JPS61180789A - セフブペラゾンの結晶性トリエチルアミン塩 - Google Patents

セフブペラゾンの結晶性トリエチルアミン塩

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JPS61180789A
JPS61180789A JP61020000A JP2000086A JPS61180789A JP S61180789 A JPS61180789 A JP S61180789A JP 61020000 A JP61020000 A JP 61020000A JP 2000086 A JP2000086 A JP 2000086A JP S61180789 A JPS61180789 A JP S61180789A
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/577-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with a further substituent in position 7, e.g. cephamycines

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明はセフブペラゾン(cefbuperazone
) 、セファロスポリン抗生物質(クラス424、サブ
クラス246)、の安定な結晶性トリエチルアミン塩に
関する。
従来技術の説明 セフブペラゾンは次の構造: を有するいわゆる第二世代(second gener
ation)の注射可能なセファロスポリンであり、1
981年4月21日に特許された米国特許第4.263
.292号の主題である。
セフブペラゾンのナトリウム塩は日本において富山化学
工業−により臨床開発中である。
前記特許明細書には第30欄に凍結乾燥法により製造さ
れるセフブペラゾンのナトリウム塩を用いた注射可能な
製剤が記載されている。ナ) IJウム塩は遊離酸形態
の前記抗生物質が水に不溶性であるために使用される。
前記特許明細書に記載された抗生物質の唯一つの結晶形
態は遊離酸形態の二水和物である。前記二水和物は水和
水が非常にゆるく保持され、製剤の組成は結晶性のま−
であっても周囲条件で変動するので製剤製品中の使用に
満足でないかまたは少くとも不便である。凍結乾燥した
す) IJウム塩は同様に、乾燥状態において長期間の
貯蔵、すなわち1年を超える期間に対する十分な安定性
に欠けるので製剤特性に関して決して最適ではない。従
って、製剤処方目的のために、および製造操作中の中間
体としてバルク貯蔵に適する形態としてセフブペラゾン
の改良形態が望まれる。前記特許明細書中に示されたセ
ファロスポリン類の群の包括的説明には第4欄61行に
トリエチルアミン塩について言及されているが、しかし
特定トリエチルアミン塩が記載されされておらずまたこ
の塩の性質についても言及されていない。
発明の概要 前記問題に対処するために出願人はセフブペラゾンのナ
トリウム、カリウム、カルシウムおよびアンモニウム塩
、並びにセフブベラゾンと次の塩基:リドカイン、エタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、トリス(ヒドロ
キシメチル)アミノメタン、ニコチンアミド、エチレン
ジアミン、N−メチルグルカミン、L (+)−リジン
およびL(+)−アルギニン、とから製造される塩を製
造して試験した。これらの物質はいずれも結晶性生成物
を生ぜず、生じた無定形の物質はいずれも乾燥状態にお
ける安定性に関して、凍結乾燥したナトリウム塩に優る
利点を提供しなかった。試験したすべての塩基の中でト
リエチルアミンが結晶性の塩を生じた唯一つのものであ
り、そしてこれは本発明の方法によって製造したときの
みであった。
次表には表に示した特定の塩形態のセフブペラゾンにつ
いて行なった試験の安定性データが含まれる。結晶性T
EA()IJエチルアミン)塩は後に記載されるように
製造した。無定形のNa塩は実質的に米国特許第4.2
63.292号明細書に開示された凍結乾煙法により製
造した。無定形のTEA塩はpH6,0を有し、抗生物
質と1.1モル比のトリエチルアミンとから製造したそ
の水溶液の凍結乾燥により製造した。
上表から結晶性トリエチルアミン塩が、乾燥状態で貯蔵
したときに非常に満足な安定性特性を示すことが明らか
である。37℃で4ケ月貯蔵したとき(こ減量がδ忍め
られなかった。45℃1こおいて結晶性トリエチルアミ
