JPS61143374A - n−アルキル2−チエニルケトンの製造法 - Google Patents
n−アルキル2−チエニルケトンの製造法Info
- Publication number
- JPS61143374A JPS61143374A JP26713484A JP26713484A JPS61143374A JP S61143374 A JPS61143374 A JP S61143374A JP 26713484 A JP26713484 A JP 26713484A JP 26713484 A JP26713484 A JP 26713484A JP S61143374 A JPS61143374 A JP S61143374A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- formula
- thiophene
- production
- thienyl ketone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は電気的表示材料として用いられる液晶物質をは
じめ各種の有用な化合物の製造原料又は製造中間体とし
て使用されるローアルキル2−チェニルケトンの製造法
に関する。
じめ各種の有用な化合物の製造原料又は製造中間体とし
て使用されるローアルキル2−チェニルケトンの製造法
に関する。
[発明の従来技術]
n−アルキル2−チェニルケトンの製造法としては触媒
として無水塩化第二錫を使用してチオフェンとn−アル
キルカルボン酸塩化物を反応させる方法(G、 M、
Badger、 H,J、 Rodda、 and
W、 H,F、 5asse、 J、 C,S、、19
54.4162)が知られている。
として無水塩化第二錫を使用してチオフェンとn−アル
キルカルボン酸塩化物を反応させる方法(G、 M、
Badger、 H,J、 Rodda、 and
W、 H,F、 5asse、 J、 C,S、、19
54.4162)が知られている。
しかしこの方法は発煙性の無水塩化第二錫や毒性の高い
ベンゼンを使用しなければならないという欠点がある。
ベンゼンを使用しなければならないという欠点がある。
一方、チオフェンと無水酢酸を攪拌しながら少量の過塩
素酸を滴下してメチル2−チェニルケトンを製造する方
法が知られている[G、N、Dorofeenko、
z hur、 v 5esoyuz、 K hi
(Obshchestvaim、 D、 1. Me
ndeleeva 5,354(1960) :Ch
el、 AbStr、、54.22563Q ]
。
素酸を滴下してメチル2−チェニルケトンを製造する方
法が知られている[G、N、Dorofeenko、
z hur、 v 5esoyuz、 K hi
(Obshchestvaim、 D、 1. Me
ndeleeva 5,354(1960) :Ch
el、 AbStr、、54.22563Q ]
。
[発明の目的]
本発明者は上記公知例における無水酢酸の代りに炭素数
の多い無水n−アルキルカルボン酸を使用すれば、常温
で目的とするn−アルキル2−チェニルケトンが高収率
で得られることを見い出した。
の多い無水n−アルキルカルボン酸を使用すれば、常温
で目的とするn−アルキル2−チェニルケトンが高収率
で得られることを見い出した。
本発明は以上のような知見に基づいてなされたものでn
−アルキル2−チェニルケトンを容易に製造する方法を
提供することを目的とする。
−アルキル2−チェニルケトンを容易に製造する方法を
提供することを目的とする。
〔発明の構成1
すなわち本発明は、チオフェンと、
一般式 (RCO)20 ・・・・・・・・・(I
I)(式中、Rは炭素原子数2〜7の直鎖アルキル基を
示す) で表わされる無水n−アルキルカルボン酸とを、触媒と
して過塩素酸を用いて反応させ、(式中、Rは前記と同
一意味) で表わされる化合物を得ることを特徴とするn −アル
キル2−チェニルケトンの製造法である。
I)(式中、Rは炭素原子数2〜7の直鎖アルキル基を
示す) で表わされる無水n−アルキルカルボン酸とを、触媒と
して過塩素酸を用いて反応させ、(式中、Rは前記と同
一意味) で表わされる化合物を得ることを特徴とするn −アル
キル2−チェニルケトンの製造法である。
式(I)の化合物においてRは炭素原子数2〜7の直鎖
アルキル基であり、特に炭素原子数4〜7が好ましい。
アルキル基であり、特に炭素原子数4〜7が好ましい。
本発明の方法においては、ベンゼン、エーテルなどの有
機溶媒中で製造してもよいが、特に無溶媒で行なうのが
反応処理工程上好都合である。温度は通常空温あるいは
やや上昇した温度で行なうが、いずれにしても外部から
の加熱あるいは冷却は必要としない。
機溶媒中で製造してもよいが、特に無溶媒で行なうのが
反応処理工程上好都合である。温度は通常空温あるいは
やや上昇した温度で行なうが、いずれにしても外部から
の加熱あるいは冷却は必要としない。
また式(It)の化合物はチオフェンに対し等モル用い
るのが好ましい。
るのが好ましい。
[発明の実施例〕
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例1
チオフェン42Q (0,5モル)と無水プロピオン
酸[(02Hs Co) 2017SQ (0,5モル
)の混合物に攪拌下で60%過塩素酸10滴をV温で滴
下して2時間攪拌した。この混合物を水2001に加え
、有機層を分離し、炭酸ナトリウム溶液で中和し、水洗
機無水芒硝で乾燥し、反応生成物を減圧下で照温して下
記の化合物62,5Qを得た。収率89.3%。沸点1
24〜125℃/30mml−1(J。
酸[(02Hs Co) 2017SQ (0,5モル
)の混合物に攪拌下で60%過塩素酸10滴をV温で滴
下して2時間攪拌した。この混合物を水2001に加え
、有機層を分離し、炭酸ナトリウム溶液で中和し、水洗
機無水芒硝で乾燥し、反応生成物を減圧下で照温して下
記の化合物62,5Qを得た。収率89.3%。沸点1
24〜125℃/30mml−1(J。
NMR(δ、CCI 4 )
1.20 (t 、3H,−CH3)2.88
(Q 、2H,−CHz −)7.13 (Q
、 I HlHb )7.55〜7.61 (
m 、2H,HaおよびHc)実施例2〜6 実施例1における無水プロピオン!! [(Cz H5
CO)20]の代りに下記の化合物0.5モルを各々用
いる以外は同実施例と同様にして第1表に示す化合物を
得た。
(Q 、2H,−CHz −)7.13 (Q
、 I HlHb )7.55〜7.61 (
m 、2H,HaおよびHc)実施例2〜6 実施例1における無水プロピオン!! [(Cz H5
CO)20]の代りに下記の化合物0.5モルを各々用
いる以外は同実施例と同様にして第1表に示す化合物を
得た。
(n −C387Go) 20
(n −C4Hs Co) 20
(n −Cs H+ + Go) 20(n −Cs
H+ s Co) 20(n −07H+ s CO)
