JPS6113704B2

JPS6113704B2 -

Info

Publication number: JPS6113704B2
Application number: JP2302778A
Authority: JP
Inventors: Kazuki Takemoto; Akira Yoshida; Katsuzo Kamoshita; Seizo Sumida
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1978-02-28
Filing date: 1978-02-28
Publication date: 1986-04-15
Also published as: JPS54115347A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は一般式〔〕〔式中、R₁は水素原子、メチル基またはメトキシ
基を示す。R₂は水素原子を示す。R₃は同一かま
たは相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはト
リフルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を
示す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。
Ｙは酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖ま
たは分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいは
その炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫
黄原子を含む直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体、当該化合物の製造法および当該化合物を
有効成分とする除草剤に関するものである。一般式〔〕においてR₃はたとえば同一かま
たは相異なり、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、弗素原子、塩素原子、臭素原子、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチ
オ基、ブチルチオ基、トリフルオロメチル基であ
り、ｎは０〜５のいずれかの整数である。Ｘは、
たとえば、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素
原子である。Ｚは、たとえば、エチレン基、エチ
リデン基、トリメチレン基、２−メチルエチレン
基、１−メチルエチレン基、テトラメチレン基、
１−メチルトリメチレン基、１・２−ジメチルエ
チレン基、２・２−ジメチルエチレン基、ペンタ
メチレン基、２−メチルテトラメチレン基、３−
メチルテトラメチレン基、２・３−ジメチルトリ
メチレン基、２・２−ジメチルトリメチレン基、
３−エチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、
５−メチルペンタメチレン基、２・４−ジメチル
テトラメチレン基、３−エチルテトラメチレン
基、２・３・３−トリメチレン基、３−プロピル
トリメチレン基、ヘプタメチレン基、２−メチル
ヘキサメチレン基、４−メチルヘキサメチレン
基、５−メチルヘキサメチレン基、２・５−ジメ
チルペンタメチレン基、３・５−ジメチルペンタ
メチレン基、５・５−ジメチルペンタメチレン
基、４−エチルペンタメチレン基、２・３・４−
トリメチルテトラメチレン基、２・４・４−トリ
メチルテトラメチレン基、２−プロピルテトラメ
チレン基、オクタメチレン基、６−メチルヘプタ
メチレン基、４・６−ジメチルヘキサメチレン
基、４−エチルヘキサメチレン基、２・４・５−
トリメチルペンタメチレン基、２−メチル−５−
エチルペンタメチレン基、メチレンオキシ基、メ
チレンチオ基、２−オキシエチル基、２−チオエ
チル基、１−オキシエチル基、メチレンオキシメ
チル基、メチレンチオメチル基、３−オキシプロ
ピル基、３−チオプロピル基、２−オキシ−１−
メチルエチル基、２−（メチレンオキシ）エチル
基、（２−オキシエチル）オキシメチル基、４−
オキシブチル基、３−オキシ−１−メチルプロピ
ル基、２−オキシ−１−エチルエチル基、３−メ
チレンチオプロピル基、（２−メチレンオキシエ
チル）オキシメチル基、５−オキシペンチル基、
５−チオペンチル基、３−オキシ−１・３−ジメ
チルプロピル基、（３−オキシプロピル）オキシ
メチル基、（３−チオプロピル）オキシメチル