ン塩に対する2週間の貯蔵中の活性の減量は、無定形ト
リエチルアミン塩に対する12%および無定形ナトリウ
ム塩に対する27%に比較して2.8%であった。この
温度における合計8週間の貯蔵中に結晶性TEA塩はそ
れ以上減量されなかった。同様に56℃において1週間
で結晶質トリエチルアミン塩に対して抗生物質の活性に
2.9%の減量があったが、しかし無定形トリエチルア
ミン塩に対して20.5%の減量および無定形ナトリウ
ム塩では2週後に32%の減量があった。4週の試験期
間中に結晶性トリエチルアミン塩から活性のそれ以上の
減量は認められなかった。70℃において3日後に結晶
性トリエチルアミン塩の活性に2%の減量が生じたが、
無定形トリエチルアミン塩および無定形ナトリウム塩に
対してはそれぞれ23.7%および26.2%の減量が
観察された。
本発明の結晶性塩は元素分析、示差走査熱量計で決定し
た融点、X線粉末回折図および赤外スペクトルにより確
認された。核磁気共鳴スペクトルについて、セフブペラ
ゾンの特性であるCH3プロトンはトリエチルアミンの
存在により鮮明ではない。それらに関するデータは後に
示される。
マウスにおいて測定した結晶性セフブペラゾンTEAに
対する腹腔内L Dsoは約2.000mg/kgであ
る。これは無定形ナトリウム塩の値より多少低い値であ
る。後者のLDs。は測定しなかったが、しかしその2
,000mg/kgで腹腔的処理した10マウスの群中
に死亡は認められなかった。同様にセフブペラゾンの結
晶性トリエチルアミン塩のマウスにおける頭蓋内置性は
L Dso” 280 mg/ kgである。同様の試
験において凍結乾燥したセフブペラゾンのナトリウム塩
は4QOmg/kgで毒性を示さない。これらの結果は
ペニシリンGの毒性に匹敵する低水準の毒性であると思
われる。
特定態様の説明 本発明の結晶性トリエチルアミン塩の製造における臨界
的特徴は反応媒質として塩化メチレン、またはCH2α
2と混和性の、水に可溶性の酸素化有機溶媒を10容量
%まで含む塩化メチレンの使用である。適当な酸素化有
機溶媒には酢酸エチル、アセトン、テトラヒドロフラン
、および低級アルカノール例えばエタノール、インプロ
パツールまたはブタノール、が含まれる。メタノールを
使用できるが、しかしこの溶媒は加溶媒分解過程により
β−ラクタム環を破壊する傾向を有し、メタノールとの
接触は避けることが好ましい。塩は室温、20〜25℃
、における成分の接触で生成し、塩が溶媒に不溶性であ
ればさらに酸素化有機溶媒で反応混合物を希釈すること
により回収することができる。酸素化有機溶媒としてア
セトンを用いることが好ましい。望むならば反応溶液の
無菌濾過を滅菌および精製の目的に用いることができ、
ま°  た酸素化有機溶媒を用いる結晶化段階に対して
無菌手法を使用すれば非経口処方に適する物質を製造す
ることができる。これは次の手順に例示される。
結晶質の安定なトリエチルアミン塩の製造セフブペラゾ
ン10gを塩化メチレン40.0mとアセトン4.0−
との混合物と乾燥窒素下に20〜25℃で混合する。゛
トリエチルアミン2.2−(1,05モル当量)を非常
に急速にかくはんしながら5分間にわたって加える。わ
ずかな曇りを含む溶液が得られる。無菌手法を用いて溶
液を適当な無菌の0.22ミクロン細孔大きさの膜フィ
ルターに通す。濾液を適当な無菌容器中に捕集する。
急速にかくはんしながら無菌アセトン200m1を15
分間にわたって加える。結晶が生じる。かくはんを10
分間続け、無菌アセトン200mi!を15分間にわた
って加える。0.5時間かくはんする。
無菌手順を用いて真空濾過により結晶を捕集する。
結晶を無菌アセトン2X40rri部で洗浄する。結晶
を無菌条件で、40〜45℃で24時間高真空乾燥する
。結晶を無菌ガラス容器に捕集して貯蔵する。期待収量
二トリエチルアミンセフブペラゾン塩9.2g、融点1
60〜163℃。
前記手順に出発物質として使用するセフブペラゾンの形
態は臨界的ではない。米国特許第4、263.292号
明細書に記載された二水和物は全く満足である、脱水し
た物質をも用いることができるが格別の利点はない。
この物質の元素分析は次に示される: 元素分析 測定量  乾燥量基準 理論値0 %H20,にF    0.41    −    −
% C46J     46.48   46.14%
 l(6,16−6,0 %  N     18.76    18.78  
 19.2% S    7.96,8,39 7.9
6.8.41  8.8” CzJ2sHJsS2・C
