JPS61175636A - 感光性樹脂印刷版用現像処理剤 - Google Patents
感光性樹脂印刷版用現像処理剤Info
- Publication number
- JPS61175636A JPS61175636A JP1747585A JP1747585A JPS61175636A JP S61175636 A JPS61175636 A JP S61175636A JP 1747585 A JP1747585 A JP 1747585A JP 1747585 A JP1747585 A JP 1747585A JP S61175636 A JPS61175636 A JP S61175636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- type
- photosensitive resin
- processing agent
- surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は感光性樹脂印刷版用現像処理剤に関する。
〈従来の技術〉
従来、感光性樹脂印刷版の現像処理にホウ酸ナトリウム
、セスキ炭酸ナトリウム等とポリオキシアルキレングリ
コール系非イオン界面活性剤を使用する技術がある(例
えば、特公昭50−32643号公報)。
、セスキ炭酸ナトリウム等とポリオキシアルキレングリ
コール系非イオン界面活性剤を使用する技術がある(例
えば、特公昭50−32643号公報)。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明は、上記技術において現像処理版数の向上した高
性能の処理剤を得ること、かつ従来のホウ酸ナトリウム
と界面活性剤というように二種類の薬剤を混合熔解する
作業性の悪さを解消すべく鋭意検討した結果、本発明に
到達した。
性能の処理剤を得ること、かつ従来のホウ酸ナトリウム
と界面活性剤というように二種類の薬剤を混合熔解する
作業性の悪さを解消すべく鋭意検討した結果、本発明に
到達した。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、水溶性アミン化合物および/またはそのオキ
シアルキレンエーテル(A)とHLB 10以上の界面
活性剤(B)を含有してなることを特徴とする感光性樹
脂印刷版用現像処理剤である。
シアルキレンエーテル(A)とHLB 10以上の界面
活性剤(B)を含有してなることを特徴とする感光性樹
脂印刷版用現像処理剤である。
水溶性ア寥ン化合物および/またはそのオキシアルキレ
ンエーテル(A)としては、アルカノールアミン(モノ
、ジまたはトリエタノールアミン、プロパツールアミン
、シクロヘキシルエタノールアミンなど);低級アルキ
ルアミン(炭素数1〜4のアルキル基を有するモノまた
はジアルキルアミン、例えばエチル、ジメチル、ジエチ
ルおよびtert−ブチルアミンなど);テトラアルキ
ルヒドロキシアミン(テトラメチルヒドロキシアミン、
テトラエチルヒドロキシアミンなど);アルキレンジア
ミン(エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど
);ポリアルキレンポリアミン(ジエチレントリアミン
、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン
など) ;アルカノールアミンのオキシアルキレンエー
テル〔以下においてAOはアルキレンオキシド、EOは
エチレンオキシド、POはプロピレンオキシド、()内
の数字はAOの付加モル数を示す。モノエタノールアミ
ンPO(21、モノエタノールアミンPO(IIEO(
21など);アルキルアミンのAO付加物(エチルアミ
ンEO(2)、メチルアミンP O(21など);シク
ロアルキルアミンAO付加物(シクロヘキシルアミンE
O(21、シクロヘキシルアミンEOf21PO(1)
など);アルキレンジアミンのAO付加物(エチレンジ
アミンEO(31PO(11、エチレンジアミンEO(
21PO(21など);およびポリアルキレンポリアミ
ンのAO付加物(ジエチレントリアミンEO(51、ト
リエチレンテトラミンP OT21 E O(41など
が挙げられる。(A)の内で好ましいものは、アルカノ
ールアミン、アルカノールアミンのAO付加物、シクロ
アルキルアミンのAO付加物、およびテトラアルキルヒ
ドロキシアミンなどであり、特に好ましいものは、モノ
、ジ、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミンE
O(2)、テトラエチルヒドロキシアミンおよびモノエ
タノールアミンPO(11EO(21である。
ンエーテル(A)としては、アルカノールアミン(モノ
、ジまたはトリエタノールアミン、プロパツールアミン
、シクロヘキシルエタノールアミンなど);低級アルキ
ルアミン(炭素数1〜4のアルキル基を有するモノまた
はジアルキルアミン、例えばエチル、ジメチル、ジエチ
ルおよびtert−ブチルアミンなど);テトラアルキ
ルヒドロキシアミン(テトラメチルヒドロキシアミン、
テトラエチルヒドロキシアミンなど);アルキレンジア
ミン(エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど
);ポリアルキレンポリアミン(ジエチレントリアミン
、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン
など) ;アルカノールアミンのオキシアルキレンエー
テル〔以下においてAOはアルキレンオキシド、EOは
エチレンオキシド、POはプロピレンオキシド、()内
の数字はAOの付加モル数を示す。モノエタノールアミ
ンPO(21、モノエタノールアミンPO(IIEO(
21など);アルキルアミンのAO付加物(エチルアミ
ンEO(2)、メチルアミンP O(21など);シク
ロアルキルアミンAO付加物(シクロヘキシルアミンE
O(21、シクロヘキシルアミンEOf21PO(1)
など);アルキレンジアミンのAO付加物(エチレンジ
アミンEO(31PO(11、エチレンジアミンEO(
21PO(21など);およびポリアルキレンポリアミ