基、３−（１−エチレンオキシ）プロピル基、３
−メトキシペンタメチレン基、２−（２−オキシ
エチルオキシ）エチルオキシメチル基、６−オキ
シヘキシル基、３−（１−トリメチレンオキシ）
プロピル基、７−オキシヘプチル基、７−チオヘ
プチル基などである。（上記命名の位置番号はフエニルウレア側の炭素
を起点とする。）イネ、小麦、トウモロコシ、大豆、綿、ビート
等は重要な作物であり、これらの作物を雑草害か
ら守り、増収をはかるために除草剤を使用するこ
とは欠くことができない。本発明者らはこれらの作物に対しては選択性を
有し、雑草に対しては低毒性でこれを枯殺し、か
つ人畜に対しては毒性の低い除草剤を見出すべく
研究を続けてきた。尿素系化合物には、N′−４−クロロフエニル
−Ｎ・Ｎ−ジメチルウレア（モニユロン）、N′−
３・４−ジクロロフエニル−Ｎ・Ｎ−ジメチルウ
レア（ジウロン）にみられるような強い除草作用
を有する化合物のあることは公知の事実であり、
また、これらの尿素化合物の除草作用が光合成阻
害作用にあることも公知の事実である。光合成作
用は動物にはない植物特有の生理作用であり、し
たがつて光合成経路特有の阻害剤が動物には害が
なく、植物を枯死させることができる可能性は高
い。現にN′−４−クロロフエニル−Ｎ・Ｎ−ジ
メチルウレア（モニユロン）、N′−３・４−ジク
ロロフエニル−Ｎ・Ｎ−ジメチルウレア（ジウロ
ン）、５−ブロモ−３−sec−ブチルウラシル（ブ
ロマシル）等の光合成阻害剤はいずれも動物に対
する毒性は低い。このように光合成阻害剤は一般
に毒性が低いという長所を有しているが、一方で
は光合成は高等植物に共通しているのでその阻害
剤はどの植物に対しても枯殺作用を示す可能性を
有する。すなわち、非選択的で作物に対しても薬
害を有する場合が多い。ところで選択性除草剤は
目的とする作物には害を与えることなく、雑草に
対しては強い殺草作用を有することが必要であ
る。しかし、高度の選択性と強い殺草性とを有す
る選択性除草剤を見出すことは非常に困難なこと
であつて、単なる化学構造の類似性や構造修飾か
らは容易に類推できるものではなく、試行錯誤を
繰返す緻密な研究が必要である。たとえば、尿素系化合物のN′−３・４−ジク
ロロフエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルウレア
（リニユロン）はセリ科植物に対し選択性を有す
るが、このリニユロンのメトキシ基をメチル基ま
たはエチル基に代えるとセリ科植物に対する選択
性は全く消失する〔Herbicide Handbook of
The Weed Science Society of America、3rd
Ed.、Pages 172 to 176 and 221 to 225
（1974）〕。この様に選択殺草性の機構は非常に特
異的なものであつて、わずかの化学構造の違いに
よつても大きな選択性の差を生ずる。本発明者らは、人畜に対する低毒性および強い
殺草作用の面から尿素系化合物に着目し、これに
選択性を付与すべく多くの化合物を検討してきた
結果、一般式〔〕で表わされる本発明化合物
が、これを畑の発芽後茎葉処理剤として用いた場
合、多くの雑草に対して強い殺草作用を有し、か
つ数種の重要作物に対しては薬害がきわめて少
く、またこれを水田用除草剤として用いた場合、
イネに薬害を示すことなく安全に使用できること
を見出したのである。さらに詳しく本発明化合物の殺草作用を述べる
と、本発明化合物は水田雑草に対して発芽前処
理、発芽後処理のいずれにおいても広範囲の種類
の雑草に強い殺草作用を有する。たとえば、キカ
シグサ、ミズハコベ、アゼナ、コナギ、アブノ
メ、アゼトウガラシ、タイヌビエ、タマガヤツリ
等の水田雑草に対して強い殺草作用を有する。前
述したごとくイネに対しては薬害を示すことはな
い。また、本発明化合物を畑雑草に対して発芽後
処理した場合には広範囲の種類の雑草に強い殺草
作用を有する。たとえば、オナモミ、ヒマワリ、
アオビユ、シロザ、マルバアサガオ、チヨウセン
アサガオ、イヌボウズキ、アメリカキンゴジカ、
エビスグサ、スベリヒユ、タデ、オオブタクサ、
イチビ、ナズナ、タネツケバナ、ハコベ、ヤエム
グラ、オランダミミナグサ、ツメクサ、セイバン
モロコシ、アメリカツノクサネム等の広葉雑草、
ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビ
ラ、カラスムギ等のイネ科雑草に対して強い殺草
作用を有する。前述したごとくダイズ、ワタ、テ
ンサイ、トウモロコシ、コムギに対してはほとん
ど薬害を示すことはない。一般式〔〕で表わされる本発明化合物は新規
化合物であるが、構造上類似した化合物として、
