JPS61174236A - 真空連続処理装置の制御装置 - Google Patents
真空連続処理装置の制御装置Info
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- JPS61174236A JPS61174236A JP1417785A JP1417785A JPS61174236A JP S61174236 A JPS61174236 A JP S61174236A JP 1417785 A JP1417785 A JP 1417785A JP 1417785 A JP1417785 A JP 1417785A JP S61174236 A JPS61174236 A JP S61174236A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、合成繊維やプラスチックフィルムなど被処理
物を真空状態で処理する真空連続処理装置に係わり、特
に良好な濃色化や色彩を要求される合成繊維など被処理
物のプラズマ処理に好適な制御装置に関するものである
。
物を真空状態で処理する真空連続処理装置に係わり、特
に良好な濃色化や色彩を要求される合成繊維など被処理
物のプラズマ処理に好適な制御装置に関するものである
。
従来、塩化ビニールフィルムなどの被処理物にプラズマ
処理する装置としては、例えば特開昭５７−１８７３７
号公報で示すものがある。この種の装置において、真空
処理室内を通過するフィルム速度、プラズマ放電用の高
周圧電圧、ガス供給量などフィルムのプラズマ処理に必
要な各処理条件の制御手段は、処理されたフィルムを肉
眼又は実験的にバッチ処理により確認の上オペレータの
判断により各々経験的に決定され、各単独に制御してい
た。
処理する装置としては、例えば特開昭５７−１８７３７
号公報で示すものがある。この種の装置において、真空
処理室内を通過するフィルム速度、プラズマ放電用の高
周圧電圧、ガス供給量などフィルムのプラズマ処理に必
要な各処理条件の制御手段は、処理されたフィルムを肉
眼又は実験的にバッチ処理により確認の上オペレータの
判断により各々経験的に決定され、各単独に制御してい
た。
したがって、塩化ビニールフィルムの可塑剤移行防止や
帯電防止など特に、濃色化や色彩を要求されない表面処
理を行なう場合には、特に問題はないが、被処理物が合
成繊維など特に良好な濃色化や色彩を要求される表面処
理の場合には、濃色。
帯電防止など特に、濃色化や色彩を要求されない表面処
理を行なう場合には、特に問題はないが、被処理物が合
成繊維など特に良好な濃色化や色彩を要求される表面処
理の場合には、濃色。
色彩にバラツキが多くなるため、不向きであった。
また、オペレータの判断によって行なうため、被処理物
における処理効果の再現性に乏しかった。
における処理効果の再現性に乏しかった。
さらに、オペレータが誤操作をした場合には、被処理物
に所期の目的と異なった処理が施されるなどの問題点を
有している。
に所期の目的と異なった処理が施されるなどの問題点を
有している。
本発明の目的は、被処理物に均一で、かつ良好な処理効
果（濃色化など）を得るようにした制御装置を提供する
ことにある。
果（濃色化など）を得るようにした制御装置を提供する
ことにある。
本発明は上記の目的を達成するために、被処理物の色を
検出する手段と、所望の処理効果を有する標準サンプル
の色を検出する手段と、これら検出値からの偏差に応じ
て供給手段又は給電手段を制御する手段を備えたことを
特徴とする。
検出する手段と、所望の処理効果を有する標準サンプル
の色を検出する手段と、これら検出値からの偏差に応じ
て供給手段又は給電手段を制御する手段を備えたことを
特徴とする。
以下本発明を第１図に示す一実施例により説明する。
第１図において、１は染色された合成繊維などの被処理
物Ｓを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室
で、この真空処理室１は真空ポンプ２により真空排気さ
れ、ガス供給手段のガス供給装置３からプラズマ特性を
良好にするためのアルゴンガス、窒素ガスが供給される
。４，５は真空処理室１の入口側および出口側に設けら
れるスリット通路で、このスリット通路４，５は大気側
から真空処理室１内への空気をシールする。６〜９は被
処理物Ｓを搬送するローラ、１０は板状の陰電極、１１
は陰電極１０に対向して配設される板状の陽電極で、こ