ンのAO付加物(ジエチレントリアミンEO(51、ト
リエチレンテトラミンP OT21 E O(41など
が挙げられる。(A)の内で好ましいものは、アルカノ
ールアミン、アルカノールアミンのAO付加物、シクロ
アルキルアミンのAO付加物、およびテトラアルキルヒ
ドロキシアミンなどであり、特に好ましいものは、モノ
、ジ、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミンE
O(2)、テトラエチルヒドロキシアミンおよびモノエ
タノールアミンPO(11EO(21である。
HLB 10以上の界面活性剤(B)において、HLB
はグリフイン氏の方法、周上博士の方法、ディビス氏の
方法、有機化合物の概念図の考え方を用いる小出博士の
方法、その他臨海ミセル濃度から求める方法などの方法
で求めることができる0通常ノニオン界面活性剤の場合
はグリフイン氏の方法などが使用される。POは疏水性
部分として求める。
はグリフイン氏の方法、周上博士の方法、ディビス氏の
方法、有機化合物の概念図の考え方を用いる小出博士の
方法、その他臨海ミセル濃度から求める方法などの方法
で求めることができる0通常ノニオン界面活性剤の場合
はグリフイン氏の方法などが使用される。POは疏水性
部分として求める。
また、アニオン界面活性剤はディビス氏の方法が通常使
用される。上記いずれかの方法で求め、肛B 10以上
であればよい。HLB 10以下のものと10以上のも
のとを混合使用してもよい、その場合、合計)ILBが
10以上になるよう混合比率を調整して使用することが
できる。界面活性剤のHLBが10未満では、現像処理
能力が低下し、十分な現像性が得られない。
用される。上記いずれかの方法で求め、肛B 10以上
であればよい。HLB 10以下のものと10以上のも
のとを混合使用してもよい、その場合、合計)ILBが
10以上になるよう混合比率を調整して使用することが
できる。界面活性剤のHLBが10未満では、現像処理
能力が低下し、十分な現像性が得られない。
HLBの求め方およびHLB 10以上の界面活性剤(
B)については、「新界面活性剤入門」、「界面活性剤
便覧」、「界面活性剤の合成とその応用」(第492〜
502頁、小田良平著、1959年槙書店発行)に記載
されている。(B)としては、「新界面活性剤入門」
(藤本武彦著、昭和48年12月1日三工注成工業−発
行)、「新界面活性剤」 (堀口博著、昭和50年lθ
月10日三共出版発行)、「石油製品添加剤」 (桜井
俊男著、昭和49年8月10日幸書房発行)、「界面活
性剤便覧」 (西一部他2名著、昭和35年7月5日産
業図書発行)、および特公昭57−39678号公報記
載のものが使用できる。
B)については、「新界面活性剤入門」、「界面活性剤
便覧」、「界面活性剤の合成とその応用」(第492〜
502頁、小田良平著、1959年槙書店発行)に記載
されている。(B)としては、「新界面活性剤入門」
(藤本武彦著、昭和48年12月1日三工注成工業−発
行)、「新界面活性剤」 (堀口博著、昭和50年lθ
月10日三共出版発行)、「石油製品添加剤」 (桜井
俊男著、昭和49年8月10日幸書房発行)、「界面活
性剤便覧」 (西一部他2名著、昭和35年7月5日産
業図書発行)、および特公昭57−39678号公報記
載のものが使用できる。
具体的には、HLB 10以上の界面活性剤の例として
下記のものを挙げることができる。
下記のものを挙げることができる。
(N)非イオン界面活性剤
(1)ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル
型(オクチルフェノールE061、ノニルフ、 / −
71zEO<21、ドブ’/ /L/ 7 エ/ −7
1zEOa51PO(21など) (2)ポリオキシエチレンポリプロピレンポリオール型
(プルロニックタイプにニーポールPE−68、ニュー
ポールPE−88(工注化成工業特製)など〕、テトロ
ニツタタイプ〔ニューボールNPH−2700(工注化
成工業特製)、テトロニック707(ワイアンドフト製
)など〕など) (3)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型(オク
チルアルコールEO((支)、オレイルアルコールEO
(至)PO(31など) (4)ポリオキシアルキレン多価アルコール脂肪酸エス
テル型(ソルビタンモノラウレー)EO(至)、ソルビ
タンモノステアレートEO(2)など)(5)ポリオキ
シアルキレンスチレン化アリールエーテル型〔スチレン
化(2)フェノールEO@、オルソフェニルフェノール
EO(至)、クミルフェノールP O(51E OC1
lなど〕 (6)ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル型〔モノオ
レイン酸ポリエチレングリコール(分子量600)エス
テルなど〕 (7)アルキロールアミド型(l:2型ヤシ油脂肪酸ジ
エタノールアミド、l:1型ヤシ油脂肪酸ジエタノール
アミドなど) (8)ポリオキシアルキレンアルキルアミン型(ステア
リルアミンEO51,ラウリルアミン80@など) (9)ポリオキシアルキルメルカプタン型(セチルメル
カプタンEO(至)など) (A)アニオン界面活性剤 (1)硫酸エステル塩系 fl)アルキル硫酸エステル塩型(ラウリルアルコール
硫酸エステルナトリウム塩など) (2)ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩型
(ラウリルアルコールI!0(31硫酸エステルナトリ
ウム塩、セチルアルコールE O(41硫酸エステルナ
トリウム塩など) (3)ポリオキシアルキレンアリールエーテル硫酸エス
テル塩(ノニルフェノールI!0(5)硫酸エステルナ
トリウム塩など) (4)高級脂肪酸エステルの硫酸エステル塩型(ヤシ油
脂肪酸モノグリセリド硫酸エステルナトリウム塩など) (5)高級脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩型
(ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸エステルナト
