JPS61180435A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
- Publication number
- JPS61180435A JPS61180435A JP60020157A JP2015785A JPS61180435A JP S61180435 A JPS61180435 A JP S61180435A JP 60020157 A JP60020157 A JP 60020157A JP 2015785 A JP2015785 A JP 2015785A JP S61180435 A JPS61180435 A JP S61180435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- light
- light source
- optical device
- shutter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野〕
本発明は、半導体露光装置に好適な照明光学装置にｌ３
１Ｉする。
１Ｉする。
［従来技術Ｊ
半導体露光装置、特に投影露光装置における単一波長の
露光光束を水銀ランプ等の多色光源から得る場合、照明
光学装置内に使用波長以外の波長光をカットするフィル
タなどの波長選択手段を配置することは周知の通りであ
る。
露光光束を水銀ランプ等の多色光源から得る場合、照明
光学装置内に使用波長以外の波長光をカットするフィル
タなどの波長選択手段を配置することは周知の通りであ
る。
通常、この種の波長選択にはシャープカットオフフィル
タが用いられるが、光の吸収による熱が原因となってそ
の透過率特性が変化し、一般には透過率特性の長波長側
へのシフトとなって現われる。このため、露光用の使用
波長光に対する透過率の変化が生じ、例えばタイマーな
どを用いて一定時間だけシセッターを開けて露光する場
合に、露光を繰り返すにつれて光の吸収による温度上昇
でフィルタの透過率特性が変化し、露光の最初のほうと
最後のほうでは露光量に差を生じ、このような露光量の
不安定性は露光装置の解像力や線幅の再現性などに重大
な影響を与え、その解消が要望されている。
タが用いられるが、光の吸収による熱が原因となってそ
の透過率特性が変化し、一般には透過率特性の長波長側
へのシフトとなって現われる。このため、露光用の使用
波長光に対する透過率の変化が生じ、例えばタイマーな
どを用いて一定時間だけシセッターを開けて露光する場
合に、露光を繰り返すにつれて光の吸収による温度上昇
でフィルタの透過率特性が変化し、露光の最初のほうと
最後のほうでは露光量に差を生じ、このような露光量の
不安定性は露光装置の解像力や線幅の再現性などに重大
な影響を与え、その解消が要望されている。
［発明の目的と概要］
本発明は、前述の問題点を解決して安定な露光量を保証
できるようにしようとするもので、波長選択手段をシャ
ッターの光源側に配置することにより、波長選択手段の
光の吸収色がシャッタ〜の開閉に無関係となるようにし
て波長選択手段の透過率特性を装置のウオーミングアツ
プ後において定常的に安定化せしめ、目的波長の透過光
の露光量の変化を抑制するようにした照明光学装置を提
供するものである。
できるようにしようとするもので、波長選択手段をシャ
ッターの光源側に配置することにより、波長選択手段の
光の吸収色がシャッタ〜の開閉に無関係となるようにし
て波長選択手段の透過率特性を装置のウオーミングアツ
プ後において定常的に安定化せしめ、目的波長の透過光
の露光量の変化を抑制するようにした照明光学装置を提
供するものである。
本発明の照明光学装置では、波長選択手段が多色光源と
シャッターとの間に配置されることにより、波長選択手
段にはシ１１ツタ−の開閉による入射光量の変化はなく
、常に一定の光源光束の入射によって吸収光量の定常状
態が得られることになり、実用上の露光時間内において
波長選択手段の温度上昇による透過率特性の変化が無視
できるほど小さくなるものである。
シャッターとの間に配置されることにより、波長選択手
段にはシ１１ツタ−の開閉による入射光量の変化はなく
、常に一定の光源光束の入射によって吸収光量の定常状
態が得られることになり、実用上の露光時間内において
波長選択手段の温度上昇による透過率特性の変化が無視
できるほど小さくなるものである。
本発明の実施例を示せば以下の通りである。
［実施例］
第１図において、水銀ランプの如き多色光源１は楕円ミ
ラー２の第１焦点上にその発光中心を合致させて配置さ
れている。光源１がらの光は楕円ミラー２で集束光束と
なり、コールドミラー３で反射されてフィルター５およ
びシャッター６を順に通過してオブティカルインテグレ
ータ７により複数の光束に分けられ、ミラー４で反射さ
れたのち、コンデンサレンズ８によって照明面９上に集
光されている。
ラー２の第１焦点上にその発光中心を合致させて配置さ
れている。光源１がらの光は楕円ミラー２で集束光束と
なり、コールドミラー３で反射されてフィルター５およ
びシャッター６を順に通過してオブティカルインテグレ
ータ７により複数の光束に分けられ、ミラー４で反射さ
れたのち、コンデンサレンズ８によって照明面９上に集
光されている。
コールドミラー３は光＃ｉ１がらの集束光束のうちの長
波長成分を透過させて短波長成分のみの冷光を反射する
が、フィルター５はこの冷光のうちの特定波長成分のみ
をシャッター６を介してオブティカルインテグレータ７
に入射させ、他の不要波長成分は吸収する。
波長成分を透過させて短波長成分のみの冷光を反射する
が、フィルター５はこの冷光のうちの特定波長成分のみ
をシャッター６を介してオブティカルインテグレータ７
に入射させ、他の不要波長成分は吸収する。
通常の露光装置での焼付は工程では、アライメント中袋
ウェハ交換中はシャッター６が閉じており、露光のとき
だけシャッター６が開かれる。このため、もしフィルタ