アメリカ特許第3819697号明細書に記載されてい
るN′−３−（ベンジルオキシ）フエニルＮ・Ｎ−
ジメチルウレア（後記実施例中対照化合物(a)）が
知られている。しかしながら、実施例にもその一
部を示したように、対照化合物(a)を本発明化合物
と比較したとき、本発明化合物の殺草効力が著し
く強力であつた。すなわち、対照化合物(a)のベン
ジル基の側鎖をさらにのばして、フエニルプロピ
ル基、フエニルブチル基、フエニルノニル基等の
フエニルC₃〜C₉のアルキル基、あるいはフエノ
キシエチル基、フエニルチオエチル基、フエノキ
シプロピル基等の酸素原子または硫黄原子を有す
るフエニルC₂〜C₈アルキル基にすることによ
り、殺草作用が大きく向上したのである。さらに予期しえない事実として、本発明化合物
〔〕の側鎖のベンゼン環に置換基を導入するこ
とにより、選択性および／または殺草作用を高め
たことがあげられる。以上述べたように、本発明化合物は、農耕地に
おける選択性除草剤としてはきわめて有用である
ことは明白であるが、その除草活性の強いことを
利用して、非農耕地においても使用できるすぐれ
た除草剤である。本発明化合物〔〕は新規化合物であり、次の
各種の方法により製造できる。 (a) 一般式〔〕〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは一般式
〔〕に記載のとおりである。〕で表わされるフエニルイソシアネート誘導体と
モノメチルアミン、ジメチルアミンまたはＮ・
Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンとを反応させ
る製造法。この反応は、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアミド、
クロロホルム、四塩化炭素などの有機溶媒もし
くは水またはそれらの混合溶媒中で行なうこと
ができる。反応は必要に応じて冷却または加熱
（０〜50℃）することにより、１時間から10時
間で完結し、収率よく目的物を得ることができ
る。 (b) 一般式〔〕〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは一般式
〔〕に記載のとおりである。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−ヒドロキシ
ウレア誘導体のメチル化反応による製造法。メチル化剤としては、ヨウ化メチル、硫酸ジ
メチル、ジアゾメタン等を用いることができ
る。たとえば硫酸ジメチルを用いる方法では、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化
メチレン等の有機溶媒もしくは水またはそれら
の混合溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリを用いて行なうことができ
る。反応は必要に応じて冷却または加熱（０〜
100℃）することにより、１時間から10時間で
完結し、収率よく目的物（R₁はメトキシ基を
示す。）を得ることができる。 (c) 一般式〔〕〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは一般式
〔〕に記載のとおりである。〕で表わされるアニリン誘導体とメチルイソシア
ネート、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルカルバミル
クロリドまたはＮ・Ｎ−ジメチルカルバミルク
ロリドとを反応させる製造法。この反応は、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸
エチル、ピリジン、ジメチルホルムアミド等の
有機溶媒またはその混合物中において行なわ
れ、ピリジン、トリエチルアミン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の脱塩化水素剤を用
いることにより反応を高収率で行なうことがで
きる。反応は必要に応じて、冷却または加熱
（０〜150℃）することにより、１時間から10時
間で完結し、収率よく目的物を得ることができ
る。 (d) 一般式〔〕〔式中、R₂、R₃、ｎおよびＺは一般式〔〕に
記載したとおりである。Ａはハロゲン原子を示
す。〕で表わされるハライド誘導体と一般式〔〕〔式中、R₁およびＸは一般式〔〕に記載した
とおりである。Ｑはヒドロキシ基またはメルカ
プト基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレ
ア誘導体とを反応させる製造法。反応は、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレ
ン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等の有機溶媒もしくは水またはそれらの混合
溶媒中において、ピリジン、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム等の脱ハロゲン化水素剤を用いて行
なうことができる。製法(a)における一般式〔〕にて示されるフエ
ニルイソシアネート誘導体は一般式〔〕にて示
されるアニリン誘導体とホスゲンとの反応により
容易に得ることができる。また製法(b)における一
般式〔〕にて示されるN′−フエニル−Ｎ−ヒ
ドロキシウレア誘導体は相当するアニリン誘導体
〔〕とホスゲンとの反応によつて得られる一般
式〔〕にて示されるフエニルイソシアネートと
ヒドロキシルアミンとの反応により容易に得るこ
とができる。次に製法(a)、(b)、(c)の共通原料である一般式
〔〕にて示されるアニリン誘導体の若干例をあ
げる。次の一般式〔〕で示される本発明化合物を例
示すると以下のようになるが、本発明化合物はこ
れらのみに限定されるものではない。（化合物番号は以下の配合例、実施例において共
通に使用される。）本発明化合物を実際に使用する際は、原体その
ものを散布することができ、また、水和剤、乳
剤、粒剤、粉剤等のいずれの製剤形態のものでも
使用できる。これらの製剤品を作成するにあたつて、固体担
体としてはたとえば鉱物質粉末（カオリン、ベン
トナイト、クレー、モンモリロナイト、タルク、
珪藻土、雲母、バーミキユライト、石こう、炭酸
カルシウム、リン灰石など）、植物質粉末（大豆
粉、小麦粉、木粉、タバコ粉、でんぷん、結晶セ
ルローズなど）、高分子化合物（石油樹脂、ポリ
塩化ビニール、ダンマルガム、ケトン樹脂な
ど）、さらにアルミナ、ワツクス類などがあげら
れる。また、液体担体としては、たとえばアルコール
類（メチルアルコール、エチルアルコール、エチ
レングリコール、ベンジルアルコールなど）、芳
香族炭化水素類（トルエン、ベンゼン、キシレ
ン、メチルナフタレンなど）、塩素化炭化水素類
（クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロベンゼ
ンなど）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒド
ロフランなど）、ケトン類（アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル
類（酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコー
ルアセテートなど）、酸アミド類（ジメチルホル
ムアミドなど）、ニトリル類（アセトニトリルな
ど）、エーテルアルコール類（エチレングリコー
ルエチルエーテルなど）、および水などがあげら
れる。乳化、分散、拡展等の目的で使用される界面活
性剤は非イオン性、陰イオン性、陽イオン性およ
び両イオン性のいずれのものも使用できる。使用
される界面活性剤の例をあげるとポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシ脂肪酸エステ
ル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、オキシエチレ
ン、オキシプロピレンポリマー、ポリオキシエチ
レンアルキルリン酸エステル、脂肪酸塩、アルキ
ル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アル
キルアリールスルホン酸塩、アルキルリン酸エス
テル塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステ
ル、第４級アンモニウム塩、オキシルアルキルア
ミン等であるが、もちろんこれらのみに限定され
るものではない。また、必要に応じてゼラチン、
カゼイン、アルギン酸ソーダ、澱粉、寒天、ポリ
ビニルアルコールなどを補助剤として用いること
ができる。以下に本除草剤の配合例を示す。配合例１化合物（17）80重量部、ポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル５重量部および合成酸化
ケイ素水和物15重量部をよく粉砕混合して水和剤
を得る。配合例２化合物（24）30重量部、ポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル７重量部、アルキルアリ
ールスルホン酸塩３重量部およびキシレン60重量