の陽電極１１には陰電極１０との間にプラズマ放電を発
生させるための高周波電圧が給電手段の高周波電源１２
から供給される。
物Ｓを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室
で、この真空処理室１は真空ポンプ２により真空排気さ
れ、ガス供給手段のガス供給装置３からプラズマ特性を
良好にするためのアルゴンガス、窒素ガスが供給される
。４，５は真空処理室１の入口側および出口側に設けら
れるスリット通路で、このスリット通路４，５は大気側
から真空処理室１内への空気をシールする。６〜９は被
処理物Ｓを搬送するローラ、１０は板状の陰電極、１１
は陰電極１０に対向して配設される板状の陽電極で、こ
の陽電極１１には陰電極１０との間にプラズマ放電を発
生させるための高周波電圧が給電手段の高周波電源１２
から供給される。
１３はドラムに巻かれている被処理物Ｓを真空処理室１
内へ移送する巻出し装置で、巻出し装置１３はモータ１
４により駆動される。１５は真空処理室１内で処理され
た被処理物Ｓを巻取る巻取り装置で、巻取り装置１５は
モータ１６により駆動される。１７は真空処理室と巻取
り装置１５との間に設けられた例えばアモルフｉスシリ
コンカラーの色検出用センサーで、このセンサー］−７
は真空処理室１でプラズマ処理された被処理物Ｓの濃色
を検出する６１８は所望の処理効果が達成されるように
処理された標準サンプルで、この標準サンプル１８は前
記被処理物Ｓと同様の合成繊維を使用する。１９は標準
サンプル１８の濃色を検出する色検出用センサーで、こ
のセンサー］９も前記センサー１７と同様である。２０
は前記陽電極１１へ高周波電源１２から供給される高周
波電圧を制御する制御装置で、制御装置２０は色検出用
センサー１７．１９からそれぞれ供給される検出値を比
較して偏差値に応じた高周波電圧値を演算する機能を有
している。また、制御装置２０には、標準サンプル１８
の処理時に求めた濃色と、高周波電圧との関係を示すデ
ータが記憶されている。
内へ移送する巻出し装置で、巻出し装置１３はモータ１
４により駆動される。１５は真空処理室１内で処理され
た被処理物Ｓを巻取る巻取り装置で、巻取り装置１５は
モータ１６により駆動される。１７は真空処理室と巻取
り装置１５との間に設けられた例えばアモルフｉスシリ
コンカラーの色検出用センサーで、このセンサー］−７
は真空処理室１でプラズマ処理された被処理物Ｓの濃色
を検出する６１８は所望の処理効果が達成されるように
処理された標準サンプルで、この標準サンプル１８は前
記被処理物Ｓと同様の合成繊維を使用する。１９は標準
サンプル１８の濃色を検出する色検出用センサーで、こ
のセンサー］９も前記センサー１７と同様である。２０
は前記陽電極１１へ高周波電源１２から供給される高周
波電圧を制御する制御装置で、制御装置２０は色検出用
センサー１７．１９からそれぞれ供給される検出値を比
較して偏差値に応じた高周波電圧値を演算する機能を有
している。また、制御装置２０には、標準サンプル１８
の処理時に求めた濃色と、高周波電圧との関係を示すデ
ータが記憶されている。
次に本発明装置の動作を説明する。
先ず真空ポンプ２を作動させることにより、真空処理室
］を真空排気する。また、真空処理室１内にはプラズマ
処理特性を良好にするためのアルゴンガス、窒素ガスな
どを封入する。
］を真空排気する。また、真空処理室１内にはプラズマ
処理特性を良好にするためのアルゴンガス、窒素ガスな
どを封入する。
次に送出し装置１３、過膜ローラ６〜９および巻取り装
ｆｌｔ１．５をモータ１４．．１６の駆動力により回転
させると共に高周波電源１２から高周波電圧を真空処理
室１内の陽電極］−２に供給する。この状態で被処理物
Ｓは、送出し装置１３からスリ９１〜通路４を経て真空
処理室］へ連続的に導入される。真空処理室１内では陰
電極１０、陽電極１］間で発生するプラズマ放電により
被処理物Ｓの表面にプラズマ処理が施される。そして真
空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｓは、スリ
９１〜通路５を経て巻取り装置］５により巻取られる。
ｆｌｔ１．５をモータ１４．．１６の駆動力により回転
させると共に高周波電源１２から高周波電圧を真空処理
室１内の陽電極］−２に供給する。この状態で被処理物
Ｓは、送出し装置１３からスリ９１〜通路４を経て真空
処理室］へ連続的に導入される。真空処理室１内では陰
