JPS61174140A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents

光フアイバの製造方法

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JPS61174140A
JPS61174140A JP1353985A JP1353985A JPS61174140A JP S61174140 A JPS61174140 A JP S61174140A JP 1353985 A JP1353985 A JP 1353985A JP 1353985 A JP1353985 A JP 1353985A JP S61174140 A JPS61174140 A JP S61174140A
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豪太郎 田中
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弘 横田
Hiroo Kanamori
弘雄 金森
Minoru Watanabe
稔 渡辺
Kazunori Matsui
和則 松井
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/02Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
    • C03B37/025Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
    • C03B37/0253Controlling or regulating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光伝送損失が極めて小さく、かつ放射線によ
る慣失劣下の少ないファイバの製造方法に関し、ファイ
バの線引き条件を特定することによりwにシングルモー
ド凰で特性の優れたファイバを得る製造方法に関する。
〔従来の技術] 従来、光ファイバとしては、コア部にはGoo□が添加
され九810.ガラス、クラッド部には純810冨 ガ
ラスを用いたものが一般的であシ、製法としてはMOV
D法、WAD法、OVD法等によシ作成されている。
これに対し、コアを純810g とし、クラッドをr添
加された810雪 (IF −sto鵞 と略す)とし
たガラスを用いたファイバが提案され、極低損失ファイ
バとして開発されてきた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記のコアが純810. 、クラッドが
’IP −810,のファイバは、耐放射線特性に関し
ては、未だ十分に満足できるものではないものもある点
が問題となっている。
本発明の目的は、コアがN810z、クラッドがIF 
−810,のファイバにおける上記問題点を解決し、初
期伝送損失が小さく、かつ放射線環境下での特性劣下の
少ないファイバの製造方法を提供することを目的とする
〔問題点を解決するための手段〕
すなわち本発明は、光ファイバの製造方法において、コ
ア部が石英ガラスからなり、クラツド部が少なくとも弗
素を含有するガラス母材を形成し、該母材を線引炉にて
加熱し、張力2−5ゆ/、2以下の条件にて引出すこと
を特徴とする光ファイバの製造方法である。
以下に本発明に到達した経緯および本発明の方法の詳細
を説明する。
本発明者らは、コアが純810. 、クラッドがIP 
−810,からなるファイバの耐放射線特性向上につき
詳細な検討を行った結果、ガラス母材の線引条件がこの
ような構造のファイバにおいて、その特性に固有の影響
を及ぼすことを見出した。
即ち、従来の()e02−810zコア型フアイバでは
、ファイバ用母材の線引条件として、温度約2000℃
程度にて行っているが、この温度を上げてゆくと一般に
ロス(伝導損失)が多少増〜857)。又、これら線引
条件に関する耐放射[%性の有為な変化の報告はない。
これに対し、S10.コア、?−810冨クラッド型フ
ァイバでは、線引時の引張張力と初期伝送特性について
は殆んど相関がみられないが、耐放射線特性において明
確な相関関係が存在し、適正な張力で線引すると、耐放
射線特性が大きく向上できることを本発明者らは詳細な
実験の結果見出した。
第1図に810! コア、F’−810,クラッド型フ
ァイバの線引張力(横軸= h/=2 >と耐放射線特
性(60coのγ線で5X10’R照射後における損失
増加値(dB/km ) ]の関係をグラフとして示す
以上の現象は、定性的には以下の様に説明することがで
きる。即ち、一般によ)低温下で高張力線引を行なうと
、ガラスのミクロな構造であるネットワーク結合の切断
される機会が多くなシ、これによ〕放jM巌劣下を生じ
させる欠陥の発生が増す。特に? −810,ガラスは
元々ネットワークが部分的に切断された構造をとってい
るため著しくその結合が切れ易くなっている。
つまfi、810.コア、?−810.クラッド凰のシ
ングルモードファイバではこのクラッド部分での放射線
によるロス増が大きく影響を与え、特性劣下を発生させ
るが、一方よシ高温下で低張力線引を行なうと以上の欠
陥発生が防止できると考えることができる。