部をよく混合して乳剤を得る。配合例３化合物(1)１重量部、ホワイトカーボン１重量
部、リグニンスルホン酸塩５重量部およびクレー
93重量部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り
合わせた後造粒乾燥して粒剤を得る。配合例４ベントナイト40重量部、リグニンスルホン酸塩
５重量部およびクレー55重量部を粉砕混合し、加
水、混練後造粒乾燥し活性成分を含まない粒状物
を作る。この粒状物95重量部に化合物(7)を５重量
部含浸させて粒剤を得る。配合例５化合物(9)３重量部、リン酸イソプロピル0.5重
量部、クレー66.5重量部およびタルク30重量部を
よく粉砕混合して粉剤を得る。また、本発明化合物は除草剤としての効力向上
を目指し、他の除草剤との混用も可能であり、場
合によつては相乗効果を期待することもできる。
この例としては、たとえば２・４−ジクロロフエ
ノキシ酢酸；２−メチル−４−クロロフエノキシ
酢酸；２・４−ジクロロフエノキシ酪酸（それぞ
れのエステル塩類を含む）等のフエノキシ系除草
剤、２・４−ジクロロフエニル−4′−ニトロフエ
ニルエーテル；２・４・６−トリクロロフエニル
−4′−ニトロフエニルエーテル；２・４−ジクロ
ロフエニル−4′−ニトロ−3′−メトキシフエニル
エーテル；２・４−ジクロロフエニル−3′−メト
キシカルボニル−4′−ニトロフエニルエーテル等
のジフエニルエーテル系除草剤、２−クロロ−
４・６−ビスエチルアミノ−１・３・５−トリア
ジン；２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソ
プロピルアミノ−１・３・５−トリアジン；２−
メチルチオ−４・６−ビスエチルアミノ−１・
３・５−トリアジン；２−メチルチオ−４・６−
ビスイソプロピルアミノ−１・３・５−トリアジ
ン等のトリアジン系除草剤、４−アミノ−６−
tert−ブチル−３−（メチルチオ）−１・２・４−
トリアジン−５（4H）オン等のトリアジン系除
草剤、３−（３・４−ジクロロフエニル）−１・１
−ジメチルウレア；３−（３・４−ジクロロフエ
ニル）−１−メトキシ−１−メチルウレア；３−
（３−クロロ−４−ジフルオロクロロメチルチオ
フエニル）−１・１−ジメチルウレア；３−（α・
α・α−トリフルオロ−ｍ−トリル−１・１−ジ
メチルウレア；３−〔４−（４−クロロフエノーキ
シ）フエニル〕−１・１−ジメチルウレア等の尿
素系除草剤、イソプロピル−Ｎ−（３−クロロフ
エニル）カーバメート；メチル−Ｎ−（３・４−
ジクロロフエニル）カーバメート；４−クロロ−
２−ブチニル−ｍ−クロロカ−バニレート等のカ
ーバメート系除草剤、Ｓ−（４−クロロベンジ
ル）−Ｎ・Ｎ−ジエチルチオールカ−バメート；
Ｓ−エチル−Ｎ・Ｎ−ヘキサメチレンチオールカ
ーバメート；Ｓ−エチルジプロピルチオールカー
バメート等のチオールカーバメート系除草剤、
３・４−ジクロロプロピオンアニリド；Ｎ−メト
キシメチル−２・６−ジエチル−２−クロロアセ
トアニリド；２−クロロ−2′・6′−ジエチル−Ｎ
−（ブトキシメチル）−アセトアニリド等の酸アニ
リド系除草剤、５−ブロモ−３−sec−ブチル−
６−メチルウラシル；３−シクロヘキシル−５・
６−トリメチレンウラシル等のウラシル系除草
剤、１・1′−ジメチル−４・4′−ビスピリジニウ
ムジクロライド等のピリジニウム塩系除草剤、Ｎ
−（ホスホノメチル）グリシン；Ｏ−エチル−Ｏ
−（２−ニトロ−５−メチルフエニル）−Ｎ−sec
−ブチルホスホロアミドチオエート；Ｏ−メチル
−Ｏ−（２−ニトロ−４−メチルフエニル）−Ｎ−
イソプロピルホスホロアミドチオエート等のリン
系除草剤、α・α・α−トリフルオロ−２・６−
ジニトロ−Ｎ・Ｎ−ジプロピル−Ｐ−トルイジ
ン、Ｎ−（シクロプロピルメチル）−α・α・α−
トリフルオロ−２・６−ジニトロ−Ｎ−プロピル
−ｐ−トルイジン等のトルイジン系除草剤、Ｎ−
sec−ブチル−４−tert−ブチル−２・６−ジニ
トロアニリン；３・５−ジニトロ−N⁴・N⁴−ジ
プロピルスルフアニルアマイド；５−tert−ブチ
ル−３−（２・４−ジクロロ−５−イソプロポキ
シフエニル）−１・３・４−オキサジアゾリン−
２−オン；３−イソプロピル−1H−２・１・３
−ベンゾチアジアジン−(4)−3H−オン−２・２
−ジオキシド（塩類を含む）；α−（β−ナフト
キシ）プロピオンアニリド；２−（α−ナフトキ
シ）−Ｎ・Ｎ−ジエチルプロピオンアミド；３−
アミノ−２・５−ジクロロ安息香酸；２−sec−
ブチル−４・６−ジニトロフエノール；Ｎ−１−
ナフチルフタラミン酸；２−（１−アリルオキシ
アミノ）−ブチリデン５・５−ジメチル４−メト
キシカルボニル−シクロヘキサン−１・３−ジオ
