JPS63238091A - 塩素化合物含量の低いアルコキシシランの製法 - Google Patents

塩素化合物含量の低いアルコキシシランの製法

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JPS63238091A
JPS63238091A JP63055088A JP5508888A JPS63238091A JP S63238091 A JPS63238091 A JP S63238091A JP 63055088 A JP63055088 A JP 63055088A JP 5508888 A JP5508888 A JP 5508888A JP S63238091 A JPS63238091 A JP S63238091A
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alkoxysilane
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クヌート・オッペンレンダー
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
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    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/188Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、塩素化合物含量の低いアルコキシシランの製
法に関する。
特に制動液の添加物として適するアルコキシシランの製
造は、西独特許2409731号、2445552号及
び3138853号各明細書に詳しく記載されている。
その場合はいずれもクロルシランから出発し、これを直
接に希望のアルコールと反応させるか、あるいはこれか
らまず低分子エーテルを製造し、これを高級アルコール
によりエーテル交換する。この反応では塩化水素が生成
し、これが過剰のアルコールと再反応して、塩化アルキ
ル及び水を生ずる。
生成した水は重縮合反応を開始させ、その結果著しく収
率を低下する(カーク−オスマー著エンサイクロペディ
ア・オプ・ケミカル・チクノロシイ3版20巻916頁
参照)。
生成するHCIによる副反応を避けるため、反応中にH
CIの大部分を除去する方法が試みられた。このために
は例えば西独特許2409761号によれば、反応を段
階的に行い、そしてアルコールな液相の表面下に導入す
る。同様な段階的方法は西独特許2800017号明細
書にも記載されている。
この操作法によっても、反応生成物がなお希望しない有
機塩素化合物を含有することは避けられない。このこと
は西独特許3138835号の生成物についても同様で
ある。なぜならば低分子アルコキシシランの出発物質は
、その製造時から有機塩素化合物が夾雑しているからで
ある。したがって塩素含量の低い生成物を得るため、化
学当量の三級塩基例えばピリジン、N。
N−ジメチルアニリン又はトリエチルアミンの存在下に
反応を行うことが推奨された( Eaborn著オルガ
ノシリコン・コンパウンダ288頁参照)。このアミン
添加によって塩素化合物含量を著しく減少することが達
せられるが、当量のアミンを併用することによって費用
が著しく増加する。またこのI(C1除去法によっても
、生成物の塩素含量を低下するため蒸留により精製する
ことが必要である。
本発明の課題は、多額の追加費用を要しないで、かつ多
量の補助物質を使用することなしに、塩素化合物含量の
きわめて低いアルコキシシランの製造を確実にする方法
を提供することであった。
本発明はこの課題を解決するもので、クロルシランを液
相中で生成する塩化水素を除去しながらアルコールを用
いてmエーテル化し、得られたまだ少量の塩素化合物を
含有するアルコキシシランを、塩素化合物に対し化学当
量より少し過剰の金属アルコラートと反応させ、そして
反応生成物から生成した塩を除去することを特徴とする
、塩素化合物含量の低いアルコキシシランの製法である
本発明によれば、例えば次式 (R1、R2及びR3は脂肪族、芳香脂肪族又は芳香族
の1〜20個の炭素原子を有する基を意味し、そのほか
R1、R2及びR3はOR4であってもよく、さらにR
1は水素原子をも意味し、0′R4は1〜20個の炭素
原子を有する1価アルコールの残基な意味する)のアル
コキシシランが製造され、そのためには次式 のクロルシランを次式 HO−R’        I[[ (式中のR1、R2、R3及びR4は前記の意味を有す
るほか、R’ 、 R2及びR3は塩素原子であっても
よ(、さらにR1は水素原子を意味しうる)のアルカノ
ールと反応させ、生成物を金属アルコラートを用いて処
理する。
本発明による好ましいアルコキシシランは、アルコール
HO−R’として次式 (R5は水素原子又はメチル基、R6は1〜8個の炭素
原子を有するアルキル基、mは1〜4の数を意味する)
のポリグリコールモノエーテルを使用することにより得
られる。
本発明は特に、塩素化合物含量の著しく低い次式 (R1及びR2は1〜20個の炭素原子を有するアルキ