電極１０、陽電極１］間で発生するプラズマ放電により
被処理物Ｓの表面にプラズマ処理が施される。そして真
空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｓは、スリ
９１〜通路５を経て巻取り装置］５により巻取られる。
このとき、プラズマ処理された被処理物Ｓの濃色は色検
出用センサー１６により検出すると共に電気信号に変換
されて制御装置２０に供給される。一方、制御装置２０
には予め色検出用センサー１９により検出された標準サ
ンプル１８の濃色に相当する検出信号が供給されている
。制御装置２０においては、前記雨検出信号を比較し、
偏差値に応じた高周波電圧値を演算する。この制御装置
２０には、予め標準サンプル１．８の処理時に求めた濃
色と高周波電圧との関係を示すデータが記憶されている
ため、これらのデータから前記高周波電圧値を演算可能
である。この演算された高周波電圧に相当する電気信号
は高周波電源１２に供給されるため、高周波電源１２で
は高周波電圧の増減制御が行なわれて、真空処理室１内
におけるプラズマ放電量が調整される。したがって、被
処理物Ｓの合成繊維には標準サンプル１７に見合う一定
の濃色化された良好な処理効果を施すことができる。ま
た、高周波電圧が最適に制御できるので、電気量などの
省エネルギー化を図ること。
出用センサー１６により検出すると共に電気信号に変換
されて制御装置２０に供給される。一方、制御装置２０
には予め色検出用センサー１９により検出された標準サ
ンプル１８の濃色に相当する検出信号が供給されている
。制御装置２０においては、前記雨検出信号を比較し、
偏差値に応じた高周波電圧値を演算する。この制御装置
２０には、予め標準サンプル１．８の処理時に求めた濃
色と高周波電圧との関係を示すデータが記憶されている
ため、これらのデータから前記高周波電圧値を演算可能
である。この演算された高周波電圧に相当する電気信号
は高周波電源１２に供給されるため、高周波電源１２で
は高周波電圧の増減制御が行なわれて、真空処理室１内
におけるプラズマ放電量が調整される。したがって、被
処理物Ｓの合成繊維には標準サンプル１７に見合う一定
の濃色化された良好な処理効果を施すことができる。ま
た、高周波電圧が最適に制御できるので、電気量などの
省エネルギー化を図ること。
第２図は本発明装置の他の実施例を示すもので、第１図
における色検出用センサー１７を、巻出し装置１３と真
空処理室１との間に設けた、いわゆるフィードフォワー
ド制御に関するものである。
における色検出用センサー１７を、巻出し装置１３と真
空処理室１との間に設けた、いわゆるフィードフォワー
ド制御に関するものである。
このように、処理以前の被処理物Ｓの濃色と、予め所望
の処理効果に処理された標準サンプル１８の濃色を事前
に検出し、真空処理室１内で処理するに必要なプラズマ
放電量、すなわち高周波電圧を予め設定できるので、一
定の濃色化された良好な処理効果を得ることは勿論、被
処理物Ｓの処理不充分なロスを少なくすることができる
。
の処理効果に処理された標準サンプル１８の濃色を事前
に検出し、真空処理室１内で処理するに必要なプラズマ
放電量、すなわち高周波電圧を予め設定できるので、一
定の濃色化された良好な処理効果を得ることは勿論、被
処理物Ｓの処理不充分なロスを少なくすることができる
。
第３図は本発明のさらに他の実施例を示すもので、この
実施例は第１図におけるフィードバック ゛制御方式
と第２図におけるフィードフォワード方式を組合せたも
のである。
実施例は第１図におけるフィードバック ゛制御方式
と第２図におけるフィードフォワード方式を組合せたも
のである。
この制御方式をとることにより、さらに良好な濃色化な
どの処理効果を得ることができる。
どの処理効果を得ることができる。
本発明の制御装置によれば、所望の処理効果を有する標
準サンプルの色と被処理物の色をそれぞれ検出し、これ
ら偏差値に応じてガス供給量やプラズマ放電量などを制
御するようにしたので、゛被処理物に均一で、かつ再現
性のある班好な処理効果を得ることができる。
準サンプルの色と被処理物の色をそれぞれ検出し、これ
ら偏差値に応じてガス供給量やプラズマ放電量などを制
御するようにしたので、゛被処理物に均一で、かつ再現
性のある班好な処理効果を得ることができる。
したがって、被処理物が合成繊維などの濃色化処理に適
用した場合には、大きな効果を発揮する。
用した場合には、大きな効果を発揮する。