ー５がシャッター６の後に配置されていると露光時以外
はフィルター５が光を吸収せず、周期的な露光の繰り返
しでフィルタの光の吸収も周期的となり、ステッパーの
ように露光の繰り返し周期が短かくなると、光の吸収に
よる温度上昇が毎回の露光で徐々に蓄積されて、フィル
ター５の温度が漸増することになり、これによるフィル
ター５の透過率特性の変化によって照射面９への露光量
が不安定になる。
ウェハ交換中はシャッター６が閉じており、露光のとき
だけシャッター６が開かれる。このため、もしフィルタ
ー５がシャッター６の後に配置されていると露光時以外
はフィルター５が光を吸収せず、周期的な露光の繰り返
しでフィルタの光の吸収も周期的となり、ステッパーの
ように露光の繰り返し周期が短かくなると、光の吸収に
よる温度上昇が毎回の露光で徐々に蓄積されて、フィル
ター５の温度が漸増することになり、これによるフィル
ター５の透過率特性の変化によって照射面９への露光量
が不安定になる。
これに対して本発明に従えば第１図に示すようにフィル
ター５はシャッター６の前に配置されていて常にコール
ドミラー３からの冷光を受けており、従って光源１の発
光強度特性をほぼ一定と見ＷｉＩば、フィルター５への
冷光の入射量は常に一定であり、装置のウオーミングア
ツプ以後はフィルター５はその吸収光ｍに関して定常状
態になっている。定常状態におけるフィルター５の温度
上昇による透過率特性の変化は極めて緩やかであり、ま
た必要に応じてフィルター５を空気の吹き付は等により
全面均一に強制冷却することで熱的に平衡させることも
でき、従って実際の露光時間範囲内でのフィルターの透
過率特性の変化は無視できるほど少ないものとなる。
ター５はシャッター６の前に配置されていて常にコール
ドミラー３からの冷光を受けており、従って光源１の発
光強度特性をほぼ一定と見ＷｉＩば、フィルター５への
冷光の入射量は常に一定であり、装置のウオーミングア
ツプ以後はフィルター５はその吸収光ｍに関して定常状
態になっている。定常状態におけるフィルター５の温度
上昇による透過率特性の変化は極めて緩やかであり、ま
た必要に応じてフィルター５を空気の吹き付は等により
全面均一に強制冷却することで熱的に平衡させることも
でき、従って実際の露光時間範囲内でのフィルターの透
過率特性の変化は無視できるほど少ないものとなる。
［発明の効果］
以上に述べたように、本発明によれば、波長選択手段へ
の入射光をシャッターの開閉と無関係に常に一定にする
ようにしたから、波長選択手段の熱的な定常状態を作り
出すことができ、従ってその透過率特性の変化を少なく
して露光量の安定化が達成されるものである。
の入射光をシャッターの開閉と無関係に常に一定にする
ようにしたから、波長選択手段の熱的な定常状態を作り
出すことができ、従ってその透過率特性の変化を少なく
して露光量の安定化が達成されるものである。
第１図は本発明の一実施例を示す光路図である。
１：多色光源、２：楕円ミラー、
３：コールドミラー、４：ミラー、
５：フィルター、６：シャッター、
７：オプテイカルインテグレータ、
８：コンデンサレンズ、９：照明面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、多色光源からの光束を照明面に導びく光路中に、前
記光源からの光のうちの特定波長領域の光束を選択して
通過させる波長選択手段と、光路中の光の通過を開閉す
るシャッタ手段とを有する照明光学装置において、多色
光源とシャッタ手段との間に波長選択手段を配置したこ
とを特徴とする照明光学装置。 ２、多色光源が水銀ランプである特許請求の範囲第１項
に記載の照明光学装置。 ３、波長選択手段が、極狭波長帯域の光束のみを通過さ
せるシャープカットオフフィルタを含む特許請求の範囲
第１項に記載の照明光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60020157A JPS61180435A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 照明光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60020157A JPS61180435A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 照明光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180435A true JPS61180435A (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=12019322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60020157A Pending JPS61180435A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180435A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101799632A (zh) * | 2009-02-09 | 2010-08-11 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP60020157A patent/JPS61180435A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101799632A (zh) * | 2009-02-09 | 2010-08-11 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
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