ル基を意味し、R2はOR’であってもよ(、このOR
’は次式 の基を意味し、この式中のR5は水素原子又はメチル基
、R6は1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、そし
てmは1〜4の数、pは1〜10の数を意味する)のア
ルコキシシランに関する。
本発明の反応のための金属アルコラートとし雪は、普通
はアルカリ又はアルカリ土類金属のアルコラートが用い
られる。特に好ましいものはカリウムそして特にナトリ
ウムのアルコラートである。エーテル酸素と結合する残
基に相当するアルコールのアルコラートが好ましい。ア
ルコラ−トノ製法ハ、例エハウルマンス・エンチクロペ
デイ1デルもテヒニツシエン・ヘミ−4版7巻220頁
に詳細に記載されているので、その説明は省略する。
本発明の反応には、アルコラートを、化学量論的に必要
な量より小過剰の量で、例えば10〜60%過剰で使用
する。
塩素化合物を減少するための反応は、好ましくは次のよ
うに行われる。エーテル化生成物を溶剤例えばドルオー
ル又はキジロールの存在下又は不在下で、80〜200
℃好ましくは100〜150℃の温度で、金属アルコラ
ート特にナトリウムアルコラートと5へ〜30時間反応
させる。次いで生成物を沈殿した少量の金属塩化物と濾
過して分別し、場合により溶剤を除去したのち精製せず
に使用することができる。溶剤の添加は、塩化物塩が溶
剤よりも生成物に溶解しやすい場合に有利である。
直接のエーテル化後になお塩素化合物を含有するアルコ
キシシランの塩素含量は、普通は0゜1〜1重量%であ
る。本発明の方法によればこの塩素含量を0.001〜
0.02重量%に低下させることができる。この成果は
、三級アミン例えばピリジン、N、N−ジメチルアニリ
ンスはトリエチルアミンを、その他は同じ反応条件でそ
して対応するアルコール(m、■)の存在下に添加した
場合に、先に存在した塩素のわずか5%がアミン塩酸塩
となるにすぎないので、予想外であった。
本発明により後処理されるアルコキシシランは、既知の
方法(ジャーナル・オプ・インオーガニック・ニュクレ
アー・ケミストリー30巻721頁1968年参照)に
より得られ、その原料となるクロルシランは例えば次の
ものである。メチルトリクロルシラン、メチルジクロル
シラン、ジメチルクロルシラン、トリメチルクロルシラ
ン、エチルトリクロルシラン、エチルジクロルシラン、
プロピルトリクロルシラン、ブチルトリクロルシラン、
アミルトリクロルシラン、オクチルトリクロルシラン、
2−エチルトリクロルシラン、ドデシルトリ′クロルシ
ラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルジメチルクロル
シラン、アリルトリクロルシラン、6−アリルオキシグ
ロビルトリクロルシラン、ベンジルトリクロルシラン、
ベンジルメチルジクロルシラン、2−フェニルエチルト
リクロルシラン、フェニルメチルシクロルシラン、ジフ
ェニルジクロルシラン又はテトラクロルシラン。
アルコール成分としては、1〜20個の炭素原子を有す
る1価の一級脂肪族アルコール、又はポリアルキレング
リコール例えばメチル−1工f /l/ −、プロピル
−又はブチルグリコールのモノエーテル、又はジー、ト
リーもしくはテトラエチレングリ、コールのモノメチル
−、エチル、−、プロピル−もしくはプチルエーテルカ
用いられる。さらにアルコール成分としては、2価の脂
肪族アルコール、例えばエチレングリコール、1.2−
7’ロピレングリコール、1.2−7”fレンゲリコー
ル、ならびに6〜12個の炭素原子を有する直鎖状又は
分岐状の他のジオールも用いられる。そのほか2〜4分
子のエチレンオキシド又はプロピレンオキシドからのポ
リアルキレングリコール、ならびに多価アルコール例え
ばトリメチロールプロパン及びペンタエリトリットも用
いられる。その場合生成物は同一の又は異なるアルコキ
シ基を有しうる。
ポリオールの使用は、分子中に多数の珪素原子を有する
生成物の合成を可能にする。例えば前記式Vの化合物が
得られる。ポリクロルシランの場合は、絶えず上昇する
温度において、すべての塩素原子が順次置換される。し
たがって金属アルコラートとの反応は、高温で攪拌して
いるにもかかわらず、反応混合物の塩素含量がもはや明
瞭に減少しなくなるまで続けられる。
普通は址00℃の反応温度で約20時間を要する。
実施例 次式のアルコキシシラン ■ の製造を例として説明する。この化合物及びその縮合生
成物は西独特許3138835号明細書によれば、水力
液体として好適である、(英国特許1480738号参
照)。
ジメチルジクロルシラン500g(3,88モル)を5
0〜60℃で用意し、これにトリエチレングリコール2
91 g(1,94モル)を、液面下に浸漬した管によ
り70分かげて添加する。
生成するHCIを乾燥窒素流により反応混合物から追い
出す。混合物を80℃でさらに60分間攪拌したのち、
前記方法によりメチルトリグリコール6999 (4,
26モル)の添加を開始する。15分後に添加を終了し
、温度を180°Cに上昇させ、この温度でさらに20
時間攪拌する。生成物(1150g)はなおC1を0.