ン（塩類を含む）などがあげられるが、もちろん
これらのみに限定されるものではない。本発明の除草剤はまた殺菌剤、微生物農薬、有
機リン系殺虫剤、カーバメート系殺虫剤、ピレス
ロイド系殺虫剤、その他の殺虫剤、植物生長調節
剤、肥料との混用も可能である。次に実施例をあげて本発明化合物をさらに詳細
に説明する。実施例１（方法(a)による）３−（３−フエニルプロポキシ）フエニルイソ
シアネート12.7ｇをベンゼン100mlに溶かし、こ
れにＮ・Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン５ｇを
ベンゼン50mlに溶かした溶液を20〜30℃で滴下す
る。滴下後同一温度でさらに30分間撹拌を続け
る。減圧下で溶媒を留去し、エタノールで再結晶
を行なつてN′−３−（３−フエニルプロポキシ）
フエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルウレアの白
色針状結晶11.5ｇを得る。融点82〜83℃ 元素分折値Ｃ（％）Ｈ（％）Ｎ（％）計算値 68.77 705 8.91 （C₁₈H₂₂N₂O₃として）実測値 68.79 7.06 8.88 NMRδ^CDCl3 2.05（ｍ、2H）、2.75（ｔ、2H）、
3.09（Ｓ、3H）、3.61（Ｓ、3H）、3.88（ｔ、
2H）、6.85〜7.30（9H）、7.61（Ｓ、1H）同様の方法で以下に示す化合物を合成した。化合物番号物性２ m.p.130〜131.5℃ ３ m.p.93〜95℃ ４ m.p.126〜127℃ ５ m.p.76〜79℃ ８ m.p.127〜128℃ 10 m.p.110〜111℃ 24 m.p.81〜82℃ 25 m.p.62〜63℃ 28 m.p.117〜118℃ 69 ｎ^２４．^０ _Ｄ1.5404 実施例２（方法(b)による）３−〔３−（３・４−ジクロロフエニル）プロポ
キシ〕フエニルイソシアネート16.1ｇを塩化メチ
レン50mlにとかし、塩酸ヒドロキシルアミン3.5
ｇと苛性ソーダ2.1ｇとを水15mlに溶かした溶液
に20℃以下で滴下する。水で希釈した後析出した
結晶を過して乾燥し、15.3ｇのN′−３−〔３−
（３・４−ジクロロフエニル）プロポキシ〕フエ
ニル−Ｎ−ヒドロキシウレアを得る。このヒドロ
キシウレア誘導体15.3ｇをベンゼン：メタノール
（１：１）の混合溶媒200mlに溶かし10N苛性ソー
ダ水溶液５ml、ジメチル硫酸12.6ｇを30℃以下で
交互に少量ずつ滴下する。室温下で撹拌を続け、
水で希釈し、ベンゼンで抽出する。ベンゼン層は
水洗後減圧下で溶媒を留去し、エタノールで再結
晶を行いN′−３−〔３−（３・４−ジクロロフエ
ニル）プロポキシ〕フエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ
−メチルウレアの白色針状結晶12.1ｇを得る。融点68〜69℃

【表】 NMRδ^CDCl3 2.01（ｍ、2H）、2.72（ｔ、
2H）、3.11（ｓ、3H）、3.66（Ｓ、3H）、3.89
（ｔ、2H）、6.30〜7.30（7H）、7.55（Ｓ、1H）同様の方法で以下に示す化合物を合成した。化合物番号物性 11 m.p. 85〜86℃ 23 ｎ^２４．^５ _Ｄ 1.5545 17 m.p. 72.5〜73.5℃ 35 m.p. 33〜35℃ 37 m.p. 45〜46℃ 41 m.p. 129〜130℃ 43 m.p. 106〜107℃ 49 m.p. 99〜100℃ 53 m.p. 65〜66℃ 61 m.p. 60〜61℃ 実施例３（方法(c)による）３−（４−フエニルブトキシ）アニリン25ｇを
トルエン200mlに溶かし、40％苛性ソーダ水溶液
100ml、Ｎ・Ｎ−ジメチルカルバミルクロリド17
ｇを加え加熱還流を10時間続ける。後室温にもど
しトルエン層を水洗し、減圧下で溶媒を留去す
る。エタノールで再結晶を行い、N′−３−（４−
フエニルブトキシ）フエニルＮ・Ｎ−ジメチルウ
レアの白色針状結晶20.6ｇを得る。融点 115〜116℃ 元素分析値Ｃ（％）Ｈ（％）Ｎ（％）計算値 73.04 7.74 8.97 （C₁₉H₂₄N₂O₂として）実測値 72.89 7.88 8.80 NMRδ^CDCl3 1.72（ｍ、4H）、2.62（ｔ、2H）、
2.90（ｓ、6H）、3.86（ｔ、2H）、6.40〜7.30
（10H）同様の方法で以下に示す化合物を合成した。化合物番号物性６ m.p. 149.5〜151℃ 12 m.p. 118〜119℃ 36 m.p. 97〜98℃ 42 m.p. 170〜172℃ 62 m.p. 125〜126℃ 54 m.p. 126〜127.5℃ 実施例４（方法(d)による）ナトリウムエトキシド6.8ｇをＮ・Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド200mlに溶かし、これにN′−（３
