JPS61161749A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS61161749A JPS61161749A JP282985A JP282985A JPS61161749A JP S61161749 A JPS61161749 A JP S61161749A JP 282985 A JP282985 A JP 282985A JP 282985 A JP282985 A JP 282985A JP S61161749 A JPS61161749 A JP S61161749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trimming
- region
- wafer
- chip
- chips
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体装置に関するものであり、トリミング
による歩止まりの高い半導体装置を提供するものである
。
による歩止まりの高い半導体装置を提供するものである
。
(従来の技術)
半導体集積回路(以下、ICという)の一種に、第5図
に示すようなオンチップ恒?!ii器付き基準電圧回路
がある。このICは、基準電圧回路の温度を一定に維持
し、基準電圧回路をその温度係数が最も小さくなる範囲
で使用することを目的とじたものであり、その温度は、
基準電圧回路の温度特性に応じて例えば温度係数の極大
点または極小点に選ばれている。第5図において、S■
は基準電圧回路、CTは恒m器であり、これらの回路は
同一チップ上に形成されている。恒温器CTにおいて、
Hは発熱抵抗などよりなる発熱部、Ql、Q2はトラン
ジスタ、Ra、Rsは抵抗、CI、C2は定電流源であ
る。トランジスタQ1は発熱部Hを駆動するためのトラ
ンジスタであり、トランジスタQ2は基準電圧回路Sv
のii!度を検出するためのトランジスタである。抵抗
Ra、Rsは発熱温度の設定部を構成するもので、抵抗
R3の値を変化させることによりトランジスタQ2のベ
ース電位を変え、トランジスタタ2が導通となる温度を
変えて、恒温器CTの発熱温度を設定することができる
。ここで、この設定温度は基準電圧回路Svの設計値を
基にして設定されるものであり、例えば90℃程度に選
ばれている。そこで、恒温器CTは設定温度を一定(9
0℃)として設計され、基準電圧回路Svと同じプロセ
スにより同時に形成されることになる。
に示すようなオンチップ恒?!ii器付き基準電圧回路
がある。このICは、基準電圧回路の温度を一定に維持
し、基準電圧回路をその温度係数が最も小さくなる範囲
で使用することを目的とじたものであり、その温度は、
基準電圧回路の温度特性に応じて例えば温度係数の極大
点または極小点に選ばれている。第5図において、S■
は基準電圧回路、CTは恒m器であり、これらの回路は
同一チップ上に形成されている。恒温器CTにおいて、
Hは発熱抵抗などよりなる発熱部、Ql、Q2はトラン
ジスタ、Ra、Rsは抵抗、CI、C2は定電流源であ
る。トランジスタQ1は発熱部Hを駆動するためのトラ
ンジスタであり、トランジスタQ2は基準電圧回路Sv
のii!度を検出するためのトランジスタである。抵抗
Ra、Rsは発熱温度の設定部を構成するもので、抵抗
R3の値を変化させることによりトランジスタQ2のベ
ース電位を変え、トランジスタタ2が導通となる温度を
変えて、恒温器CTの発熱温度を設定することができる
。ここで、この設定温度は基準電圧回路Svの設計値を
基にして設定されるものであり、例えば90℃程度に選
ばれている。そこで、恒温器CTは設定温度を一定(9
0℃)として設計され、基準電圧回路Svと同じプロセ
スにより同時に形成されることになる。
ところで、このようにして形成されるウェハ状態での各
チップの抵抗Ra、Rsの抵抗値に着目すると必ずしも
均一ではなく、ICとしての特性もばらついていること
が多い。
チップの抵抗Ra、Rsの抵抗値に着目すると必ずしも
均一ではなく、ICとしての特性もばらついていること
が多い。
そこで、ウェハ状態でこれら抵抗Ra、Rsに対してト
リミングを行い、抵抗値を調整してfcとしての特性を
揃えることが行われている。
リミングを行い、抵抗値を調整してfcとしての特性を
揃えることが行われている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、このようにしてウェハ状態でトリミングを行っ
た場合にら、その債のチップの切り出しやパッケージな
どの後工程において特性が変化して許容範囲を超えてし
まうことがある。このような後工程における特性変化を
考慮してウェハ状態でのトリミング値を補正することも
行われてはいるが、補正の過大、過小が発生することは
避けられず、ICの製造歩止まりを低下させる一因にな
っている。
た場合にら、その債のチップの切り出しやパッケージな
どの後工程において特性が変化して許容範囲を超えてし
まうことがある。このような後工程における特性変化を
考慮してウェハ状態でのトリミング値を補正することも
行われてはいるが、補正の過大、過小が発生することは