44重量%含有する。
この生成物1100gをドルオール1160Iに110
〜120℃で添加し、 CHsOCH2CH20CH2CHI○CH,CH2O
Na 30.417 (0,164モル、生成物中のC
11モルに対し20モル%過剰)を滴加する。8時間還
流下に攪拌したのち室温に冷却し、沈殿を濾過する。次
いで揮発性成分を120℃70.5 mバールで除去す
る。
式vの縮合生成物(R1及びR” 4’!、 CH,、
R4ハCH30CH2CHzOCH2CH20CH2C
Hz−1R5はH,mは6、モして1 (p (10で
ある)を少量含有する式■の生成物が9951得られる
。この生成物はC1を0.016%含有する。これに対
し英国特許1480738号明細書実施例1により化学
当量のピリ’)ンを使用して製造された化合物(至)は
、C1を0.06%含有する。
この生成物の物性は次のとおりである。
04B、5% H8,4% Si7.6%粘度ニー40
℃で890 mm2秒−1+100℃で2.711II
+!2秒−1沸点=293°C 3AE−J1703及びFMV 88116による湿潤
沸点:234℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、クロルシランを液相中で生成する塩化水素を除去し
    ながらアルコールを用いて段階的にエーテル化し、得ら
    れたまだ少量の塩素化合物を含有するアルコキシシラン
    を、塩素化合物に対し化学当量より少し過剰の金属アル
    コラートと反応させ、そして反応生成物から生成した塩
    を除去することを特徴とする、塩素化合物含量の低いア
    ルコキシシランの製法。 2、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼II のクロルシランを次式 HO−R^4III (式中のR^1、R^2、R^3及びR^4は後記の意
    味を有するほか、R^1、R^2及びR^3は塩素原子
    であってもよく、さらにR^1は水素原子を意味しうる
    )のアルカノールと反応させ、生成物を金属アルコラー
    トを用いて処理することにより、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I (R^1、R^2及びR^3は脂肪族、芳香脂肪族又は
    芳香族の1〜20個の炭素原子を有する基を意味し、そ
    のほかR^1、R^2及びR^3はOR^4であっても
    よく、さらにR^1は水素原子をも意味し、OR^4は
    1〜20個の炭素原子を有する1価アルコールの残基を
    意味する)のアルコキシシランを製造することを特徴と
    する、第1請求項に記載の方法。 3、アルコールHO−R^4が次式 ▲数式、化学式、表等があります▼IV (R^5は水素原子又はメチル基、R^6は1〜8個の
    炭素原子を有するアルキル基、mは1〜4の数を意味す
    る)のポリグリコールモノエーテルであることを特徴と
    する、第2請求項に記載の方法。 4、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼V (R^1及びR^2は1〜20個の炭素原子を有するア
    ルキル基を意味し、R^2はR^4であってもよく、O
    R^4は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼VI の基を意味し、R^5は水素原子又はメチル基、R^6
    は1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、mは1〜4
    の数、そしてpは1〜10の数を意味する)のアルコキ
    シシランを製造することを特徴とする、第1請求項に記
    載の方法。 5、金属アルコラートとして次式 ▲数式、化学式、表等があります▼VII (R^5、R^6及びmは第4請求項に記載の意味を有
    する)のナトリウムアルコラートを使用することを特徴
    とする、第1請求項に記載の方法。
JP63055088A 1987-03-14 1988-03-10 塩素化合物含量の低いアルコキシシランの製法 Pending JPS63238091A (ja)

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DE (1) DE3708293A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000128887A (ja) * 1998-10-26 2000-05-09 Degussa Huels Ag アルコキシシランまたはアルコキシシラン主剤組成物中の残留ハロゲン含量を中和および減少する方法
JP2000154193A (ja) * 1998-11-06 2000-06-06 Degussa Huels Ag アルコキシシランの製法
JP2010105918A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Jsr Corp アルコキシシランの製造方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4956486A (en) * 1990-03-07 1990-09-11 Dow Corning Corporation Removal of organic chloride from phenylchlorosilanes
EP0464819B1 (en) * 1990-07-05 1996-01-24 OSi Specialties, Inc. Reducing halide contamination in alkoxy silanes
US5084588A (en) * 1990-07-05 1992-01-28 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Reducing halide contamination in alkoxy silanes