リウム塩など) (6)高度硫酸化油脂肪酸エステルおよび硫酸化脂肪酸
型(オレイン酸ブチルの硫酸化ナトリウム塩など) (ff)カルボン酸塩系(ラウリン酸ナトリウム塩など
) (I[r)スルホン酸塩系 (11アルキルベンゼンスルホン酸塩型(ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム塩など)(2)スルホコハク
酸エステル型(2−エチルへキシルスルホコハク酸エス
テルナトリウム塩すど) (3)(アルキル)ナフタリンスルホン酸塩および(ア
ルキル)ナフタリンスルホン酸塩のホルマリン縮金物型
(ジイソプロピルナフタリンスルホン酸ナトリウムなど
) (4)アルカンスルホン酸塩型〔014〜18を主体と
した直鎖第二級アルカンスルホネートナトリウム塩、例
えばHo5tapur 5AS−60(ヘキスト!!り
など〕 (5)α−オレフィンスルホン酸塩型(C12〜1日ヲ
主体としたα−オレフィンのスルホン酸ナトリウム塩、
例えばデタージエント95(ライオン製)など〕 (6)脂肪酸アミドスルホン酸塩型〔イゲボンT(1、
G製)など〕 (7)リグニンスルホン酸塩型(ナトリウム塩など)(
IV)リン酸エステル塩系 (11アルキルリン酸エステル塩型(ステアリルアルコ
ールリン酸モノエステルナトリウム塩など) (2)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エ
ステル塩型(ステアリルアルコールEOQIリン酸ジエ
ステルナトリウム塩など) (3)ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル
リン酸エステル塩型(ノニルフェノールEO(5)リン
酸ジエステルナトリウム塩など)CAM)両性界面活性
剤 (1)アミノ酸型〔ナトリウムラウリルジ(アミノエチ
ル)グリシンなど〕 (2)ベタイン型〔レボンl0IH(工注化成工業■製
)など〕 (C)カチオン界面活性剤 (1)第四級アンモニウム塩型(ドデシルトリメチルア
ンモニウムクロライドなど) (2)アミン塩型(ドデシルジメチルアンモニウムクロ
ライドなど) これらの界面活性剤の内で好ましいものは、非イオン界
面活性剤、アニオン界面活性剤、およびこれらの併用で
あり、特に好ましいものはポリオキシアルキルアリール
エーテル型、ポリオキシアルキレンスチレン化アリール
エーテル型、ホリオキシアルキレンアルキルアミン型、
アルキロールアミド型の非イオン界面活性剤、およびア
ルキルベンゼンスルホン酸塩型、α−オレフィンスルホ
ン酸塩型、アルカンスルホン酸塩型のスルホン酸塩系ア
ニオン界面活性剤である。
型(オクチルフェノールE061、ノニルフ、 / −
71zEO<21、ドブ’/ /L/ 7 エ/ −7
1zEOa51PO(21など) (2)ポリオキシエチレンポリプロピレンポリオール型
(プルロニックタイプにニーポールPE−68、ニュー
ポールPE−88(工注化成工業特製)など〕、テトロ
ニツタタイプ〔ニューボールNPH−2700(工注化
成工業特製)、テトロニック707(ワイアンドフト製
)など〕など) (3)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型(オク
チルアルコールEO((支)、オレイルアルコールEO
(至)PO(31など) (4)ポリオキシアルキレン多価アルコール脂肪酸エス
テル型(ソルビタンモノラウレー)EO(至)、ソルビ
タンモノステアレートEO(2)など)(5)ポリオキ
シアルキレンスチレン化アリールエーテル型〔スチレン
化(2)フェノールEO@、オルソフェニルフェノール
EO(至)、クミルフェノールP O(51E OC1
lなど〕 (6)ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル型〔モノオ
レイン酸ポリエチレングリコール(分子量600)エス
テルなど〕 (7)アルキロールアミド型(l:2型ヤシ油脂肪酸ジ
エタノールアミド、l:1型ヤシ油脂肪酸ジエタノール
アミドなど) (8)ポリオキシアルキレンアルキルアミン型(ステア
リルアミンEO51,ラウリルアミン80@など) (9)ポリオキシアルキルメルカプタン型(セチルメル
カプタンEO(至)など) (A)アニオン界面活性剤 (1)硫酸エステル塩系 fl)アルキル硫酸エステル塩型(ラウリルアルコール
硫酸エステルナトリウム塩など) (2)ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩型
(ラウリルアルコールI!0(31硫酸エステルナトリ
ウム塩、セチルアルコールE O(41硫酸エステルナ
トリウム塩など) (3)ポリオキシアルキレンアリールエーテル硫酸エス
テル塩(ノニルフェノールI!0(5)硫酸エステルナ
トリウム塩など) (4)高級脂肪酸エステルの硫酸エステル塩型(ヤシ油
脂肪酸モノグリセリド硫酸エステルナトリウム塩など) (5)高級脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩型
(ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸エステルナト
リウム塩など) (6)高度硫酸化油脂肪酸エステルおよび硫酸化脂肪酸
型(オレイン酸ブチルの硫酸化ナトリウム塩など) (ff)カルボン酸塩系(ラウリン酸ナトリウム塩など
) (I[r)スルホン酸塩系 (11アルキルベンゼンスルホン酸塩型(ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム塩など)(2)スルホコハク
酸エステル型(2−エチルへキシルスルホコハク酸エス
テルナトリウム塩すど) (3)(アルキル)ナフタリンスルホン酸塩および(ア
ルキル)ナフタリンスルホン酸塩のホルマリン縮金物型
(ジイソプロピルナフタリンスルホン酸ナトリウムなど
) (4)アルカンスルホン酸塩型〔014〜18を主体と
した直鎖第二級アルカンスルホネートナトリウム塩、例
えばHo5tapur 5AS−60(ヘキスト!!り
など〕 (5)α−オレフィンスルホン酸塩型(C12〜1日ヲ
