JPS61143721A - 超短パルスレ−ザ光発生装置 - Google Patents

超短パルスレ−ザ光発生装置

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Publication number
JPS61143721A
JPS61143721A JP26445884A JP26445884A JPS61143721A JP S61143721 A JPS61143721 A JP S61143721A JP 26445884 A JP26445884 A JP 26445884A JP 26445884 A JP26445884 A JP 26445884A JP S61143721 A JPS61143721 A JP S61143721A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light intensity
processor
frequency
light
modulated
Prior art date
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Pending
Application number
JP26445884A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Obe
功 大部
Satoru Todoroki
轟 悟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP26445884A priority Critical patent/JPS61143721A/ja
Publication of JPS61143721A publication Critical patent/JPS61143721A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00Function characteristic
    • G02F2203/26Pulse shaping; Apparatus or methods therefor

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は超短パルスレーザ光発生装置に係り。
特にパルス幅及び周波数を任意に変化させるのに好適な
超短パルスレーザ光発生装置に関する。
〔発明の背景〕
超短パルスレーザ光を得る方法は1例えばオプトロニク
ス誌148 (1982)38〜45頁に開示されてい
るように、内部変調方法と外部変調方法とに大別される
内部変調方法は、連続発振レーザの共振器内に光強度変
調素子を入れ、これにレーザ光の縦モード間隔く相当す
る周波数の変調信号を加えて超短パルスレーザ光を得る
ものである。この方法では、超短パルスレーザ光のパル
ス幅1周波数を変えることがで倖ない。しかし、この方
法により得られた超短パルスレーザ光を共振器ダンパに
通すことにより1周波数を連続的に変えることができる
。しかしながら、パルス幅を変化させることはできない
外部変調方法は、連続発振レーザ光の光路内に1つの光
強度変調素子を置き、この素子に印加する信号電圧の周
期、パルス幅を変えることにより光強度の周期、パルス
幅を連続的に制御するものである。しかるに、h配光強
度変調素子は所定の応答時間を持つため、光強度変調素
子の立上り時間τr、立下り時間τdの和τr+τdよ
り短いパルス光を得ることはできない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、超短パルス光のノくルス幅及び周波数
を任意に変化させることができろ超短パルスレーザ光発
生装置を提供することKある。
〔発明の概要〕
本発明は、連続発振レーザの光路内に2つの光強度変調
素子を直列に設け、各光強度変調素子に印加する信号の
周波数を可変にして超短パルスレーザ光の周波数を任意
の値に変え、各光強度変調素子に印加する信号の間の位
相差を可変にして超短パルスレーザ光のパルス幅を任意
の値に変えるようになしたことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
以下1本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図は超短パルスレーザ光発生装置の一実施例の概略
構成ブロック図である。変調信号発生器7で発生した変
調信号は、第1のプロセッサ4に入力されると共に、位
相遅延器6を通して第2のプロセッサ5にも人力されろ
。つまり。
ta2のプロセッサ5には第1のプロセッサ4に較べて
所定の位相遅れが生じた変調信号が入力される5第1の
プ?セッサ4は第1の光強度変調素子2を、第2のプロ
セッサ5は第2の光強度変調素子3を夫々駆動し、各々
に入力されろ前記変調信号に従い、連続発振レーザ1の
レーザ光強度を変調する。
第2図は前記光強度変v4素子2,3を夫々駆動スる第
1.第2プロセッサ4.5に入る変調信号を示し1次に
この図を参照して超短ノくルスレーザ光発生原理を説明
する。第2図において。
実線8は第1のプロセッサ4に入る変調信号で。
破線9は第2のプロセッサ5に入る変調信号である。変
調信号9は変調信号8に比べ位相が(t、/lQ)・2
ytだけ遅れている。第1の光強度変v4素子2は第1
のプロセッサ4により変調信号8に従って駆動される。
第2の光強度変調素子3は第2のプロセッサ5により変
調信号9に従って駆動される。
連続発振レーザ1から出た光は1両変調信号8.9が共
にオン状態の時に第1.第2の光強度変調素子2,3を
通過し、各変調信号8,9の少なくとも一方がオフ状態
の時には、オフ状LIICある第1の光強度変調素子2
あるいは第2の光強度変調素子3で遮断される。光強度
変調素子2,3は所定の応答時間を有し、立上り時間τ
7.立下り時間τdが存在する為、第21gK示す変調