避けられず、ICの製造歩止まりを低下させる一因にな
っている。
本発明は、このような点に着目したものであって、その
目的は、半導体ウェハに形成されている半導体装置チッ
プおよびパフケージされた半導体チップに対するトリミ
ングを精度良く行うことができ、高い歩止まりが得られ
る半導体装置を提供することにある。
目的は、半導体ウェハに形成されている半導体装置チッ
プおよびパフケージされた半導体チップに対するトリミ
ングを精度良く行うことができ、高い歩止まりが得られ
る半導体装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
このような目的を達成する本発明は、チップの一部に、
ウェハの状態で第1のトリミングを行うための第1のト
リミング領域と、チップをウェハから切り出してパッケ
ージした状態で第2のトリミングを行うための第2のト
リミング領域とが設けられたことを特徴とする。
ウェハの状態で第1のトリミングを行うための第1のト
リミング領域と、チップをウェハから切り出してパッケ
ージした状態で第2のトリミングを行うための第2のト
リミング領域とが設けられたことを特徴とする。
(実施例)
以下、図面を用いて詳細に説明する。
第1図は、本発明の一実施例の要部を示す構成説明図で
あり、チップの抵抗パターン例を示している。第1図に
おいて、抵抗パターンとしては、固定パターン領域RF
と、ウェハの状態で第1のトリミングが行われる第1の
トリミング領域RT1と、チップをウェハから切り出し
てパッケージした状態で外部から第2のトリミングが行
われる第2のトリミング領1aRT2+〜RT23とが
直列に接続されるようにして形成されている。そして、
第2のトリミング領域RT21〜RT23の各両端には
パッケージした状態で外部端子に接続するためのバッド
P+〜P4が接続されるとともにこれら各バッドP+−
Pa間にはチップ(zap)用のツェナーダイオードZ
D+〜ZD3が対応する第2のトリミングtI4域RT
2 + −RT23と並列に接続されている。
あり、チップの抵抗パターン例を示している。第1図に
おいて、抵抗パターンとしては、固定パターン領域RF
と、ウェハの状態で第1のトリミングが行われる第1の
トリミング領域RT1と、チップをウェハから切り出し
てパッケージした状態で外部から第2のトリミングが行
われる第2のトリミング領1aRT2+〜RT23とが
直列に接続されるようにして形成されている。そして、
第2のトリミング領域RT21〜RT23の各両端には
パッケージした状態で外部端子に接続するためのバッド
P+〜P4が接続されるとともにこれら各バッドP+−
Pa間にはチップ(zap)用のツェナーダイオードZ
D+〜ZD3が対応する第2のトリミングtI4域RT
2 + −RT23と並列に接続されている。
このような構成において、トリミングは次のようにして
行われる。
行われる。
まず、ウェハの状態において、固定パターン領1aRF
と第1のトリミング領11A RT +と第2のトリミ
ング領域RT21〜RT23とが直列接続された抵抗回
路の抵抗値を測定する。そして、この直列抵抗回路の抵
抗値が許容範囲内の鎧になるように第1のトリミングf
JI4RT+に対してトリミングを行う。なお、第1の
トリミングII域RT+に対するトリミングは、本実施
例ではサンドブラストやレーザビームによる切り込みな
どで行うようにする。このようにして直列抵抗回路の抵
抗値を許容範囲内の値に調整した後、チップをウェハか
ら切り出して第2図に示すようにパッケージする6次に
、このようにパッケージした状態でICとしての特性を
測定して許容範囲に対する誤差を求め、この誤差を補正
するのに必要な直列抵抗回路のトリミング値を決定する
。そして、第2のトリミング領域RT2+〜RT2)か
らトリミング値に対応した1iIあるいは複数個のトリ
ミング領域を選択し、選択されたトリミング領域の両端
間に外部端子から数10Vの逆方向電圧を加えてツェナ
ーダイオードZD+−zoコを選択的に短絡させる。こ
れにより、短絡されたツェナーダイオードZD+〜ZD
3に対応した第2のトリミング領域RT21〜RT23
の抵抗値だけ直列抵抗回路の抵抗値は小さくなり、直列
抵抗回路は所望の抵抗値に調整され、ICの特性も許容
範囲内に調整されることになる。なお、これらパッケー
ジされたICの特性−走用端子やチップ用端子を入出力
用端子として共用することもできる。このような一連の
トリミング手順の流れをフローチャートに示すと111
3図のようになる。
と第1のトリミング領11A RT +と第2のトリミ
ング領域RT21〜RT23とが直列接続された抵抗回
路の抵抗値を測定する。そして、この直列抵抗回路の抵
抗値が許容範囲内の鎧になるように第1のトリミングf
JI4RT+に対してトリミングを行う。なお、第1の
トリミングII域RT+に対するトリミングは、本実施
例ではサンドブラストやレーザビームによる切り込みな
どで行うようにする。このようにして直列抵抗回路の抵
抗値を許容範囲内の値に調整した後、チップをウェハか
ら切り出して第2図に示すようにパッケージする6次に
、このようにパッケージした状態でICとしての特性を