主体としたα−オレフィンのスルホン酸ナトリウム塩、
例えばデタージエント95(ライオン製)など〕 (6)脂肪酸アミドスルホン酸塩型〔イゲボンT(1、
G製)など〕 (7)リグニンスルホン酸塩型(ナトリウム塩など)(
IV)リン酸エステル塩系 (11アルキルリン酸エステル塩型(ステアリルアルコ
ールリン酸モノエステルナトリウム塩など) (2)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エ
ステル塩型(ステアリルアルコールEOQIリン酸ジエ
ステルナトリウム塩など) (3)ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル
リン酸エステル塩型(ノニルフェノールEO(5)リン
酸ジエステルナトリウム塩など)CAM)両性界面活性
剤 (1)アミノ酸型〔ナトリウムラウリルジ(アミノエチ
ル)グリシンなど〕 (2)ベタイン型〔レボンl0IH(工注化成工業■製
)など〕 (C)カチオン界面活性剤 (1)第四級アンモニウム塩型(ドデシルトリメチルア
ンモニウムクロライドなど) (2)アミン塩型(ドデシルジメチルアンモニウムクロ
ライドなど) これらの界面活性剤の内で好ましいものは、非イオン界
面活性剤、アニオン界面活性剤、およびこれらの併用で
あり、特に好ましいものはポリオキシアルキルアリール
エーテル型、ポリオキシアルキレンスチレン化アリール
エーテル型、ホリオキシアルキレンアルキルアミン型、
アルキロールアミド型の非イオン界面活性剤、およびア
ルキルベンゼンスルホン酸塩型、α−オレフィンスルホ
ン酸塩型、アルカンスルホン酸塩型のスルホン酸塩系ア
ニオン界面活性剤である。
水溶性アミン化合物および/またはそのポリアルキレン
エーテル(A)と、FILB 10以上の界面活性剤(
B)の量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて通常
(A)が10〜80%、(B)が20〜80%、好まし
くは(A)が10〜70%、CB)が30〜90%であ
る。(A)が10%未満では十分な現像が得られず、現
像処理剤液中にスラッジが発生しやすい。また、(B)
が20%未満では現像処理剤液の疲労が早く、一定濃度
の浴液での処理版数(通し版枚数)が減少し、浮遊物質
が増加する。
エーテル(A)と、FILB 10以上の界面活性剤(
B)の量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて通常
(A)が10〜80%、(B)が20〜80%、好まし
くは(A)が10〜70%、CB)が30〜90%であ
る。(A)が10%未満では十分な現像が得られず、現
像処理剤液中にスラッジが発生しやすい。また、(B)
が20%未満では現像処理剤液の疲労が早く、一定濃度
の浴液での処理版数(通し版枚数)が減少し、浮遊物質
が増加する。
本発明現像処理剤は、通常水溶液で使用される。
(A)と(B)の量は、現像処理剤液の重量に基づいて
通常(A)が0.05〜10%、(B)が0.05〜1
0%、好ましくは(A)が0.1〜8%、(B)が0.
1〜8%である。液中の(A)濃度が0.05%未満で
は感光性樹脂版の未露光部の除去効率が著しく低下する
。また、現像処理剤液の一定量あたりの処理版数が限定
される。また、(A)が10%を越えると感光性樹脂版
の未露光部の除去効率には大した変化がない上に画線部
などにピンホールを生じたり、場合によっては画線部の
溶解までを起こすことになる。他方、(B)の濃度が0
.05%未満では未露光部の除去効率が著しく低下し、
また現像処理剤液中にスラッジが発生する。(B)が1
0%を越えても未露光部の除去効率に大した変化はなく
不経済である。
通常(A)が0.05〜10%、(B)が0.05〜1
0%、好ましくは(A)が0.1〜8%、(B)が0.
1〜8%である。液中の(A)濃度が0.05%未満で
は感光性樹脂版の未露光部の除去効率が著しく低下する
。また、現像処理剤液の一定量あたりの処理版数が限定
される。また、(A)が10%を越えると感光性樹脂版
の未露光部の除去効率には大した変化がない上に画線部
などにピンホールを生じたり、場合によっては画線部の
溶解までを起こすことになる。他方、(B)の濃度が0
.05%未満では未露光部の除去効率が著しく低下し、
また現像処理剤液中にスラッジが発生する。(B)が1
0%を越えても未露光部の除去効率に大した変化はなく
不経済である。
本発明の処理剤は、従来公知の種々の感光性組成物を用
いて作製される感光性樹脂版に対して通用される0本発
明の処理剤は例えば、特公昭35−5093号公報、特
公昭35−8495号公報、特公昭35−14719号
、特公昭43−19125号公報、特開昭56−120
718号公報およびカナダ特許第875503号明細書
などに示されている感光性組成物を感光層とする感光性
樹脂版などに通用することができる。
いて作製される感光性樹脂版に対して通用される0本発
明の処理剤は例えば、特公昭35−5093号公報、特
公昭35−8495号公報、特公昭35−14719号
、特公昭43−19125号公報、特開昭56−120
718号公報およびカナダ特許第875503号明細書
などに示されている感光性組成物を感光層とする感光性
樹脂版などに通用することができる。
感光性樹脂組成物としては、例えばAPR(商品名、旭
化成工業特製) 、Dycril (商品名、Du P
ont社製) 、Ti1on (商品名、Time社
製)、ゾンネ〔商品名、関西ペイント■製〕など多くの
会社で種々の特性を有するものが製造されている。これ
らは、この感光性樹脂組成物にネガフィルムなどの透明
画像担体を通して光を照射し光が照射された部分を重合
または分解させるレリーフ露光によって感光硬化または
分解させて現像処理液に対して不溶化または可溶化せし
めて後、感光硬化した部分または可溶化しない部分以外
を現像処理工程で除去して残った感光性樹脂をそのまま
レリーフとするものである。このように感光性樹脂組成
物としては、光硬化型と光分解型とに分類できるが、現
像処理工程は可溶部分を除去するという点において同じ
であるので、両方の型へ通用できる。
化成工業特製) 、Dycril (商品名、Du P
