JPS6116901A - カルボキシメチルセルロ−スの第四アンモニウム塩及びその製造法 - Google Patents

カルボキシメチルセルロ−スの第四アンモニウム塩及びその製造法

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JPS6116901A
JPS6116901A JP59138697A JP13869784A JPS6116901A JP S6116901 A JPS6116901 A JP S6116901A JP 59138697 A JP59138697 A JP 59138697A JP 13869784 A JP13869784 A JP 13869784A JP S6116901 A JPS6116901 A JP S6116901A
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ammonium salt
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肇 浪越
Takeo Omiya
大宮 武夫
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08BPOLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B11/00Preparation of cellulose ethers
    • C08B11/02Alkyl or cycloalkyl ethers
    • C08B11/04Alkyl or cycloalkyl ethers with substituted hydrocarbon radicals
    • C08B11/10Alkyl or cycloalkyl ethers with substituted hydrocarbon radicals substituted with acid radicals
    • C08B11/12Alkyl or cycloalkyl ethers with substituted hydrocarbon radicals substituted with acid radicals substituted with carboxylic radicals, e.g. carboxymethylcellulose [CMC]

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は新規なカルボキシメテルセ/L’ロースの第
四アンモニウム塩に関し、詳しくは無水グルコース単位
当りのカルボキシメチμ基による置換度(以下DSと呼
称する)が1.5〜3.0のカルボキシメチルセルロー
スC以下CMOと呼称する)の第四アンモニウム塩及び
その製造法に関する。
(ロ)従来技術 力yボキシメチルセルロースは、セルロースに、アルカ
リの存在下モノクロル酢酸を作用させて製造サレるセル
ロースエーテルで1L水水溶性分子電解質として増粘剤
、分散剤、保護コロイド剤、接着剤などとして広く使用
されている。
従来のCMCは、DSが0.5〜1.7のものが一般的
であシ、特にDSが1.5以下のナトリウム塩が広く市
販されている。また第四アンモニウム塩やカルシウム塩
も一部に市販されており、力μシウム塩は水に不溶で主
として崩壊剤として使用されている。
これまで、  CMCの第四アンモニウム塩としては、
ジメチルラウリルセチルアンモニウム8!(西独特許第
1,103,336号公報)、トリメチルオクタデシル
アンモニウム塩(米国特許第2,881,074号公報
)、ドデシ〜ジメチA/ (3,4−ジクロロベンジ/
L/)アンモニウム塩(Deut、Apotheker
−Ztg、 、 106(35) 。
1206−8(1966) )、テトフデシμビリジニ
クム塩及びセチルトリメチルアンモニウム塩(phar
m。
工nd、、 37.(2)、100.(1975) )
などが知られている。
これらのCMOの第四アンモニウム塩は、CMCの可溶
性高分子物質としての特性を利用するとともに、第四ア
ンモニウム基の有する特性を利用する用途に用いられる
ものである。しかしこれら(QCMC第四アンモニウム
塩は、CMO(2)DSがいずれも1.5未満のもので
あシ、第四アンモニウム基はCMCの力μボキシメテμ
基と1:1の分子比率で反応するものであるから、導入
できる第四アンモニウム基はグμコース単位当り1.5
分子未満であ如、これ−番− 以上の量の第四アンモニウム基の特性を利用することが
できない。さらに第四アンモニウム基の分子量が小さい
とき(アルキル基が低級の場合など)は水溶性(有機溶
媒には不溶)であるが、第四アンモニウム基の分子量が