これに対し、G e 02− B i 02  ガラス
では、?−810! ガラスに比ベネットワーク切断が
生じ難くなっておシ、線引下の張力によシ欠陥ができに
くくなっている。逆によシ高温下の低張力線引条件は Ge01 −*  GeO−)−”AOtの反応による
欠陥の発生が起シ、耐放射線特性に対し劣下要因となシ
かねないと考えらnる。
すなわち、IF−810,ガラスを光伝送が生じる活性
領域としたファイバ、特にコアが810.、クラッドが
If −Sin、であるシングルモードファイバなどで
、低張力線引が欠陥発生を防ぎ、耐放射線特性がよくな
るものと考えることができる。
したがって、以上の新規な知見に基き本発明の方法は、
810鵞 コア、y−stow クラッドの母材の線引
を張力2.、5 kg/■2以下にて行うものである。
なお従来このような低張力線引は線径変動を生じ易くな
る等の理由で実用されておらず一般に3〜7kll/m
”程度であシ、また放射線特性に対する張力の影響も考
慮されていなかった。
以下に本発明の方法を具体的に説明する。
第2図は、MO’VD法、Ov′D法、VAD法或いは
ロットインチューブ法(コア用ガラスロッドとクラッド
用ガラスパイプを組合せ、外部から加熱・溶着すること
によシ線引用母材を作る方法)などで形成され丸線引用
ガラス母材を示す図であシ、1は810.ガラスからな
るコア部、2は少なくともrが添加されたコアよシも屈
折率の低いクラッド部である。
第3図は本発明に用いられる線引装置の概要を示す図で
あ)、3は線引用ガラス母材、4は線引用抵抗炉、5は
ガラス母材送シ装置、6は外径モニタ、7はコーティン
グ用ダイス、8はコーティング材料、9はコーティング
の乾保炉、10はキャプスタン、11はファイバーの巻
きとシ用ドラムである。線引時の引張張力はガラス母材
の粘性、外径、線引温度、ファイバの線引速度によって
決まる。線引張力は第4図に示す様な簡単な張力針を用
いて計ることができる。
第4図中12はファイバ、13は本体15に軽いバネで
固定された回転リールであシ、ファイバ12の張力を受
けて押し縮められる。14.16は中心位置が固定され
た回転リールである。
ファイバをこの回転リール14.16にひっかける時に
は本体15から位置をはなすことができる。17はリー
ル13の移lIh賃に、比例して変位する針であシ、こ
の位置を読むことで、線引張力を知ることができる。
ガラス母材及び線引速度、線引径を予め決めた場合、線
引温度を変えることで簡単に線引張力を設定できる。線
引の蛾初の段階で、コーティングダイスの前或いは後の
箇所で線引されている7アイパに張力計を触れさせて張
力を測定し、所定の条件になれば張力針をはずして線引
を行なう。
〔実施例〕
実施例1 コア用純S10.ガラスロツドの外周部に火炎加水分解
外付法で810.ガラス微粒子を堆積させ、熱処理炉で
脱水及び弗素添加を行い、さらに焼結することで、コア
が810.、クラッドが? −810,の線引用ガラス
母材を作成した。このガラス母材を外径20mMに延伸
し、さらに表1に示す3種類の嶽引条件によシ、外径1
25μm1コア径8μm1コアとクラッドの屈折率差(
LSIのシングルモードファイバ(タイプA)を作成し
た。
得られたファイバ(−1〜3)に、101R/■の照射
線量率で@@ Coのγ巌を30分間照射したものの、
波長1.3μmにおける損失増加蓋は、表1に示すとお
シで、線引張力五2 Kll/1m2の1lh1は70
 aB/kmと大きく、本発明の2.5ユ/ m ”以
下で行った翫2と−3は夫々45 an/m、s o 
an/kmと損失増加量が顕著に低減した。
実験例4〜7 火炎加水分解外付法において原料として、ごくわずかの
P、 o、  を添加した以外鉱実験例1〜3と同様に
して、表1に示す4111のシングルモードファイバ(
タイプB)を作成し、同様に放射線照射実験を行ない、
損失増加量を調べた。
この結果も表1に合せて示す。本発明の−5〜7の損失
増加量は明らかに低減していることがわかる。
表1 〔発明の効果〕 以上の説明及び表1の結果から明らかなように1線引張
力2.5に97wm”で引き出す本発明の方法は、従来
の方法に比し放射線による損失増加量の少ないコアが石
英、クラッドが少なくとも弗素を含有する石英からなる
光ファイバを得ることができる。
4、面の簡単な説明 第1図は5102  コア、F −SiO雪クチクラッ
ド型ファイバ引張力と耐放射縁特性(照射後の損失増加
盆で示す)の関係を示すグラフ、第2図は線引用ガラス
母材の説明図、 第3図は本発明に用いられる線引装置の1例を概略説明
する図、 第4図は張力計を説明する図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光ファイバの製造方法において、コア部が石英ガ
    ラスからなり、クラッド部が少なくと弗素を含有するガ
    ラス母材を形成し、該母材を線引炉にて加熱し、張力2
    .5kg/mm^2以下の条件にて引出すことを特徴と
    する光ファイバの製造方法。
JP1353985A 1985-01-29 1985-01-29 光フアイバの製造方法 Granted JPS61174140A (ja)

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