ont社製) 、Ti1on (商品名、Time社
製)、ゾンネ〔商品名、関西ペイント■製〕など多くの
会社で種々の特性を有するものが製造されている。これ
らは、この感光性樹脂組成物にネガフィルムなどの透明
画像担体を通して光を照射し光が照射された部分を重合
または分解させるレリーフ露光によって感光硬化または
分解させて現像処理液に対して不溶化または可溶化せし
めて後、感光硬化した部分または可溶化しない部分以外
を現像処理工程で除去して残った感光性樹脂をそのまま
レリーフとするものである。このように感光性樹脂組成
物としては、光硬化型と光分解型とに分類できるが、現
像処理工程は可溶部分を除去するという点において同じ
であるので、両方の型へ通用できる。
本発明の処理剤により処理し得る感光性樹脂印刷版の具
体例としては、不飽和ポリエステルにビニル単量体、光
重合開始剤および熱重合禁止剤を加えた光重合性組成物
を感光層とするものが挙げられる。前記不飽和ポリエス
テルとしては、アルキレンジオールまたはオキシアルキ
レンジオール(エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ブチレングリコールなど、またはそれらのオキシ
アルキレンエーテル)と、不飽和二塩基酸(マレイン酸
、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、
グルタコン酸など)または不飽和二塩基酸の一部を飽和
二塩基酸(コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸など)で置換した酸とのエステルが
挙げられる。
体例としては、不飽和ポリエステルにビニル単量体、光
重合開始剤および熱重合禁止剤を加えた光重合性組成物
を感光層とするものが挙げられる。前記不飽和ポリエス
テルとしては、アルキレンジオールまたはオキシアルキ
レンジオール(エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ブチレングリコールなど、またはそれらのオキシ
アルキレンエーテル)と、不飽和二塩基酸(マレイン酸
、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、
グルタコン酸など)または不飽和二塩基酸の一部を飽和
二塩基酸(コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸など)で置換した酸とのエステルが
挙げられる。
前記ビニル単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸
、それらのエステル、アクリルアミド、スチレンなどが
挙げられる。
、それらのエステル、アクリルアミド、スチレンなどが
挙げられる。
さらに、本発明の処理剤により処理し得る他の感光性樹
脂印刷版としては、従来のアルカリ現像により処理可能
な物質、例えばアクリル酸またはメタアクリル酸の共重
合体、特公昭35−5093号公報及び特公昭35−8
495号公報に記載されている側鎖にオキシ酸基を有す
るセルロース誘導体、ポリビニルアルコール、アクリル
アミド重合体、ゼラチン、ポリオキシエチレングリコー
ル、ポリオキシプロピレングリコールなどの水溶性高分
子物質、ポリオキシエチレングリコールとイソシアネー
ト基含有化合物とから得られるウレタンなどに、アクリ
ル酸、メタクリル酸それらのエステル、アクリルアミド
、スチレンなどのビニル単量体と光重合開始剤および熱
重合禁止剤を加えた光重合性組成物を感光層とするもの
を挙げることができる。
脂印刷版としては、従来のアルカリ現像により処理可能
な物質、例えばアクリル酸またはメタアクリル酸の共重
合体、特公昭35−5093号公報及び特公昭35−8
495号公報に記載されている側鎖にオキシ酸基を有す
るセルロース誘導体、ポリビニルアルコール、アクリル
アミド重合体、ゼラチン、ポリオキシエチレングリコー
ル、ポリオキシプロピレングリコールなどの水溶性高分
子物質、ポリオキシエチレングリコールとイソシアネー
ト基含有化合物とから得られるウレタンなどに、アクリ
ル酸、メタクリル酸それらのエステル、アクリルアミド
、スチレンなどのビニル単量体と光重合開始剤および熱
重合禁止剤を加えた光重合性組成物を感光層とするもの
を挙げることができる。
現像処理剤は通常0.1〜8重量%の水溶液として使用
される。その水溶液中へ必要により添加剤を併用使用で
きる。添加剤としては、たとえば有機溶剤、アルカリ塩
(炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど)、高級脂肪
酸(012〜G20の脂肪酸など)、防錆剤、尿素、還
元物質(アスコルビン酸、エチレンジアミンテトラアセ
テートなど)、第一スズ塩〈塩化第一スズなど)、第一
鉄塩(塩化第一鉄など)、亜鉛塩(硫酸亜鉛など)、水
溶性高分子化合物(カルボキシメチルセルロース、ポリ
ビニルアルコールなど)、有機酸(クエン酸、酒石酸な
ど)などが挙げられる。添加剤の量は、現像処理液の重
量に基づいて通常0.3%以下である。
される。その水溶液中へ必要により添加剤を併用使用で
きる。添加剤としては、たとえば有機溶剤、アルカリ塩
(炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなど)、高級脂肪
酸(012〜G20の脂肪酸など)、防錆剤、尿素、還
元物質(アスコルビン酸、エチレンジアミンテトラアセ
テートなど)、第一スズ塩〈塩化第一スズなど)、第一
鉄塩(塩化第一鉄など)、亜鉛塩(硫酸亜鉛など)、水
溶性高分子化合物(カルボキシメチルセルロース、ポリ
ビニルアルコールなど)、有機酸(クエン酸、酒石酸な
ど)などが挙げられる。添加剤の量は、現像処理液の重
量に基づいて通常0.3%以下である。
本発明の処理剤を使用する現像処理方法は、従来の方法
(特公昭50−23326号公報、特公昭50−326
43号公報など記載の方法)と同じようにして行うこと
ができる0例えば、常法に従って像形成露光した感光性
樹脂版を前記(A)および(B)を含む水溶液中に浸漬