−ヒドロキシフエニル）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メ
チルウレア20ｇを加え、さらに３−（４−メチル
フエニル）プロピルブロミド21ｇをＮ・Ｎ−ジメ
チルホルムアミド100mlに溶かし、ゆつくり滴下
する。徐々に加熱し100℃に５時間保つた後、氷
水に注ぎ析出する結晶を別する。水で洗い少量
のエタノール、続いてエーテルで洗つた後風乾す
る。エタノールで再結晶を行い、N′−３−〔３−
（４−メチルフエニル）プロポキシ〕フエニル−
Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルウレアの白色針状結晶
27ｇを得る。融点 75〜76℃ 元素分析値Ｃ（％）Ｈ（％）Ｎ（％）計算値 69.49 7.37 8.53 （C₁₉H₂₄N₂O₃として）実測値 69.23 7.53 8.49 NMRδ^CDCl3 2.01（ｍ、2H）、2.30（ｓ、3H）、
2.25（ｔ、2H）、3.11（ｓ、3H）、3.67（ｓ、
3H）、3.90（ｔ、2H）、6.40〜7.30（8H）、7.62
（ｓ、1H）同様の方法で以下に示す化合物を合成した。化合物番号物性 13 ｎ^２５ _Ｄ 1.5621 14 m.p. 89〜91℃ 27 m.p. 47〜48℃ 38 m.p. 78〜80℃ 26 m.p. 120〜121.5℃ 44 m.p. 152〜153℃ 50 m.p. 125〜126℃ 次に本発明化合物を使用した場合の実施例を述
べるが、以下の各実施例における栽培植物に対す
る薬害と雑草に対する効力との評価はすべて以下
に述べる基準にしたがい、０から５までの整数に
よる評価値で表わした。調査時点に枯れ残つた植物体の地上部の生重量
をはかり、無処理区の植物体の生重量と比較した
ときの比率（％）を計算する。栽培植物と雑草と
について下表のような基準にもとづき薬害と除草
効力を０から５までの数字で評価した。評価値５
または４は一般に妥当な栽培植物保護効果あるい
は雑草防除効果とみなされる。なお、水稲試験の
場合のみ、植物体の乾燥重量により評価値を算出
している。

【表】また実施例中に使用された対照化合物は次のと
おりである。実施例６水稲試験雑草種子を含んだ水田土壌1.5Kgずつ詰めた1/5
０００アールのワグネルポツトを湛水状態にし、３
葉期の稲苗を移植し、５日間生育させたあと、各
薬剤の水和剤の所定量を水に稀釈して、湛水土壌
処理した。薬剤処理後25日目に前記イネ、ヒエお
よびコナギ、アゼナ、キカシグサなどの広葉雑草
およびタマガヤツリについて除草効力、薬害を調
査した。その結果を第１表に示す。

【表】

【表】実施例７発芽後処理による除草活性たて35cm、よこ25cm、たかさ10cmのプラスチツ
クトレーに畑地土壌を詰め、オナモミ、ダイコ
ン、アオビユ、シロザ、イヌホウズキ、ヒマワ
リ、アサガオ、メヒシバ、エノコログサ、ヒエを
播種し、温室内で２〜３週間育生したあと、所定
量の薬剤を植物体の上方から小型噴霧器で茎葉処
理した。薬剤処理後、さらに３週間温室内で育生
したあと、各植物について除草効力を調査した。
その結果を第２表に示す。なお、処理薬剤は乳剤
に製剤し、所定量を１アールあたり５リツトルの
水に分散させ、展着剤を加えて供試した。薬剤処
理時の植物の大きさは種類によつて異なるが、ほ
ぼ２〜４葉期で草丈２〜10cmであつた。

【表】

【表】実施例８発芽後処理における作物選択性畑地土壌を詰めた1/5000アールのワグネルポツ
トにトウモロコシ、コムギ、ワタまたはダイズを
播種し、温室内で２〜３週間育生したあと、所定
量の薬剤を植物体の上方から小型噴霧器で茎葉処
理した。薬剤処理後さらに３週間温室内で育生し
たのち各作物に対する薬害を調査した。その結果
を第３表に示す。なお、薬剤の処理にあたつて
は、乳剤に製剤した所定量を１アールあたり５リ
ツトルの水に分散させ、展着剤を加えて供試し
た。薬剤処理時の各作物のステージはトウモロコ
シ２葉期、コムギ２葉期、ワタ１葉期、ダイズ第
２複葉期であつた。

【表】

【表】実施例９発芽前処理たて35cm、よこ25cm、たかさ10cmのプラスチツ
クトレーに畑地土壌を詰め、ダイズ、ワタ、トウ
モロコシ、コムギ、アオビユ、シロザ、ダイコ
ン、スベリヒユおよびメヒシバを播種し覆土をし
た。所定量の水和剤を１アールあたり３リツトル
の水に分散させ、トレーの上方から小型噴霧器で
