JPS6116286B2 - - Google Patents
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- JPS6116286B2 JPS6116286B2 JP19189781A JP19189781A JPS6116286B2 JP S6116286 B2 JPS6116286 B2 JP S6116286B2 JP 19189781 A JP19189781 A JP 19189781A JP 19189781 A JP19189781 A JP 19189781A JP S6116286 B2 JPS6116286 B2 JP S6116286B2
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- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000009738 saturating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 chlorphenyl Chemical group 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical class O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical compound CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001431291 Terana Species 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002741 palatine tonsil Anatomy 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
米国特許第4046795号明細書(E.R.Martin、
SWS Silicones Corporation、1977年9月6日発
行、例18で酸活性粘土の存在においてシクロテト
ラシロキサンとメルカプトアルキルトリアルコキ
シシランとの反応が起らないことが記載されてい
る。しかしこの刊行物により、シクロトリシロキ
サンとメルカプトアルキルトリアルコキシシラン
とを酸活性粘土の存在において反応させることが
できかつその際にSiC−結合のヒドロキシル基を
含有するオルガノ(ポリ)シランを一緒に使用し
得ることが記載されている。しかしシクロトリシ
ロキサンは純粋な形では比較的入手し難い。とこ
ろで、Si−結合のヒドロキシル基を含有するオル
ガノ(ポリ)シロキサンがシクロトリシロキサン
の不存在においても例えばγ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシランと酸活性粘土の不存在にお
いて反応し得ることが判明した。
SWS Silicones Corporation、1977年9月6日発
行、例18で酸活性粘土の存在においてシクロテト
ラシロキサンとメルカプトアルキルトリアルコキ
シシランとの反応が起らないことが記載されてい
る。しかしこの刊行物により、シクロトリシロキ
サンとメルカプトアルキルトリアルコキシシラン
とを酸活性粘土の存在において反応させることが
できかつその際にSiC−結合のヒドロキシル基を
含有するオルガノ(ポリ)シランを一緒に使用し
得ることが記載されている。しかしシクロトリシ
ロキサンは純粋な形では比較的入手し難い。とこ
ろで、Si−結合のヒドロキシル基を含有するオル
ガノ(ポリ)シロキサンがシクロトリシロキサン
の不存在においても例えばγ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシランと酸活性粘土の不存在にお
いて反応し得ることが判明した。
それ故、本発明の目的は、オルガノ(ポリ)シ
ロキサンを、唯1個の珪素原子価だけを飽和して
いる有機残基に結合しているチオール基を有する
シランと、酸活性酸性白土の存在において反応さ
せることによるSiC−結合のチオール基を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンの製造であり、これ
はこの反応で使用するチオール基を含まないオル
ガノ珪素化合物がSi−結合のヒドロキシル基を有
するオルガノ(ポリ)シロキサン及び場合によ
り、トリオルガノシロキサン単位と場合により、
ジオルガノシロキサン単位とから構成されている
オルガノ(ポリ)シロキサンであることを特徴と
する。
ロキサンを、唯1個の珪素原子価だけを飽和して
いる有機残基に結合しているチオール基を有する
シランと、酸活性酸性白土の存在において反応さ
せることによるSiC−結合のチオール基を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンの製造であり、これ
はこの反応で使用するチオール基を含まないオル
ガノ珪素化合物がSi−結合のヒドロキシル基を有
するオルガノ(ポリ)シロキサン及び場合によ
り、トリオルガノシロキサン単位と場合により、