するか、この水溶液を含ませたスポンジで擦るか、ある
いは感光性樹脂版にこの水溶液をノズルを通して吹き付
ける(通常温度10〜60℃、圧力0.5〜5−/−の
条件)か、ブラシ現像をすることによって行うことがで
きる。
(特公昭50−23326号公報、特公昭50−326
43号公報など記載の方法)と同じようにして行うこと
ができる0例えば、常法に従って像形成露光した感光性
樹脂版を前記(A)および(B)を含む水溶液中に浸漬
するか、この水溶液を含ませたスポンジで擦るか、ある
いは感光性樹脂版にこの水溶液をノズルを通して吹き付
ける(通常温度10〜60℃、圧力0.5〜5−/−の
条件)か、ブラシ現像をすることによって行うことがで
きる。
本発明の処理剤は、印刷版面などの作製に利用し得るだ
けでなく、その他の感光性樹脂材料を利用した各種の成
形、たとえば切文字、装飾用ディスプレー、ネームプレ
ートの製作にも用いることができる。
けでなく、その他の感光性樹脂材料を利用した各種の成
形、たとえば切文字、装飾用ディスプレー、ネームプレ
ートの製作にも用いることができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない、実施例中の部および
%は重量基準である。
はこれに限定されるものではない、実施例中の部および
%は重量基準である。
実施例1〜20
プロピレングリコール、エチレングリコール、フマル酸
およびアジピン酸をモル比で0.30 / 0.20/
0.25/ 0.25の割合で縮合させて得た不飽和
ポリエステル樹脂(酸価25) 100部、アクリル
酸20部、アクリルアミド20部、ベンゾイン1部およ
びハイドロキノン0.1部より成る感光性樹脂組成物を
用い、次の方法により像形成露光を行い、現像に供した
。
およびアジピン酸をモル比で0.30 / 0.20/
0.25/ 0.25の割合で縮合させて得た不飽和
ポリエステル樹脂(酸価25) 100部、アクリル
酸20部、アクリルアミド20部、ベンゾイン1部およ
びハイドロキノン0.1部より成る感光性樹脂組成物を
用い、次の方法により像形成露光を行い、現像に供した
。
水平に置いたガラス板上に新聞−実大のネガフィルムを
置き、その上を厚さ12μのポリエステルフィルムで覆
い、さらにその上に前記組成物をドクターナイフで0.
8 tm厚にコーティングした。
置き、その上を厚さ12μのポリエステルフィルムで覆
い、さらにその上に前記組成物をドクターナイフで0.
8 tm厚にコーティングした。
次いでコーティングされた樹脂組成物面を200μポリ
工ステルフイルム面より30秒、ネガフィルム面より3
分間、20W紫外線螢光灯を10本並列に組み合わせた
光線を用いて照射した。
工ステルフイルム面より30秒、ネガフィルム面より3
分間、20W紫外線螢光灯を10本並列に組み合わせた
光線を用いて照射した。
以上のような像形成露光をした感光性樹脂版を1.5k
r/−の噴射圧で表−1に示す各現像処理溶液を吹き付
け、2分間現像を行った。現像処理剤液は6ONで循環
使用し、30版の現像処理を行った。
r/−の噴射圧で表−1に示す各現像処理溶液を吹き付
け、2分間現像を行った。現像処理剤液は6ONで循環
使用し、30版の現像処理を行った。
現像処理結果を表−1に示す。
本頁以下余白
表−1(1)
表−1(2)
表−1(3)
(注)
アミン化合物等 ゛
DE^ ニジエタノールアミン
CIA ニジクロヘキシルアミンEO(2)MEA
:モノエタノールアミン ■TE:テトラエチルヒドロキシアミンMEAP :七
ノエタノールアミンPO(1)EO(2)TEA :
)リエタノールアミン にA :水酸化ナトリウム BAニホウ酸ナトリウム 界面活性剤 ^O5:α−オレフィンスルホネートナトリウム塩〔デ
タージェント95(ライオ ン製)〕 SAS :直鎮第二級アルカンスルホネートナトリ
ウム塩(SMS−60(ヘキスト製))ABS ニ
ドデシルベンゼンスルホネートナトリウム塩 ABST ニドデシルベンゼンスルホネートトリエタ
ノールアミン塩 OP−:オクチルフェノールー NP−jノニルフェノール− 3T(2JP−:スチレン化(2)フェノール−0PP
−:オルソフェニルフェノールーSA−:ステアリルア
ミン− vAD : l : 2型ヤシ油脂肪酸ジエタノー
ルアミド PE:フルロニック型〔ニューポールPH−68(工注
化成工業■製)〕 NPE :テトロニック型〔ニューポールNPH−
2700(工注化成工業■製)〕 L^−:う・ウリルアルコール− 5−60:ソルビタンステアリン酸モノエステル 現像性の評価は、次の基準で行った。
:モノエタノールアミン ■TE:テトラエチルヒドロキシアミンMEAP :七
ノエタノールアミンPO(1)EO(2)TEA :
)リエタノールアミン にA :水酸化ナトリウム BAニホウ酸ナトリウム 界面活性剤 ^O5:α−オレフィンスルホネートナトリウム塩〔デ
タージェント95(ライオ ン製)〕 SAS :直鎮第二級アルカンスルホネートナトリ
ウム塩(SMS−60(ヘキスト製))ABS ニ
ドデシルベンゼンスルホネートナトリウム塩 ABST ニドデシルベンゼンスルホネートトリエタ
ノールアミン塩 OP−:オクチルフェノールー NP−jノニルフェノール− 3T(2JP−:スチレン化(2)フェノール−0PP
−:オルソフェニルフェノールーSA−:ステアリルア
ミン− vAD : l : 2型ヤシ油脂肪酸ジエタノー
ルアミド PE:フルロニック型〔ニューポールPH−68(工注
化成工業■製)〕 NPE :テトロニック型〔ニューポールNPH−
2700(工注化成工業■製)〕 L^−:う・ウリルアルコール− 5−60:ソルビタンステアリン酸モノエステル 現像性の評価は、次の基準で行った。
現像度
○ :100%
Δ :99〜95%
×:90%以下
なお、現像度は次式に従って計算した。
Wl −W3
Wl :現像に供した版型量(g)
W2:現像終了後の版型量(g)
W3:完全現像した版型量(g)
完全現像とは、水酸化ナトリウムにより現像し、もはや
時間を延長しても版型量が変化しなくなったときの値を
示す。
時間を延長しても版型量が変化しなくなったときの値を
示す。
なお、現像処理後の現像液の状態はいずれも透明な状態
