
EP0190822A1 (en) 1986-08-13
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