2O 第1表 1.76(■、2H,−CH2−> 2 n −C3H787,613Er−138℃/ 2
.&3(t 、 2H,−GO−32118OGHz
−) 7.08 (Q 、 2H,Hb ) 7.48〜7.641+ 、 2H,ト(al、2
2〜1.84 (i 、 4H。
H+ s Co) 20(n −07H+ s CO)
2O 第1表 1.76(■、2H,−CH2−> 2 n −C3H787,613Er−138℃/ 2
.&3(t 、 2H,−GO−32118OGHz
−) 7.08 (Q 、 2H,Hb ) 7.48〜7.641+ 、 2H,ト(al、2
2〜1.84 (i 、 4H。
−CH2−)
3 n −C4H! 85.4149〜b2mHa
CH2−) 7.05 (Q、IH,Hb ) 7.46〜7.61 (i 、 2H1Ha1.36
(*、4H1−GHz ) 1.71 (i、2H,−CH2−) 4 n −Cs H+ + &5.216G−161
℃/2.81(t、2H,−CO−25閣HOCH2−
) 7.05 (Q、11→、Hb) 7.46〜7.62 (m 、 2H,Ha1.33(
sl 6H1−CH2−> 1.70(■、2H,−CH2−) 5 n−C6H+ 3&3.5170〜b30m+H
a CH2−)7.04 (Q 、
IH,Hb )7.46−7.61 (g+ 、 2
H1Hal、33 (S 、 8H1−CH2−)1
.70 (−12H,−CH2−) 6 n −07HIs &4.3 185〜b2
8aHo CH2−)7.04 (Q
、 IHSHb )7.45〜7.61 (m 、
2H1HaおよびHa) (以下余白) [発明の効果] 本発明の方法によれば炭素原子数の多いアルカノイル基
をチオフェンの2位の位置に有するチオフェン誘導体が
無溶媒かつ常温で容易に製造できる。
CH2−) 7.05 (Q、IH,Hb ) 7.46〜7.61 (i 、 2H1Ha1.36
(*、4H1−GHz ) 1.71 (i、2H,−CH2−) 4 n −Cs H+ + &5.216G−161
℃/2.81(t、2H,−CO−25閣HOCH2−
) 7.05 (Q、11→、Hb) 7.46〜7.62 (m 、 2H,Ha1.33(
sl 6H1−CH2−> 1.70(■、2H,−CH2−) 5 n−C6H+ 3&3.5170〜b30m+H
a CH2−)7.04 (Q 、
IH,Hb )7.46−7.61 (g+ 、 2
H1Hal、33 (S 、 8H1−CH2−)1
.70 (−12H,−CH2−) 6 n −07HIs &4.3 185〜b2
8aHo CH2−)7.04 (Q
、 IHSHb )7.45〜7.61 (m 、
2H1HaおよびHa) (以下余白) [発明の効果] 本発明の方法によれば炭素原子数の多いアルカノイル基
をチオフェンの2位の位置に有するチオフェン誘導体が
無溶媒かつ常温で容易に製造できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 チオフェンと、 一般式 (RCO)_2O (式中、Rは炭素原子数2〜7の直鎖アルキル基を示す
) で表わされる無水n−アルキルカルボン酸とを、触媒と
して過塩素酸を用いて反応させ、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは前記と同一意味) で表わされる化合物を得ることを特徴とするn−アルキ
ル2−チエニルケトンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26713484A JPH0247994B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Nnarukiru22cheniruketonnoseizoho |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26713484A JPH0247994B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Nnarukiru22cheniruketonnoseizoho |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61143374A true JPS61143374A (ja) | 1986-07-01 |
JPH0247994B2 JPH0247994B2 (ja) | 1990-10-23 |
Family
ID=17440545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26713484A Expired - Lifetime JPH0247994B2 (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | Nnarukiru22cheniruketonnoseizoho |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0247994B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005058866A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2005-06-30 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 2−アシルチオフェン化合物の製造方法 |
-
1984
- 1984-12-17 JP JP26713484A patent/JPH0247994B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005058866A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2005-06-30 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 2−アシルチオフェン化合物の製造方法 |
CN100455578C (zh) * | 2003-12-17 | 2009-01-28 | 住友精化株式会社 | 2-酰基噻吩化合物的制备方法 |
US7659411B2 (en) | 2003-12-17 | 2010-02-09 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Process for producing 2-acylthiophene compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0247994B2 (ja) | 1990-10-23 |
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