であり、比較例の場合には浮遊物質の版面への再不着が
みられた。使用済み現像処理液は水質環境項目であるホ
ウ酸規制による公害を与える心配がない。
であり、比較例の場合には浮遊物質の版面への再不着が
みられた。使用済み現像処理液は水質環境項目であるホ
ウ酸規制による公害を与える心配がない。
実施例21〜26
トリエチレングリコールジアクリレート30部、セルロ
ースアセテートサクシネート(アセチル置換度1.9、
サクシニル置換度0.7)67部、2−エチルアントラ
キノン0.13部、P−メトキシフェノール0.13部
を約90℃に加熱されたロールで十分に混合し、40k
g/−の圧力でプレスして0.6鶴の透明板にエポキシ
系の熱硬化接着剤ではり合わせて感光性樹脂版を作製し
た。
ースアセテートサクシネート(アセチル置換度1.9、
サクシニル置換度0.7)67部、2−エチルアントラ
キノン0.13部、P−メトキシフェノール0.13部
を約90℃に加熱されたロールで十分に混合し、40k
g/−の圧力でプレスして0.6鶴の透明板にエポキシ
系の熱硬化接着剤ではり合わせて感光性樹脂版を作製し
た。
これにネガサイクルを当て、実施例1の光源で5分間照
射した後、表−2に示す現像処理剤を用いて実施例1〜
20と同様な操作を行ったところ、現像性100%の良
好な結果を得た。
射した後、表−2に示す現像処理剤を用いて実施例1〜
20と同様な操作を行ったところ、現像性100%の良
好な結果を得た。
表−2
実施例27〜34
1.6−ヘキサンジオール615部(5,22モル)、
ネオペンチルグリコール233g (2,25モル)オ
ヨびアジピン酸867部(5,94モル)とエステル化
触媒としてP−トルエンスルホン酸8部を加え窒素雰囲
気中120〜180℃で常圧下2時間脱水縮合反応を行
い、次いで減圧度300〜30mHg、 220℃で5
時間反応させ、ポリエステルジオールA1を合成した。
ネオペンチルグリコール233g (2,25モル)オ
ヨびアジピン酸867部(5,94モル)とエステル化
触媒としてP−トルエンスルホン酸8部を加え窒素雰囲
気中120〜180℃で常圧下2時間脱水縮合反応を行
い、次いで減圧度300〜30mHg、 220℃で5
時間反応させ、ポリエステルジオールA1を合成した。
A1の酸価は1.2 mgKOR/ gで無水酢酸−ビ
リジン法による水酸基価は110 mgKOH/gであ
った・ 次いでAIを404部(0,40モル)とり、50℃の
油浴上で窒素雰囲気下、かきまぜながらトリレンジイソ
シアネート87部(0,50モル)を一度に加え50〜
85℃で4時間反応させ、透明な粘稠物質A2(推定分
子量5000)を得た。ジブチルアミン−塩酸逆滴定法
によるNCOの反応率は99.7%であった。
リジン法による水酸基価は110 mgKOH/gであ
った・ 次いでAIを404部(0,40モル)とり、50℃の
油浴上で窒素雰囲気下、かきまぜながらトリレンジイソ
シアネート87部(0,50モル)を一度に加え50〜
85℃で4時間反応させ、透明な粘稠物質A2(推定分
子量5000)を得た。ジブチルアミン−塩酸逆滴定法
によるNCOの反応率は99.7%であった。
次に反応系を空気雰囲気に切り換え、3.5−ジーte
r t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(以下、BI
Tと略す)を0.1部加え、80℃のまま10分間かき
まぜた後エポキシエステルD1 (水酸基価550mg
KOI(/g 1酸価5.3 mgKOR/g 1グリ
セリンモノメタクリレ一ト/グリコール酸GMA付加物
−7部3モル比)46部(0,22モル)とジブチル錫
ラウレート(以下、BTLと略す) 0.05部を加え
、80℃で2時間A2へのビニル基の導入反応を行った
。
r t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(以下、BI
Tと略す)を0.1部加え、80℃のまま10分間かき
まぜた後エポキシエステルD1 (水酸基価550mg
KOI(/g 1酸価5.3 mgKOR/g 1グリ
セリンモノメタクリレ一ト/グリコール酸GMA付加物
−7部3モル比)46部(0,22モル)とジブチル錫
ラウレート(以下、BTLと略す) 0.05部を加え
、80℃で2時間A2へのビニル基の導入反応を行った
。
反応の進行度は、赤外吸収スペクトロメーターで227
0ω−1のNGOの吸収ピークの変化を追跡したが、反
応1.5時間で僅かに吸収を認めたものの2時間後には
ほとんど痕跡程度となったことから、A2の末端にDl
がウレタン化反応により導入されたと判断した。続いて
、油浴を90℃に上げ、乳鉢で粉砕した無水コハク酸2
2部(0,22モル)を加え3時間反応させた。無水コ
ハク酸による半エステル化反応の進行度合は酸価で1時
間ごとに追跡し、3時間でほぼ一定となり、無色透明の
高粘稠物質Jを得た。Jの分子量は5900、不飽和当
量は2900と推定され、その酸価は24 mgKOR
/gであった。
0ω−1のNGOの吸収ピークの変化を追跡したが、反
応1.5時間で僅かに吸収を認めたものの2時間後には
ほとんど痕跡程度となったことから、A2の末端にDl
がウレタン化反応により導入されたと判断した。続いて
、油浴を90℃に上げ、乳鉢で粉砕した無水コハク酸2
2部(0,22モル)を加え3時間反応させた。無水コ
ハク酸による半エステル化反応の進行度合は酸価で1時
間ごとに追跡し、3時間でほぼ一定となり、無色透明の
高粘稠物質Jを得た。Jの分子量は5900、不飽和当
量は2900と推定され、その酸価は24 mgKOR
/gであった。
次ぎに、ジエチレングリコールジメタクリレート30部
と、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート30部と、
ベンゾインイソブチルエーテル3.2部と、BITo、
1部とを混合熔解した中に物質1100部を加えてよく
かきまぜ、感光性樹脂組成物を得た。
と、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート30部と、
ベンゾインイソブチルエーテル3.2部と、BITo、
1部とを混合熔解した中に物質1100部を加えてよく
