JPS61142462A - キヤピラリイ・カラム用ガラス板 - Google Patents
キヤピラリイ・カラム用ガラス板Info
- Publication number
- JPS61142462A JPS61142462A JP59265095A JP26509584A JPS61142462A JP S61142462 A JPS61142462 A JP S61142462A JP 59265095 A JP59265095 A JP 59265095A JP 26509584 A JP26509584 A JP 26509584A JP S61142462 A JPS61142462 A JP S61142462A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass plate
- capillary column
- substrate
- capillary
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/60—Construction of the column
- G01N30/6095—Micromachined or nanomachined, e.g. micro- or nanosize
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/355—Temporary coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、〃ス・クロマトグラフ用のキャピラリィ・カ
ラムにおけるキャピラリィ・カラム用がラス板であり、
特に、キャピラリィ・カラム用細溝を穿設したキャピラ
リィ・カラム用基板に密着するキャピラリィ・カラム用
ガラス板に関する。
ラムにおけるキャピラリィ・カラム用がラス板であり、
特に、キャピラリィ・カラム用細溝を穿設したキャピラ
リィ・カラム用基板に密着するキャピラリィ・カラム用
ガラス板に関する。
（従来技術とその問題点）
キャピラリィ・カラム用細溝を穿設したキャピラリィ・
カラム用基板にガラス板（米国コーニング社製品名「パ
イレックス・ガラス」）をシリコン・ウェハーキャピラ
リィ・カラム用基板に約３００℃〜７００℃で密着して
キャピラリィ・カラムを形成していた。
カラム用基板にガラス板（米国コーニング社製品名「パ
イレックス・ガラス」）をシリコン・ウェハーキャピラ
リィ・カラム用基板に約３００℃〜７００℃で密着して
キャピラリィ・カラムを形成していた。
しかるに、シリコン・ウェハーキャピラリィ・カラム基
板にキャピラリィ・カラム用ガラス板としてのパイレッ
クス・ガラス板を密着させる従来のキャピラリィ・カラ
ムにおいては、キャピラリィ・カラム内を流入するコー
テイング液のなじみ率がシリコン・ウェハーとパイレッ
クス・ガラスでは材質が異なり微細な〃スその他の流体
物を検出分析する装置にとって正確な分析結果を得るこ
とができないという問題点があった。
板にキャピラリィ・カラム用ガラス板としてのパイレッ
クス・ガラス板を密着させる従来のキャピラリィ・カラ
ムにおいては、キャピラリィ・カラム内を流入するコー
テイング液のなじみ率がシリコン・ウェハーとパイレッ
クス・ガラスでは材質が異なり微細な〃スその他の流体
物を検出分析する装置にとって正確な分析結果を得るこ
とができないという問題点があった。
（発明の目的）
本発明は、このよう、な問題を解消するものであリ、キ
ャピラリィ・カラム用基板に密着するキャピラリィ・カ
ラム用ガラス板にシリコン膜を形成してコーテイング液
のなじみ率を均一にす゛るキャピラリィ・カラム用ガラ
ス板を提供することを目的とする。
ャピラリィ・カラム用基板に密着するキャピラリィ・カ
ラム用ガラス板にシリコン膜を形成してコーテイング液
のなじみ率を均一にす゛るキャピラリィ・カラム用ガラ
ス板を提供することを目的とする。
（発明の概要）
本発明は、キャピラリィ・カラム用細溝を穿設したキャ
ピラリィ・カラム用基板に密着してキャピラリィ・カラ
ムを形成するキャピラリィ・カラム用ガラス板であって
、キャピラリィ・カラム用ガラス板にシリコン膜を形成
してキャピラリィ・カラム内を流入するコーテイング液
のなじみ率を均一にして高精度な分析に資するキ、ヤビ
ラリイ・カラム用ガラス板である。
ピラリィ・カラム用基板に密着してキャピラリィ・カラ
ムを形成するキャピラリィ・カラム用ガラス板であって
、キャピラリィ・カラム用ガラス板にシリコン膜を形成
してキャピラリィ・カラム内を流入するコーテイング液
のなじみ率を均一にして高精度な分析に資するキ、ヤビ
ラリイ・カラム用ガラス板である。
（発明の実施例）
不発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、本発明の構成を示す一部拡大断面図であり、
キャピラリィ・カラム用ガラス板（以下ガラス板という
）１にシリコンｌｌＩ２を後述する蒸着法により蒸着し
て形成する。
キャピラリィ・カラム用ガラス板（以下ガラス板という
）１にシリコンｌｌＩ２を後述する蒸着法により蒸着し
て形成する。
次に、本発明の実施例を第２図に基づき説明する。シリ
コン・ウェハー３にキャピラリイ・カラ゛ム溝−４を形
成したシリコン・ウェハーキャピラリィ・カラム用基板
Ａに本発明に係るプラス板１を密着すると、キャピラリ
ィ・カラム５が形成される。
コン・ウェハー３にキャピラリイ・カラ゛ム溝−４を形
成したシリコン・ウェハーキャピラリィ・カラム用基板
Ａに本発明に係るプラス板１を密着すると、キャピラリ
ィ・カラム５が形成される。
キャピラリィ・カラム５の内周は全域面がシリコンで形
成され、ｔｔ４３図に示す従来のキャピラリィ・カラム
のように、ガラス板１がキャビラ□リイ・カラムを直接
に゛構成するのとは異なる。コーテイング液をキャピラ