ジオルガノシロキサン単位とから構成されている
オルガノ(ポリ)シロキサンであることを特徴と
する。
唯1個の珪素原子価だけを飽和する有機残基に
結合しているチオール基を有するシランとしては
一般式: HSRSiR′X(OR″)3-X を有するもの又はそのようなシランからの混合物
が優れている。この式中、Rはエーテル酸素原
子、チオエーテル窒素原子、−COO−基又は−
CSS−基により遮断されていてよい炭素原子1〜
18個を有する2価の炭化水素基であり、R′は場
合によりハロゲン化されている1価の炭化水素基
であり、R″は水素又は炭素原子1〜8個を有す
る炭化水素基でありかつXは0又は1である。基
R,R′及びR″は直鎖か又は分枝鎖であつてよ
い。Rの例は式: −CH2− −CH2CH2− −(CH2)3− −CH2C(CH3)2CH2− −CH2CH2SCH2CH2− −CH2CH2OCH2CH2− −CH2COOCH2− −CH2CSSCH2− を有するものである。
結合しているチオール基を有するシランとしては
一般式: HSRSiR′X(OR″)3-X を有するもの又はそのようなシランからの混合物
が優れている。この式中、Rはエーテル酸素原
子、チオエーテル窒素原子、−COO−基又は−
CSS−基により遮断されていてよい炭素原子1〜
18個を有する2価の炭化水素基であり、R′は場
合によりハロゲン化されている1価の炭化水素基
であり、R″は水素又は炭素原子1〜8個を有す
る炭化水素基でありかつXは0又は1である。基
R,R′及びR″は直鎖か又は分枝鎖であつてよ
い。Rの例は式: −CH2− −CH2CH2− −(CH2)3− −CH2C(CH3)2CH2− −CH2CH2SCH2CH2− −CH2CH2OCH2CH2− −CH2COOCH2− −CH2CSSCH2− を有するものである。
有利にはR′はメチル基である。R′基の他の例
はビニル基及びクロルフエニル基である。
はビニル基及びクロルフエニル基である。
炭化水素基R″の優れている例はメチル基、エ
チル基及びイソプロピル基である。
チル基及びイソプロピル基である。
本発明方法で使用可能なシランの詳細な例は、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−
メルカプトエチルトリエトキシシラン及びω−メ
ルカプトアミルトリメトキシシランである。
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−
メルカプトエチルトリエトキシシラン及びω−メ
ルカプトアミルトリメトキシシランである。
本発明方法で使用し得るSi−結合のヒドロキシ
ル基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンとして
は一般式: の単位からなるものが優れている。この式中
R′は同じか又は異なる1価の場合より置換され
ている炭化水素基であり、aは0,1,2又は3
であり、平均0.9〜2でありかつbは基本的にす
べてのこの単位においてaが数値2である場合Si
−結合のヒドロキシル基を含有するオルガノ(ポ
リ)シロキサン中にSi−結合のヒドロキシル基少
なくとも0.2重量%、殊に1〜8重量%が存在す
るような数値であり、かつbは前記単位の少なく
とも1.0%においてaが0又は1である場合Si−
結合のヒドロキシル基を含有するオルガノ(ポ
リ)シロキサン中にSi−結合のヒドロキシル基少
なくとも0.5重量%が存在するような数値を表わ
す。
ル基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンとして
は一般式: の単位からなるものが優れている。この式中
R′は同じか又は異なる1価の場合より置換され
ている炭化水素基であり、aは0,1,2又は3
であり、平均0.9〜2でありかつbは基本的にす
べてのこの単位においてaが数値2である場合Si
−結合のヒドロキシル基を含有するオルガノ(ポ
リ)シロキサン中にSi−結合のヒドロキシル基少
なくとも0.2重量%、殊に1〜8重量%が存在す
るような数値であり、かつbは前記単位の少なく
とも1.0%においてaが0又は1である場合Si−
結合のヒドロキシル基を含有するオルガノ(ポ
リ)シロキサン中にSi−結合のヒドロキシル基少
なくとも0.5重量%が存在するような数値を表わ
す。
炭化水素基R′の例はアルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基及びsec−ブチル基、オクチル
基及びドデシル基;シクロアルキル基、例えばシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘ
プチル基;アルケニル基、例えばビニル基及びア
リル基;アリール基、例えばフエニル基;アルカ
リール基、例えばトリル基;アルアルキル基、例
えばベンジル基である。置換されている炭化水素
基R′の例は特にハロゲン化炭化水素基、例えば
1,1,1−トリフルオルプロピル基、α,α,
α−トリフルオルトリル基、クロルフエニル基、
ジクロルフエニル基である。特に取得が容易であ
るので殊にR′の少なくとも80%がメチル基であ