信号8,9で得られる光強度の時間変化は第3図の如き
ものとなる。第2図における変調信号8.9の間の位相
差を大きくするに従い。
第1の光強度変調朱子2及び第2の光強度変調素子3の
透過率は、第4図に示すように減少変化する。ここで、
線10は第1の光強度変調素子2の透過率の時間変化を
示し、破線It 、 12 、13は第2の光強度変調
素子3の透過率の時間変化を示す。尚、破線11 、1
2 、13の順に変調信号8゜9間の位相差が大きくな
る。この時の透過光強度の時間変化は、第5図に示す如
きものとなる。
第5図に示す各線14 、15 、16は、第2の光強
度変調素子3の透過率が第4図の破線11 、12 、
13の様に変化した時のものに夫々対応する5第5図の
線15の場合、パルス幅はτr+τdとなり、従来技術
の限界値と一致する。本発明では、線15に比べ更に変
調信号8,9間の位相差を大きくすることができ、この
とき得られるパルス@は。
線16で示すようくτ7十τdより小さくなる。このよ
うに、変調信号8,9間の位相差(t、/lo)・2π
を変えることにより、パルス幅を任意に制御できる。ま
た、変調信号の周波数を変えることに、パルス光の周波
数も任意に制御できる。
尚1本実施例では第1の光強度変調素子21C印加する
信号電圧の位相を固定し、笥2の光強度変調素子3に印
加する信号電圧の位相を変化させたが、この逆の場合で
も全く同様の効果が得られることは言うまでもない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、同一光路内に2つ
の光強度変調素子を直列に設け、各々の光強度7&調素
子に印加する信号で圧の間にある位相関係をv4整する
ことにより、超短パルス光のパルス幅を任意に変化させ
ることができる。tた。各光強度変調素子に印加する信
号電圧の周波数を調整することにより、超短パルス光の
周波数も任意に変化させろことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の超短パルスレーザ光発生装置に係る一
実施例の概略柳成ブロック図、囁2図はt:A+=号の
時間変化を示すタイムチャート。 第3図は透過光強度の時間変化な示すグラフ。 第4図は変調信号の位相を変えた場合の透過率の時間変
化を示すタイムチャート、第5図は変調信号の位相を変
えた場合の透過光強度の時間変化を示すグラフである。 1・・・連続発振レーザ 2・・・第1の光強度変調素子 3・・・第2の光強度変調素子 4・・・第1のプロセンサ 5・・・第2のプロセッサ 6・・・位相遅延器、    7・・・変調信号発生器
。 第1図 第 2 図 第 3 図 第4図 第 5 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 連続発振レーザ並びにその光路内に直列に配置した第1
    及び第2の2つの光強度変調素子と、第1の光強度変調
    素子を駆動する第1のプロセッサと、第2の光強度変調
    素子を駆動する第2のプロセッサと、該第2のプロセッ
    サに接続した位相遅延器と、該位相遅延器と前記第1の
    プロセッサの双方に接続した変調信号発生器とを備えて
    成る超短パルスレーザ光発生装置。
JP26445884A 1984-12-17 1984-12-17 超短パルスレ−ザ光発生装置 Pending JPS61143721A (ja)

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JP26445884A JPS61143721A (ja) 1984-12-17 1984-12-17 超短パルスレ−ザ光発生装置

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JP26445884A JPS61143721A (ja) 1984-12-17 1984-12-17 超短パルスレ−ザ光発生装置

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JPS61143721A true JPS61143721A (ja) 1986-07-01

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ID=17403485

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JP26445884A Pending JPS61143721A (ja) 1984-12-17 1984-12-17 超短パルスレ−ザ光発生装置

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JP (1) JPS61143721A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0556974A2 (en) * 1992-02-03 1993-08-25 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Optical pulse generator
JPH06281896A (ja) * 1993-03-25 1994-10-07 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 光パルス発生装置
EP0741316A1 (en) * 1992-02-03 1996-11-06 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Optical pulse generator
EP0726627A3 (en) * 1995-02-09 1997-10-29 Fujitsu Ltd Laser device
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