リィ・カラム５内に流入させた際のなじみ率は、本発明
に係るガラス板１を使用した場合と従来のガラス板を使
用した場合では材質が異なるため相違し、本発明に係る
ガラス板１を使用した場合には、コーテイング液のなじ
み率を均一することが可能となる。
成され、ｔｔ４３図に示す従来のキャピラリィ・カラム
のように、ガラス板１がキャビラ□リイ・カラムを直接
に゛構成するのとは異なる。コーテイング液をキャピラ
リィ・カラム５内に流入させた際のなじみ率は、本発明
に係るガラス板１を使用した場合と従来のガラス板を使
用した場合では材質が異なるため相違し、本発明に係る
ガラス板１を使用した場合には、コーテイング液のなじ
み率を均一することが可能となる。
次に、本発明に係るキャピラリィ・カラム用プラス板の
製造工程を第４図（１）から（６）に基づいて説明する
。
製造工程を第４図（１）から（６）に基づいて説明する
。
がラス板１に直流二極スバタリング装置による標準的な
動作条件（例えばガス圧約１０ ”Ｔｏｒｒ、電圧的１
ｋｖ）で厚さ約１μｍのシリコン膜２を形成する（第
４図（２）参照）。
動作条件（例えばガス圧約１０ ”Ｔｏｒｒ、電圧的１
ｋｖ）で厚さ約１μｍのシリコン膜２を形成する（第
４図（２）参照）。
シリコン膜２が蒸着されたぞ・の上にレノストを塗布し
てレジスト膜１０を形成する（第４図（３）参照）。
てレジスト膜１０を形成する（第４図（３）参照）。
次の工程ではキャピラリィ・カラム用基板Ａに穿設した
細溝の幅と一致させたシリコン膜２を最終的にキャピラ
リィ・カラム用ガラス板１に形成させるために、まず、
ガラス板１の表面が露出できるようにまず、レジスト膜
１０の不必要部分を紫外線露光及び現像により除去する
（第４図（４）参照）。
細溝の幅と一致させたシリコン膜２を最終的にキャピラ
リィ・カラム用ガラス板１に形成させるために、まず、
ガラス板１の表面が露出できるようにまず、レジスト膜
１０の不必要部分を紫外線露光及び現像により除去する
（第４図（４）参照）。
紫外線露光及び現像により不必要部分としてレノスト膜
１０が除去された面に沿ってガラス板１に到達し、ガラ
ス板１の表面が露出するまでエツチング処理によりシリ
コンＭ５Ｉ２を除去し、かつレジスト膜１０を除去する
ことにより本発明に係るがラス板１が構成される（ｔｊ
４４図（５）（６）参照）。
１０が除去された面に沿ってガラス板１に到達し、ガラ
ス板１の表面が露出するまでエツチング処理によりシリ
コンＭ５Ｉ２を除去し、かつレジスト膜１０を除去する
ことにより本発明に係るがラス板１が構成される（ｔｊ
４４図（５）（６）参照）。
（発明の効果）
本発明は、以上の構成であるから、キャピラリィ・カラ
ム用基板に接着したときにキャピラリィ・カラム内の材
質が全域面均−になるため、流体の流出入が均一になる
効果を奏する。
ム用基板に接着したときにキャピラリィ・カラム内の材
質が全域面均−になるため、流体の流出入が均一になる
効果を奏する。
ｖ＆１図は、本発明の構成を示す一部拡大断面図であり
、第２図は本発明の実施例の一部拡大断面図、第３図は
従来例の一部拡大断面図、＠４図（１）から（６）は、
本発明のガラス板を製造工程順に示した断面図である。 １・・・キャピラリィ・カラム用ガラス板２・・・シリ
コン膜 ゛ ３・・・シリコン・ウェハー ４・・・キャピラリィ・カラム溝 ５・・・キャピラリィ・カラム
、第２図は本発明の実施例の一部拡大断面図、第３図は
従来例の一部拡大断面図、＠４図（１）から（６）は、
本発明のガラス板を製造工程順に示した断面図である。 １・・・キャピラリィ・カラム用ガラス板２・・・シリ
コン膜 ゛ ３・・・シリコン・ウェハー ４・・・キャピラリィ・カラム溝 ５・・・キャピラリィ・カラム
Claims (1)
- 少なくともキャピラリィ・カラム用細溝内面がシリコン
から成るキャピラリィ・カラム用基板であって、該キャ
ピラリィ・カラム用基板に密着するキャピラリィ・カラ
ム用ガラス板にシリコンを有するキャピラリィ・カラム
用ガラス板において、キャピラリィ・カラム用基板とキ
ャピラリィ・カラム用ガラス板を密着した際にキャピラ
リィ・カラム用基板に形成したキャピラリィ・カラム溝
と符合するようにシリコンを形成したことを特徴とする
キャピラリィ・カラム用ガラス板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59265095A JPS61142462A (ja) | 1984-12-15 | 1984-12-15 | キヤピラリイ・カラム用ガラス板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59265095A JPS61142462A (ja) | 1984-12-15 | 1984-12-15 | キヤピラリイ・カラム用ガラス板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61142462A true JPS61142462A (ja) | 1986-06-30 |
Family
ID=17412531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59265095A Pending JPS61142462A (ja) | 1984-12-15 | 1984-12-15 | キヤピラリイ・カラム用ガラス板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61142462A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4935040A (en) * | 1989-03-29 | 1990-06-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Miniature devices useful for gas chromatography |