る。場合により存在する他の基R′は殊にフエニ
ル基である。
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基及びsec−ブチル基、オクチル
基及びドデシル基;シクロアルキル基、例えばシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘ
プチル基;アルケニル基、例えばビニル基及びア
リル基;アリール基、例えばフエニル基;アルカ
リール基、例えばトリル基;アルアルキル基、例
えばベンジル基である。置換されている炭化水素
基R′の例は特にハロゲン化炭化水素基、例えば
1,1,1−トリフルオルプロピル基、α,α,
α−トリフルオルトリル基、クロルフエニル基、
ジクロルフエニル基である。特に取得が容易であ
るので殊にR′の少なくとも80%がメチル基であ
る。場合により存在する他の基R′は殊にフエニ
ル基である。
トリオルガノシロキサン単位及び場合によりジ
オルガノシロキサン単位から構成されておりかつ
本発明方法で一緒に使用することのできるオルガ
ノ(ポリ)シロキサンの最も重要な例は一般式: (CH3)3SiO〔Si(CH3)2O〕oSi(CH3)3 〔式中nは0又は整数1〜20である〕を有する
ものである。
オルガノシロキサン単位から構成されておりかつ
本発明方法で一緒に使用することのできるオルガ
ノ(ポリ)シロキサンの最も重要な例は一般式: (CH3)3SiO〔Si(CH3)2O〕oSi(CH3)3 〔式中nは0又は整数1〜20である〕を有する
ものである。
本発明方法で、トリオルガノシロキサン単位及
び場合によりジトリオルガノシロキサン単位から
構成されているオルガノ(ポリ)シロキサンを一
緒に使用する場合、そのようなオルガノ(ポリ)
シロキサンをSi−結合のヒドロキシル基を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンとの混合物でチオー
ル基を含有するシランとの反応に使用するか又は
後からこの反応で形成されたSiC−結合のチオー
ル基を含有するオルガノ(ポリ)シロキサン中に
平衡導入することができる。後者の方法を適用す
る場合、チオール基及び炭化水素基もしくはシラ
ノール基を含有するシランとSi−結合のヒドロキ
シル基を含有するオルガノ(ポリ)シロキサンと
の反応で副生成物として形成するアルコール及び
水をSiC−結合のチオール基を含有するオルガノ
(ポリ)シロキサンから予め例えば蒸留により除
去すると有利である。
び場合によりジトリオルガノシロキサン単位から
構成されているオルガノ(ポリ)シロキサンを一
緒に使用する場合、そのようなオルガノ(ポリ)
シロキサンをSi−結合のヒドロキシル基を有する
オルガノ(ポリ)シロキサンとの混合物でチオー
ル基を含有するシランとの反応に使用するか又は
後からこの反応で形成されたSiC−結合のチオー
ル基を含有するオルガノ(ポリ)シロキサン中に
平衡導入することができる。後者の方法を適用す
る場合、チオール基及び炭化水素基もしくはシラ
ノール基を含有するシランとSi−結合のヒドロキ
シル基を含有するオルガノ(ポリ)シロキサンと
の反応で副生成物として形成するアルコール及び
水をSiC−結合のチオール基を含有するオルガノ
(ポリ)シロキサンから予め例えば蒸留により除
去すると有利である。
酸活性酸性白土の優れている例は市販されてお
り、次の特性値を有する: 特性値 嵩重量: 450g/ 振動嵩重量(Ruttelgewicht) 670g/ 密度: 2.4Kg/ 湿度(2時間、110℃): 最高7重量% 強熱減量(1000℃): 〃 〃 1.0重量%水性懸濁液中のPH: 2.9。
り、次の特性値を有する: 特性値 嵩重量: 450g/ 振動嵩重量(Ruttelgewicht) 670g/ 密度: 2.4Kg/ 湿度(2時間、110℃): 最高7重量% 強熱減量(1000℃): 〃 〃 1.0重量%水性懸濁液中のPH: 2.9。
この酸性白土は二酸化珪素、酸化アルミニウ
ム、酸化鉄()、酸化マグネシウム、酸化ナト
リウム及び酸化カリウムから成つている。この酸
性白土の97重量%は150μmの粗いメツシユ幅の
篩を通過する。
ム、酸化鉄()、酸化マグネシウム、酸化ナト
リウム及び酸化カリウムから成つている。この酸
性白土の97重量%は150μmの粗いメツシユ幅の
篩を通過する。
他の多数の酸性白土は名称“テラナ
(Terrana:登録商標)L80”、“トンシル
(Tonsil:登録商標)AC”、‘クラリツト
(Clarit:登録商標)スタンダード(Standard)
A”“ノルダール(Nordal:登録商標)”、“フイ
ルトロール(Filtrol:登録商標)ウルトラ
(ultra)”及び“ルムシル(Rumsil:登録商標)”
で市販されており、同様に本発明方法に好適であ
る。
(Terrana:登録商標)L80”、“トンシル
(Tonsil:登録商標)AC”、‘クラリツト
(Clarit:登録商標)スタンダード(Standard)
A”“ノルダール(Nordal:登録商標)”、“フイ
ルトロール(Filtrol:登録商標)ウルトラ
(ultra)”及び“ルムシル(Rumsil:登録商標)”