大きくなると(アルキル基が高級の場合など)非水溶性
であシ、さらにアルコールやアセトンのような極性溶媒
やトルエンのような非極性溶媒にも充分に溶解しない。
したがって溶液として用いる用途には使用できない。
(ハ)発明の目的 この発明の目的は上記の状況においてなされたものであ
って、導入する第四アンモニウム基を増やすことによシ
、その特性をよ)一層利用できて、しかも第四アンモニ
ウム基の種類を選択することによって水や有機溶媒に溶
解しうるCMCの第四アンそニウム塩を得ることKある
(=)発明の構成 この発明は、下記式: (式中、Rは水素原子又は力pボキシメチル基の第四ア
ンモニウム塩であり、nは10〜1000である。但し
無水グルコース単位当りカルボキシメチyv4の置換度
は1.5〜3.0であり、カルボキシメチル基の第四ア
ンモニウム塩は、開式: で表され R1−R4はそれぞれC!〜3oの直鎮もし
くは分枝状の飽和もしくは不飽和の脂肪族炭化水素基、
又はアラμキル基であり、またR1−R4の何れか2者
もしくは3者が窒素原子を介して5又は6貝環を形成し
てもよい) で表されるカルボキシメチルセルロースの第四アンモニ
ウム塩を提供するものである。
分子量の比較的小さいものとしては、テトラメチルアン
モニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラn−プロ
ピルアン七ニウム、テトフイソプロピルアンモニウム、
テトラn−ブチルアンモニウム、テトラn−ベンチルア
ンモニウム、テトフn−アミルアンモニクム、ジメチル
ジベンジルアンモニウム、トリエテμベンジ〜アンモニ
ウム、[すn−プロピルベンジルアンモニウム、トリn
−ブチルベンジルアンモニウムなどが挙げられる。
第四アンモニウム塩の分子量が大きなものとしては、ラ
ウリルトリメチルアンモニウム、テトフデシルジメチル
ベンジルアンモニウム、ステアリルトリメチルアンモニ
ウム、トリオクチルメチルアンモニウム、ジメチルジス
テアリルアンモニウム、ジ)fpオレイ〃リノリpアン
モニウム、トリメチルモノベヘ二〜アンモニウム、メチ
ルトリラウリルアンモニウムなどが挙げられる。
−ツ − また第四アンモニウム塩が環状第四アンモニウム塩のも
のとしては、ピリジニウム、ラウリルピリジニウム、ピ
ペリジニウム、ビロリウム、ピロリジニウムなどが挙げ
られる。
この発明のCMOの第四アンモニウム塩で第四アンモニ
ウム基の分子量が比較的小さいものは一般に水溶性であ
るが有機溶媒には不溶性である。
例えば第四アンモニウム塩がテトラn−ブチルアンモニ
ウム、テトフn−アミルアンモニウム、ジメチルジベン
ジルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、
トリn−ブチルベンジルアンモニウムなどのものは、い
ずれ4水溶性であるが、アルコール、アセトンなどのご
とき極性有機溶媒やトルエンのような鱗性有栽溶謀には
不溶性である。
一方、この発明のCMCの第四アンモニウム塩で第四ア
ンモニウム基の分子量が大きいものは一般に非水溶性で
あるが、第四アンモニウム八によって種々の有機溶媒に
可溶なものが得られる。例えば第四アンモニウム基がツ
ウリルトリメチルアン= 8− モニクム、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウム
、ステアリルトリメチルアンモニウムなどのものはいず
れも非水溶性であるが、CMCのDS値1.5以上でメ
タノールやエタノールに可溶性となる。またトリオクチ
〃メチμアンモニウム塩も非水溶性であるが、 CMC
のDS*が1.6以上になるとメタノール、エタノール
、インプロパツール(工PA)に可溶性となり、さらに
f)S[が2.0以上になるとトルエンのような炭化水
素にも溶解するようになる。またジメチpジステアリμ
アンモニウム塩は、 DSが2.84のCMCの場合、
ベンゼンなどの炭化水素に溶解する。
また第四アンモニウム基が環状第四アンモニウム塩のも
の、例えばラウリルピリジニウムアンモニウム塩は、C
MCのDS[にか\わらず非水溶性であるが、DS[が
2.5以上になると低級アルコ−μ類に可溶となる。
上記のように、この発明によれば、第四アンモニウム塩
を選択することによって、水溶性及び各種有機溶媒に可
溶性のCMC第四アンモニウム塩が得られ、CMCの可
mL4:高分子物質としての特性、すなわち増粘性、保
護コロイド性などを有するとともに、第四アンそ=ラム
試の特性、例えば帯電防止性を利用したプラスチックの
帯電防止剤、毛髪との親和性を利用した化粧料などの広
範な用途に用いることができる。しかもCMCのDS値
が従来のものより高いので、結合する第四アンモニウム
基の麓が増大する。したがって従来のCN1C第四アン