測定して許容範囲に対する誤差を求め、この誤差を補正
するのに必要な直列抵抗回路のトリミング値を決定する
。そして、第2のトリミング領域RT2+〜RT2)か
らトリミング値に対応した1iIあるいは複数個のトリ
ミング領域を選択し、選択されたトリミング領域の両端
間に外部端子から数10Vの逆方向電圧を加えてツェナ
ーダイオードZD+−zoコを選択的に短絡させる。こ
れにより、短絡されたツェナーダイオードZD+〜ZD
3に対応した第2のトリミング領域RT21〜RT23
の抵抗値だけ直列抵抗回路の抵抗値は小さくなり、直列
抵抗回路は所望の抵抗値に調整され、ICの特性も許容
範囲内に調整されることになる。なお、これらパッケー
ジされたICの特性−走用端子やチップ用端子を入出力
用端子として共用することもできる。このような一連の
トリミング手順の流れをフローチャートに示すと111
3図のようになる。
第4図は、第5図における抵抗Rsの抵抗値を調整する
ための第1図における第2のトリミング領域に対応した
部分の具体例を示す回路図であり、第5図と同一部分に
は同一符号を付けている。第4図において、ZD4は定
電圧を発生するツェナーダイオード、R1−R9は抵抗
R3を構成する抵抗回路、7r、〜Tr3はトランジス
タのPN接合を利用するとともに抵抗R1〜R3にそれ
ぞれ並列に接続さhたツェナーダイオード、T+〜T4
はこれらツェナーダイオード7r+〜Tr3の両端を外
部に接続するための端子である。
ための第1図における第2のトリミング領域に対応した
部分の具体例を示す回路図であり、第5図と同一部分に
は同一符号を付けている。第4図において、ZD4は定
電圧を発生するツェナーダイオード、R1−R9は抵抗
R3を構成する抵抗回路、7r、〜Tr3はトランジス
タのPN接合を利用するとともに抵抗R1〜R3にそれ
ぞれ並列に接続さhたツェナーダイオード、T+〜T4
はこれらツェナーダイオード7r+〜Tr3の両端を外
部に接続するための端子である。
このような構成において、端子下、〜T4を介して外部
信号を加えてツェナーダイオードT「+〜Trコを選択
的に短絡させることにより、抵抗回路全体の抵抗値また
は分圧比を調整することができる。すなわち、基準電圧
回路S■の設計値に基づく設定温度の標準的な値を90
℃とすると、抵抗RaおよびR+”Rsの抵抗値は、図
示しない第1のトリミング領域に対するトリミングを行
った侵チップをウェハから切り出す状態において、ツェ
ナーダイオードTr+〜Trコを全て短絡しない場合の
設定温度が90℃になるように設定されている。ここで
、ツェナーダイオード7r+〜Tr、により短絡される
抵抗R+〜Rコの値を適当に決めておくと、ツェナーダ
イオードTr+〜Tr3を選択的に短絡させることによ
って前述の設定温度を90℃から任意の幅で上下に変化
させることができる。例えば、抵RR+のみを短絡した
場合には設定温度は最大限上昇し、抵抗R7およびR1
を短絡した場合には設定温度は最大限下降する。また、
これらの組み合わせにより、設定温度が上下する幅を調
節することができる。
信号を加えてツェナーダイオードT「+〜Trコを選択
的に短絡させることにより、抵抗回路全体の抵抗値また
は分圧比を調整することができる。すなわち、基準電圧
回路S■の設計値に基づく設定温度の標準的な値を90
℃とすると、抵抗RaおよびR+”Rsの抵抗値は、図
示しない第1のトリミング領域に対するトリミングを行
った侵チップをウェハから切り出す状態において、ツェ
ナーダイオードTr+〜Trコを全て短絡しない場合の
設定温度が90℃になるように設定されている。ここで
、ツェナーダイオード7r+〜Tr、により短絡される
抵抗R+〜Rコの値を適当に決めておくと、ツェナーダ
イオードTr+〜Tr3を選択的に短絡させることによ
って前述の設定温度を90℃から任意の幅で上下に変化
させることができる。例えば、抵RR+のみを短絡した
場合には設定温度は最大限上昇し、抵抗R7およびR1
を短絡した場合には設定温度は最大限下降する。また、
これらの組み合わせにより、設定温度が上下する幅を調
節することができる。
このように、チップに、ウェハ状態で第1のトリミング
を行うための第1トリミング領域と、チップをウェハか
ら切り出してパッケージした状態で第2のトリミングを
行うための第2のトリミング領域を設けることにより、
チップをウェハから切り出した後の工程に起因する特性
の変化を精度良く補正することができ、ICの製造歩止
まりを高めることができる。
を行うための第1トリミング領域と、チップをウェハか
ら切り出してパッケージした状態で第2のトリミングを
行うための第2のトリミング領域を設けることにより、
チップをウェハから切り出した後の工程に起因する特性
の変化を精度良く補正することができ、ICの製造歩止
まりを高めることができる。
なお、上記実施例では、第1のトリミング領域に対して
サンドブラストやレーザビームによるトリミングを行う
例を示したが、第2のトリミングff[と同様なザラブ
トリミングを行うようにしてもよい。
サンドブラストやレーザビームによるトリミングを行う
例を示したが、第2のトリミングff[と同様なザラブ