第１図は本発明の真空連続処理装置の一例を示す概略構
成図、第２図は本発明装置の他の実施例を示す概略構成
図、第３図は本発明装置の更に他の実施例を示す概略構
成図である。 １・・・被処理物、３・・・ガス供給装置、１ｏ・・・
陰電極、１１・・・陽電極、１゛２・・・高周波電源、
１７，１．９・・・色検出用センサー、１８・・・標準
サンプル、２ｏ・・・制御装置。 第 １ 図 第 Ｚ 図
成図、第２図は本発明装置の他の実施例を示す概略構成
図、第３図は本発明装置の更に他の実施例を示す概略構
成図である。 １・・・被処理物、３・・・ガス供給装置、１ｏ・・・
陰電極、１１・・・陽電極、１゛２・・・高周波電源、
１７，１．９・・・色検出用センサー、１８・・・標準
サンプル、２ｏ・・・制御装置。 第 １ 図 第 Ｚ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空状態に保持される真空処理室と、該処理室内に
ガスを供給するための供給手段と、処理室内にプラズマ
などの放電を発生させるための給電手段とから成り、被
処理物を真空処理室内で連続的に処理する真空連続処理
装置において、前記被処理物の色を検出する手段と、所
望の処理効果を有する標準サンプルの色を検出する手段
と、これら検出値からの偏差に応じて前記ガス供給量お
よび給電量の少なくとも一方を制御する手段を備えたこ
とを特徴とする真空連続処理装置の制御装置。 ２、前記被処理物の処理前および処理後の少なくとも一
方の色を検出する検出器と、所望の処理効果を有する標
準サンプルの色を検出する検出器と、これら検出器から
の偏差に応じて高周波電圧を制御する手段を備えたこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空連続処 理装置の制御装置。 ３、前記制御手段は、被処理物の処理後の色を検出した
検出値と、前記標準サンプルの色を検出した検出値とを
比較し、これらの偏差値を演算する機能を有しているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の真空連続処
理装置の制御装置。 ４、前記制御手段は、前記被処理物の処理前の色を検出
した検出値と、前記標準サンプルの色を検出した検出値
とを比較し、これらの偏差値を演算する機能を有してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の真空連
続処理装置の制御装置。 ５、前記制御手段は、前記被処理物の処理前の色を検出
した検出値と、被処理物の処理後の色を検出した検出値
と、標準サンプルの色を検出した検出値とをそれぞれ比
較し、これらの偏差値を演算する機能を有していること
を特徴とする特許請求の範囲第２項記載の真空連続処理
装置の制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1417785A JPS61174236A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 真空連続処理装置の制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1417785A JPS61174236A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 真空連続処理装置の制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61174236A true JPS61174236A (ja) | 1986-08-05 |
Family
ID=11853858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1417785A Pending JPS61174236A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 真空連続処理装置の制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61174236A (ja) |
-
1985
- 1985-01-30 JP JP1417785A patent/JPS61174236A/ja active Pending
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