モニウム塩よりも第四アンモニウム基の特性を強く保有
させることができる。
この発明は、無水グルコース単位当りのカルボキシメチ
A4による置換度が1.5〜3.0のカルボキシメチル
セ/L’ロース又はその塩の溶液と、対応する第四アン
モニウム化合物もしくはその溶液とを混合して反応させ
、生成したカルボキシメチルセρロース第四アンモニウ
ム項を分離精製することからなる下記式: (式中、Rは水素原子又はカルボキシメチル基の第四ア
ンモニウム塩であり、nは10〜1000である。似し
無水グルコース単位当ジカルボキシメチル基の置換度は
1.5〜3.0であバカμボキシメチル基の第四アンモ
ニウム塩は、副成: R′ で表され R1−R4はそれぞれ01〜goの直鎮もし
くは分枝状の飽和もしくは不飽和の脂肪族法化水素X。
又はアラルキIv基であり、またR1−R4の何れが2
者もしくは3者が窒素原子を介して5又は6貝環を形成
してもよい) で表される力pボキシメチルセルロースの第四アンモニ
ウム塩の製造法を提供するものである。
上記製造法に用いられる出発原料として用いられるDS
 1.5〜3.0のCMCは、例えば特開昭58−17
6202号公報に記載の多段エーテル化法で得られるも
のなどを用いることができる。またこのCM(4)in
を出発原料として用いる場合には、ナトリウム塩やカリ
ウム塩のごときアルカリ金属塩、力pシクム塩が挙げら
れるがナトリウム塩が好ましいものである。
上記CMCと反応させる出発原料の対応する第四アンモ
ニウム化合物としては、その陰イオンが塩素、臭s、弗
素の各イオンのようなノーロゲンイオン、硫酸イオン、
硝酸イオン、リン酸イオンなどの第四アンモニウム化合
物である。
上記2つの原料を反応させるには、少なくともCMCも
しくはその塩を溶液の形態としておいて、両原料を接触
させて反応させればよい。特にCMCの塩の水溶液に、
対応する第四アンモニウム化合物もしくはその水溶液を
添加して反応させるのが好ましい。
また上記反応は通常室温近傍で行われる。
また第四アンモニウム化合物は、CMC中のカルボキシ
メチル基と当量あるいは過剰量で用いるのが好ましいが
、当量よりも少ない量で反応させることもできる。
上記のようにして得られた反応混合液から、次のように
してCMCの第四アンモニウム塩が得られる。
生成したCMC第四アンモニウム塩が水溶性の場合には
、アルコ−μ、アセトンのような親水性溶媒を添加して
沈澱させ、これら溶媒の含水液で洗浄して第四アンモニ
ウム化合物を除去した後乾燥する。
生成し7’(CMC第四アンモニウム塩が非水溶性の場
合は、生成した沈澱を水でよく洗浄後乾燥する。
次にこの発明な実施例によって説明する。
実施例1 下記のごとき各種DS、粘度のCMCナトリウム塩の1
%水溶液200tに、当量よシ1096過剰の下記各種
第四アンモニウム化合物を添加し、次いでアセトンを加
えて沈澱させた後%9o96アセトン水m液で洗浄し、
常温で真空乾燥して、各CMC第四アンモニウム塩を得
た。得られた生成物はいずれも水溶性であったがエタノ
ールなどの低級アルコールには不溶性であった。
1)使用したCMCナトリウム塩 DS        196水溶液粘度(cps )1
.50               20001、f
58                 :La2O2
,94276 2,4,12C13 2,8484 0使用した第四アンモニウム化合物 ベンジルトリエテ〃アンモニウムクロリドベンジルトリ
ブチルアンモニウムクロリドテトラn−プチルアンモニ
ウムクロリドテトヲn−アミルアンモニウムクロリドジ
メチルジベンジルアンモニウムクロリド実施例2 下記のごとき各種DS、粘度のCMOナトリウム塩の1
%水溶液200vに、当量よ1.096過利の下記第1
表に示す各種第四アンモニウム化合物を添加し攪拌し友
。生成した沈澱をP別し、充分水洗した後常温で真空乾
燥して各CMC第四アンモニウム塩を得た。これら生成
物の溶解性を第1表に示した。
なお第四アンモニウム化合物としてジメチルジステアリ
ルアンモニウムクロリドを用いて上記と同様にして作製
したCMC第四アンモニウム樵ハ、CMCDSが2.8
4の場合ベンゼンなどの灰化水素に可溶性であった。
1)使用したCMCナトリウム塩 DS         I9696水溶液粘 QI1日
)1.2’7                 17
521.3’7                 1
’7241.46                 
18201.50                 
20001.94                 
  2762.41                
   203に、口’k              
          84(j久下余白、 、と欠員l