トリミングを行うようにしてもよい。
また、第2のトリミング領域は少なくとも1aQ所設け
ればよい。
ればよい。
また、ザラブトリミングの代わりにヒユーズの溶断によ
るヒユーズトリミングを用いてもよいし、これらを併用
してもよい。
るヒユーズトリミングを用いてもよいし、これらを併用
してもよい。
また、上記実施例では、オンチップ恒温器付き基準電圧
回路の例について説明したが、温度センサ]Cなど各種
のICの製造に有効である。
回路の例について説明したが、温度センサ]Cなど各種
のICの製造に有効である。
また、パッケージの形状はディップ形に限るものではな
く、TO−5のようなものであってもよい。
く、TO−5のようなものであってもよい。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、半導体ウェハに
形成されている半導体装置チップおよびパッケージされ
ている半導体装置チップのトリミングを精度良く行うこ
とが・でき、高い歩止まりが実現できる。
形成されている半導体装置チップおよびパッケージされ
ている半導体装置チップのトリミングを精度良く行うこ
とが・でき、高い歩止まりが実現できる。
第1図は本発明の一実施例の要部を示す構成説明図、第
2図はパッケージの具体例図、第3図は本発明の半導体
装置のトリミングの手順の一例を示すフローチャート、
第4図は第5図の回路における第2トリミングの具体例
を示す回路側図、第′5図は半導体集積回路の具体例を
示す回路図である。 RF・・・固定パターン領域、RTI・・・第1トリミ
ング領域、RT2〜RT23・・・第2トリミング領域
、P1〜Pコ・・・パッド、ZD+〜ZD3・・・ツェ
ナーダイオード。 第 1 図 第2図 第4 図 第j図
2図はパッケージの具体例図、第3図は本発明の半導体
装置のトリミングの手順の一例を示すフローチャート、
第4図は第5図の回路における第2トリミングの具体例
を示す回路側図、第′5図は半導体集積回路の具体例を
示す回路図である。 RF・・・固定パターン領域、RTI・・・第1トリミ
ング領域、RT2〜RT23・・・第2トリミング領域
、P1〜Pコ・・・パッド、ZD+〜ZD3・・・ツェ
ナーダイオード。 第 1 図 第2図 第4 図 第j図
Claims (1)
- チップの一部に、ウェハの状態で第1のトリミングを行
うための第1のトリミング領域と、チップをウェハから
切り出してパッケージした状態で第2のトリミングを行
うための第2のトリミング領域とが設けられたことを特
徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP282985A JPS61161749A (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP282985A JPS61161749A (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61161749A true JPS61161749A (ja) | 1986-07-22 |
JPH0314230B2 JPH0314230B2 (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=11540303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP282985A Granted JPS61161749A (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61161749A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009283506A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置、半導体集積回路装置及び半導体装置の電気的特性の調整方法 |
JP2015084175A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | セイコーインスツル株式会社 | 基準電圧発生装置 |
-
1985
- 1985-01-11 JP JP282985A patent/JPS61161749A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009283506A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置、半導体集積回路装置及び半導体装置の電気的特性の調整方法 |
JP2015084175A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | セイコーインスツル株式会社 | 基準電圧発生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0314230B2 (ja) | 1991-02-26 |
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