sH+sNとして計算ペレット化したKBr希釈結晶質
物質を用いて調製した赤外吸収スペクトルは第1図に例
示される。
NMRスペクトルは次のとおりである:δ、ppm  
(D20、標準としてTSP) :5.16(−重線、
積分1);4.08(−重線、積分3);3.58(、
(−重線、積分3);4.2〜4.4(四重線、J約7
七、積分6);およびCO〜1.5(重複、積分15)
X線粉末回折図はリガク(Rigaku) X線粉末回
折計で、201Tlaで作動するCu25kvランプを
用い、40”から5°まで2°毎分の走査速度でチャー
ト速度10mm毎分およびニッケルフィルターを用いて
測定した。これらの測定から計算したd−面間隔は次に
示される。相対強度はd−面間隔に相当する記録上のピ
ーク高さの測定により概算した。
9、2         66.7 8、18        14.3 6、96        33.3 6、70        55.6 5、70        17.5 4、82           63.54.0?  
         100.03、97       
    27.03、67           14
.33、63           15.93、24
           17・5溶解度 本発明の結晶性セフブペラゾンーTEA塩は広範囲の割
合で水に可溶性である。それは水、5%グルコースおよ
び塩水を含む普通の注射用ビヒクルに容易に溶解する。
それは塩化メチレンおよび類似のハロゲン化低級アルカ
ンを除いて普通の有機溶媒に実質的に不溶性である。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明のセフブペラゾンの結晶質トリエチル
アミン塩の赤外吸収スペクトルである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)160〜163℃の融点を示し、式、C_2_2
    H_2_9N_9O_9S_2・C_6H_1_5Nに
    相当する元素組成を有し、Cu25kvランプおよびニ
    ッケルフィルターで操作するリガクX線粉末回折計で、
    40°から5°までの範囲にわたる2°毎分の走査速度
    で測定して実質的に次に示すX線粉末回折図、             概算 ¥d−面間隔(Å)¥ ¥相対強度(%)¥ 9.2        66.7 8.18       14.3 6.96       33.3 6.70       55.6 5.70       17.5 4.82       63.5 4.07       100.0 3.97       27.0 3.67       14.3 3.63       15.9 3.24       17.5 を示すセフブペラゾンの結晶性トリエチルアミン塩。 (2)実質的に等モル量のセフブペラゾンとトリエチル
    アミンとを、少くとも約90容量%の塩化メチレンと1
    0容量%までのそれと混和性の酸素化有機溶媒とからな
    る溶媒系中で接触させ、溶液から結晶性の塩を回収する
    ことを含む次の性質を有する結晶質セフブペラゾントリ
    エチルアミン塩を製造する方法; 160〜163℃の融点を示し、式、 C_2_2H_2_9N_9O_9S_2・C_6H_
    1_5Nに相当する元素組成を有し、Cu25kvラン
    プおよびニッケルフィルターで操作するリガクX線粉末
    回折計で、40°から5°までの範囲にわたる2°毎分
    の走査速度で測定して実質的に次に示すX線粉末回折図
    、             概算 ¥d−面間隔(Å)¥ ¥相対強度(%)¥ 9.2        66.7 8.18       14.3 6.96       33.3 6.70       55.6 5.70       17.5 4.82       63.5 4.07       100.0 3.97       27.0 3.67       14.3 3.63       15.9 3.24       17.5 を示すセフブペラゾンの結晶性トリエチルアミン塩。 (3)9:1(v/v)の塩化メチレン/アセンを反応
    媒質として使用し、反応混合物を塩化メチレンに関して
    5〜10容量のアセトンで希釈することにより結晶性の
    塩を回収する、特許請求の範囲第(2)項記載の方法。
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