で市販されており、同様に本発明方法に好適であ
る。
1種の酸活性酸性白土を使用することができる
が、種々の酸活性酸性白土の混合物を使用するこ
ともできる。
が、種々の酸活性酸性白土の混合物を使用するこ
ともできる。
酸活性酸性白土をその都度反応成分の全重量に
対して0.1〜1.0重量%、特に0.5〜3重量%の量で
使用すると有利である。
対して0.1〜1.0重量%、特に0.5〜3重量%の量で
使用すると有利である。
本発明方法を溶剤、例えば脂肪族炭化水素、例
えばヘプタン、もしくはベンゼン、トルエン又は
キシレンのような芳香族炭化水素中で実施するこ
とができる。種々の溶剤の混合物を本発明方法に
使用できることは勿論である。
えばヘプタン、もしくはベンゼン、トルエン又は
キシレンのような芳香族炭化水素中で実施するこ
とができる。種々の溶剤の混合物を本発明方法に
使用できることは勿論である。
本発明方法を温度範囲25〜200℃で実施すると
有利である。この範囲は最低の経費を必要とする
に過ぎないからである。本発明方法を周囲の大気
圧で、従つて1バール又は約1バールで実施する
と有利である。所望の場合には、高い圧力又は低
い圧力を適用することもできる。
有利である。この範囲は最低の経費を必要とする
に過ぎないからである。本発明方法を周囲の大気
圧で、従つて1バール又は約1バールで実施する
と有利である。所望の場合には、高い圧力又は低
い圧力を適用することもできる。
本発明により製造したSiC−結合のチオール基
を有するオルガノ(ポリ)シロキサンは、従来
SiC−結合のチオール基を有するオルガノ(ポ
リ)シロキサンを使用することのできたすべての
用途、例えば金属用保護膜として使用することが
できる。
を有するオルガノ(ポリ)シロキサンは、従来
SiC−結合のチオール基を有するオルガノ(ポ
リ)シロキサンを使用することのできたすべての
用途、例えば金属用保護膜として使用することが
できる。
次に本発明を実施例について詳説するが、特に
記載のない限り「部」は「重量部」を表わす。
記載のない限り「部」は「重量部」を表わす。
例 1
撹拌機、温度計、水分離器と連結している還流
冷却器及びガス導入管を具備している2−三首
フラスコ中で末端単位にそれぞれ1個のSi−結合
のヒドロキシル基を有していて、Si−結合のヒド
ロキシル基3.7重量%を含有するジメチルポリシ
ロキサン1500g、ヘキサメチルジシクロサン
30g、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン60g、前記の特性を有する酸性白土25g及びト
ルエン60gから成る混合物を撹拌下に約80℃に加
熱し、次に80℃〜110℃に2時間保持する。同時
に反応混合物中に窒素を通して反応の際に形成さ
れるメタノール及び水を除去する。
冷却器及びガス導入管を具備している2−三首
フラスコ中で末端単位にそれぞれ1個のSi−結合
のヒドロキシル基を有していて、Si−結合のヒド
ロキシル基3.7重量%を含有するジメチルポリシ
ロキサン1500g、ヘキサメチルジシクロサン
30g、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン60g、前記の特性を有する酸性白土25g及びト
ルエン60gから成る混合物を撹拌下に約80℃に加
熱し、次に80℃〜110℃に2時間保持する。同時
に反応混合物中に窒素を通して反応の際に形成さ
れるメタノール及び水を除去する。
その後、フラスコ内部温度160℃までで周囲の
大気圧で沸騰する物質を留去させる。その際に残
留するSiC−結合のチオール基を有するオルガノ
ポリシロキサンは25℃で粘度47mm2・S-1を有しか
つ核磁気共鳴測定によりメトキシ基とジメチルシ
ロキサン単位との比は0.6:97.7でありかつメル
カプトプロピル基とジメチルシロキサン単位との
比は1.7:97.7である。
大気圧で沸騰する物質を留去させる。その際に残
留するSiC−結合のチオール基を有するオルガノ
ポリシロキサンは25℃で粘度47mm2・S-1を有しか
つ核磁気共鳴測定によりメトキシ基とジメチルシ
ロキサン単位との比は0.6:97.7でありかつメル
カプトプロピル基とジメチルシロキサン単位との
比は1.7:97.7である。
例 2
撹拌機、温度計、水分離器と連結している還流
冷却器及びガス導入管を備えている2−三首フ
ラスコ中で、メチルトリクロルシラン1.250部、
ジメチルジクロルシラン1.25部及びトリメチルク
ロルシラン1150部をトルエン中の水で混合加水分
解することにより製造した、Si−結合のヒドロキ
シル基2.7重量%及び粘度63mm2・s-1(25℃で)を
有するオルガノポリシロキサン樹脂750g、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン80g;前
記の特性を有する酸性白土8g及び1バール(絶
対)で沸騰範囲80〜110℃を有するアルカン混合
物100gからなる混合物を撹拌下に約80℃に加熱
し、次に80℃〜110℃に2時間保持する。同時に
反応混合物中に窒素を通して反応の際に形成した
メタノール及び水を除去する。その後、フラスコ
内部温度160℃までで周囲の大気圧で沸騰する物