jえ〈) −2〇 − 上記実施例において作製された7種のCMC第四アンモ
ニウム塩の赤外線吸収スペクトμ(KBr法)を第1〜
7図に示した。
第1図 フウリルビリジニクムカpボキシメチルセ〜ロ
ース(CMOのDS 2.84 )主要な吸収帯   
3050QI11  芳香族C−H伸縮振動1600礪
    −cockカμボン酸のa=o伸縮振動290
0、 2850 −CH!−C−H伸縮振動690、ツ
20   モノ置換ピリジン骨格振動980〜1170
− セ/L/ロースのC−O伸縮振動及びグルコース環
の振動 WI2図 テトラデシルジメチルベンジルアンモニウム
カルボキシメチルセルロース (C!MCI) DS 2.41 ) 主要な吸収帯 1600 (!Jll    −cOOe2900、2
850  −CH2− 710、’730    七)置換フェニル980〜1
1フOαl セルロースのc−o仲m彪動及びグルコー
ス環 第3図 ラフリルトリメチルアンモニウム カルボキシ
メチルセルロース(CMCのDSl、94)主要な吸収
帯 1600 am    −Co(f’ 2900、2850 −CH2− 980〜11)0儂  セルロースのC−0伸縮振動及
びグルコース環 第4図 トリオクチ〃メチμアンモニウム カルボキシ
メチルセルロース(CMCのDS2.41)主要な吸収
帯 1600 err    −Cooe 2900、2850 −CH,− 1000〜1m70QI!  セルロースのC−O伸縮
振動及びグルコース環 第5図 テトラブチルアンモニウムカルボキシメチルセ
ルロース (CMCのI)S2.84)主要な吸収帯 1600部   −cocf” 2930m+     CHl− 1000〜11フO(1&l   セルロースのC−0
伸縮振動及びグpコース環 第6図 ステアリルトリメチμアンモニウム カルボキ
シメチルセルロース(CMCのD81.58)主要な吸
収帯 1600 tx    −000θ 2920、2850(J  −0H2−980〜11’
10α  セルロースのC−0伸縮振動及びグルコース
環 第7図 ジメチルジステアリルアンモニウム カルボキ
シメチルセルロース(CMOのD82.84)主要な吸
収帯 1610 cm   −0000 2940、28フOcm   −CH2−1000〜1
170亡 セルロースのC−0伸縮振動及びグルコース
【図面の簡単な説明】
第1〜7図はこの発明のCんIC第四アンモニクム塩の
赤外線吸収スペクトルである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子又はカルボキシメチル基の第四ア
    ンモニウム塩であり、nは10〜1000である。但し
    無水グルコース単位当りカルボキシメチル基の置換度は
    1.5〜3.0であり、カルボキシメチル基の第四アン
    モニウム塩は、副式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で表され、R^1〜R^4はそれぞれC_1〜_3_0
    の直鎖もしくは分枝状の飽和もしくは不飽和の脂肪族炭
    化水素基、又はアラルキル基であり、またR^1〜R^
    4の何れか2者もしくは3者が窒素原子を介して5又は
    6員環を形成してもよい) で表されるカルボキシメチルセルロースの第四アンモニ
    ウム塩。 2、無水グルコース単位当りのカルボキシメチル基によ
    る置換度が1.5〜3.0のカルボキシメチルセルロー
    ス又はその塩の溶液と、対応する第四アンモニウム化合
    物もしくはその溶液とを混合して反応させ、生成したカ
    ルボキシメチルセルロース第四アンモニウム塩を分離精
    製することからなる下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子又はカルボキシメチル基の第四ア
    ンモニウム塩であり、nは10〜1000である。但し
    無水グルコース単位当りカルボキシメチル基の置換度は
    1.5〜3.0であり、カルボキシメチル基の第四アン
    モニウム塩は、副式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で表され、R^1〜R^4はそれぞれC_1〜_3_0
    の直鎖もしくは分枝状の飽和もしくは不飽和の脂肪族炭
    化水素基、又はアラルキル基であり、またR^1〜R^
    4の何れか2者もしくは3者が窒素原子を介して5又は
    6員環を形成してもよい) で表されるカルボキシメチルセルロースの第四アンモニ
    ウム塩の製造法。
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