DE4122263C1 (ja) * 1991-07-05 1993-02-25 Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De
DE4130643A1 (de) * 1991-09-14 1993-03-18 Degussa Verfahren zur reinigung von alkoxysilanen
US5210254A (en) * 1992-03-31 1993-05-11 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Acidic halide neutralization in alkoxysilanes
US5175330A (en) * 1992-07-16 1992-12-29 Dow Corning Corporation Process for the recovery of hydrogen chloride and monomeric alkoxysilanes from mixtures of chloride-containing silicon compounds
DE19821156B4 (de) * 1998-05-12 2006-04-06 Degussa Ag Verfahren zur Minderung von Resthalogengehalten und Farbzahlverbesserung in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen und die Verwendung von Aktivkohle dazu
US5914421A (en) * 1998-07-01 1999-06-22 Dow Corning Corporation Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content
ATE284406T1 (de) * 1998-11-06 2004-12-15 Degussa Verfahren zur herstellung von chloridarmen oder chloridfreien alkoxysilanen
DE19954635A1 (de) * 1999-11-13 2001-05-17 Degussa Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen
DE10332622B4 (de) * 2003-07-17 2004-07-22 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur Spaltung von chlorierten Kohlenwasserstoffen in Alkoxysilanen

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2484394A (en) * 1944-08-11 1949-10-11 Hartford Nat Bank & Trust Co Process for the preparation of silicic-acid esters
US2814635A (en) * 1953-08-05 1957-11-26 Kali Chemie Ag Process of producing silicic acid esters
GB1480738A (en) * 1973-09-25 1977-07-20 Castrol Ltd Hydraulic fluids
US3994948A (en) * 1973-09-25 1976-11-30 Castrol Limited Hydraulic fluids
DE2409731C2 (de) * 1974-03-01 1983-05-26 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Veresterung von Trichlorsilan
US4173576A (en) * 1975-07-23 1979-11-06 Dynamit Nobel Aktiengesellschaft Process for the esterification of chlorosilanes
DE2800017C2 (de) * 1978-01-02 1983-05-26 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxysilanen
DE3138835C2 (de) * 1981-09-30 1986-12-18 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Herstellung von Organosilanestern mit Polyolen
JPS62114992A (ja) * 1985-11-14 1987-05-26 Toray Silicone Co Ltd アルコキシシランの精製方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000128887A (ja) * 1998-10-26 2000-05-09 Degussa Huels Ag アルコキシシランまたはアルコキシシラン主剤組成物中の残留ハロゲン含量を中和および減少する方法
JP2000154193A (ja) * 1998-11-06 2000-06-06 Degussa Huels Ag アルコキシシランの製法
JP2010105918A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Jsr Corp アルコキシシランの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0282846A2 (de) 1988-09-21
US4827008A (en) 1989-05-02
DE3708293A1 (de) 1988-09-22

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