質を留去させる。その際に残留するSi−結合のチ
オール基を有するオルガノポリシロキサンは25℃
で粘度120mm2・S-1を有しかつ核磁気共鳴測定によ
りメルカプトプロピル基0.37モル%を含有する。
冷却器及びガス導入管を備えている2−三首フ
ラスコ中で、メチルトリクロルシラン1.250部、
ジメチルジクロルシラン1.25部及びトリメチルク
ロルシラン1150部をトルエン中の水で混合加水分
解することにより製造した、Si−結合のヒドロキ
シル基2.7重量%及び粘度63mm2・s-1(25℃で)を
有するオルガノポリシロキサン樹脂750g、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン80g;前
記の特性を有する酸性白土8g及び1バール(絶
対)で沸騰範囲80〜110℃を有するアルカン混合
物100gからなる混合物を撹拌下に約80℃に加熱
し、次に80℃〜110℃に2時間保持する。同時に
反応混合物中に窒素を通して反応の際に形成した
メタノール及び水を除去する。その後、フラスコ
内部温度160℃までで周囲の大気圧で沸騰する物
質を留去させる。その際に残留するSi−結合のチ
オール基を有するオルガノポリシロキサンは25℃
で粘度120mm2・S-1を有しかつ核磁気共鳴測定によ
りメルカプトプロピル基0.37モル%を含有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 オルガノ(ポリ)シロキサンと、唯1個の珪
素原子価だけを飽和している有機残基に結合して
いるチオール基を有するシランとを酸活性酸性白
土の存在において反応させることによりSiC−結
合のチオール基を有するオルガノ(ポリ)シロキ
サンを製造する方法において、この反応に使用す
るチオール基を含まないオルガノ珪素化合物が
SiC−結合のヒドロキシル基を有するオルガノ
(ポリ)シロキサン及び場合により、トリオルガ
ノシロキサン単位と場合により、ジオルガノシロ
キサン単位とから構成されているオルガノ(ポ
リ)シロキサンであることを特徴とするSiC−結
合のチオール基を有するオルガノ(ポリ)シロキ
サンの製法。 2 オルガノ(ポリ)シロキサンとして末端単位
中にそれぞれ1個のSiC−結合のヒドロキシル基
を有する、Si−結合のヒドロキシル基1〜8重量
%を含有するジメチルポリシロキサンを使用する
特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19189781A JPS5893727A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | SiC−結合のチオ−ル基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19189781A JPS5893727A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | SiC−結合のチオ−ル基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5893727A JPS5893727A (ja) | 1983-06-03 |
JPS6116286B2 true JPS6116286B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=16282263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19189781A Granted JPS5893727A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | SiC−結合のチオ−ル基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5893727A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002030149A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-01-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | メルカプト基含有オルガノポリシロキサンの製造方法並びに該オルガノポリシロキサンを用いた離型剤、潤滑剤及び艶出し剤 |
DE10132941A1 (de) * | 2001-07-06 | 2003-01-23 | Degussa | Oligomere Organosilane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
-
1981
- 1981-12-01 JP JP19189781A patent/JPS5893727A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5893727A (ja) | 1983-06-03 |
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