| US5087275A (en) * | 1987-09-22 | 1992-02-11 | Thomson-Csf | Electrochemical sensor having microcavities |
| US5720798A (en) * | 1996-04-30 | 1998-02-24 | Hewlett-Packard Company | Micromachined analyte trap for gas phase streams |
| KR100460769B1 (ko) * | 2001-11-19 | 2004-12-08 | 홍석인 | 스크린프린트법을 이용한 바이오마이크로시스템용미세유체 흐름관 제작 방법 |
| US7147695B2 (en) * | 2002-12-13 | 2006-12-12 | New Jersey Institute Of Technology | Microfabricated microconcentrator for sensors and gas chromatography |
-
1984
- 1984-12-15 JP JP59265095A patent/JPS61142462A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5087275A (en) * | 1987-09-22 | 1992-02-11 | Thomson-Csf | Electrochemical sensor having microcavities |
| US4935040A (en) * | 1989-03-29 | 1990-06-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Miniature devices useful for gas chromatography |
| US5720798A (en) * | 1996-04-30 | 1998-02-24 | Hewlett-Packard Company | Micromachined analyte trap for gas phase streams |
| KR100460769B1 (ko) * | 2001-11-19 | 2004-12-08 | 홍석인 | 스크린프린트법을 이용한 바이오마이크로시스템용미세유체 흐름관 제작 방법 |
| US7147695B2 (en) * | 2002-12-13 | 2006-12-12 | New Jersey Institute Of Technology | Microfabricated microconcentrator for sensors and gas chromatography |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5116704A (en) | Barrier rib forming method of PDP | |
| JPS61142462A (ja) | キヤピラリイ・カラム用ガラス板 | |
| JPS5851412B2 (ja) | 半導体装置の微細加工方法 | |
| JP2003139920A (ja) | マイクロレンズの製造方法 | |
| US20020146725A1 (en) | Chip for large-scale use of industrial genomics in health and agriculture and method of making same | |
| JPS61233366A (ja) | キヤピラリイ・カラム用基板 | |
| JPH01292829A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| US6410445B1 (en) | Manufacturing method for integrated sensor arrays | |
| JPS61155858A (ja) | キヤピラリイ・カラム用基板 | |
| JPS62231901A (ja) | ブレ−ズド回折格子の製造方法 | |
| JP2006284722A (ja) | 液晶表示素子、及び配向膜形成方法 | |
| JPH0315824A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JPS6315250A (ja) | フォトマスク上の粒状物質を減少させる方法およびその装置 | |
| JPH0298174A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JPH0437292Y2 (ja) | ||
| JPS6050937A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS58152241A (ja) | 高精度マスクの製造方法 | |
| KR19990002309A (ko) | 리가(liga) 공정을 이용한 금속구조물 제조방법 | |
| JPS61248535A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS5812336A (ja) | バキユ−ム・チヤツク | |
| JPH02181754A (ja) | フォトマスク | |
| JPS5812337B2 (ja) | ビサイパタ−ンノ トウメイマクノケイセイホウホウホウ | |
| JPH0322686B2 (ja) | ||
| CN1248019C (zh) | 微机电式法布里－珀罗装置制造方法 | |
| JPS62167869A (ja) | 金属膜のパタ−ン化方法 |