かきまぜ、感光性樹脂組成物を得た。
この感光性樹脂組成物を用い、実施例1〜20と同様の
方法により、表−3に示す現像処理剤を用いて現像処理
を行ったところ、現像性100%の良好な結果を得た。
方法により、表−3に示す現像処理剤を用いて現像処理
を行ったところ、現像性100%の良好な結果を得た。
現像処理結果を表−3に示す。
本頁以下余白
表−3
〈発明の効果〉
本発明の現像処理剤は、現像処理版数の向上した高性能
のものであり、かつ−液型の現像処理剤なので現像処理
液の調製に際し従来の処理剤のように熱湯を用いて溶解
する作業が不要になり作業性が大幅に向上する。さらに
レジンが高濃度でも高性能の現像性を示し、現像速度を
短縮し得る。
のものであり、かつ−液型の現像処理剤なので現像処理
液の調製に際し従来の処理剤のように熱湯を用いて溶解
する作業が不要になり作業性が大幅に向上する。さらに
レジンが高濃度でも高性能の現像性を示し、現像速度を
短縮し得る。
また水酸化ナトリウムにおけるような取扱い上の危険も
ない。さらに金属に対する防錆作用があるため、廃液を
貯蔵するタンクおよびラインでの錆の発生が少ない(金
属への腐食が少ない)。
ない。さらに金属に対する防錆作用があるため、廃液を
貯蔵するタンクおよびラインでの錆の発生が少ない(金
属への腐食が少ない)。
特許出願人 旭化成工業株式会社
三洋化成工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水溶性アミン化合物および/またはそのオキシアル
キレンエーテル(A)とHLB 10以上の界面活性剤
(B)を含有してなることを特徴とする感光性樹脂印刷
版用現像処理剤。 2、水溶性アミンがアルカノールアミン、低級アルキル
アミン、シクロアルキルアミン、テトラアルキルヒドロ
キシアミン、アルキレンジアミン、およびポリアルキレ
ンポリアミンからなる群より選ばれる化合物である特許
請求の範囲第1項記載の処理剤。 3、(B)がポリオキシアルキレン型非イオン界面活性
剤および/またはスルホン酸系アニオン界面活性剤であ
る特許請求の範囲第1項または第2項記載の処理剤。 4、(A)と(B)の量が(A)と(B)の合計重量に
基づいて、(A)が10〜80%、(B)が20〜90
%である特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記
載の処理剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1747585A JPS61175636A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 感光性樹脂印刷版用現像処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1747585A JPS61175636A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 感光性樹脂印刷版用現像処理剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61175636A true JPS61175636A (ja) | 1986-08-07 |
Family
ID=11945029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1747585A Pending JPS61175636A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 感光性樹脂印刷版用現像処理剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61175636A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63106651A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-05-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | レジスト膜の形成方法 |
JPH05188602A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JP2002214800A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法 |
JP2008038971A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Kayaba Ind Co Ltd | リバウンドスプリング |
-
1985
- 1985-01-30 JP JP1747585A patent/JPS61175636A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63106651A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-05-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | レジスト膜の形成方法 |
JPH05188602A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JP2002214800A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法 |
JP4525885B2 (ja) * | 2001-01-12 | 2010-08-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法 |
JP2008038971A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Kayaba Ind Co Ltd | リバウンドスプリング |
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