土壌全面にスプレー処理した。薬剤処理後20日間
温室に置き、薬害および除草効力を調査した。調
査の基準は前述のとおりである。結果を第４表に
示す。

【表】実施例 10 発芽後処理におけるテンサイ選択性畑地土壌を詰めた1/5000アールのワグネルポツ
トにテンサイを播種し、温室内で２〜３週間育生
したあと、所定量の薬剤を植物体の上方から小型
噴霧器で茎葉処理した。薬剤処理後さらに３週間
温室内で育生したのちテンサイに対する薬害を調
査した。その結果を第５表に示す。なお、薬剤の
処理にあたつては、乳剤に製剤した所定量を１ア
ールあたり５リツトルの水に分散させ、展着剤を
加えて供試した。薬剤処理時のテンサイのステー
ジは２葉期であつた。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中、R₁は水素原子、メチル基またはメトキシ
基を示す。R₂は水素原子を示す。R₃は同一かま
たは相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはト
リフルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を
示す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。
Ｙは酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖ま
たは分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいは
その炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫
黄原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のア
ルキレン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体。２一般式〔式中、R₁はメチル基またはメトキシ基を示す。
R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは相異な
り、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキルチオ基またはトリフルオロ
メチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。Ｙは
酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖または
分岐したC₂〜C₈のアルキレン基を示す。〕で表わされる特許請求の範囲第１項に記載の
N′−フエニル−Ｎ−メチルウレア誘導体。３一般式〔式中、R₁はメチル基またはメトキシ基を示す。
R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは相異な
り、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキルチオ基またはトリフルオロ
メチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。Ｙは
酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚはその炭素鎖
の末端もしくは中に酸素原子または硫黄原子を有
する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアルキレン基
を示す。〕で表わされる特許請求の範囲第１項に記載の
N′−フエニル−Ｎ−メチルウレア誘導体。４一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいはそ
の炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄
原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされる特許請求の範囲第１項に記載の
N′−フエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルウレ
ア誘導体。５一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいはそ
の炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄
原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされるフエニルイソシアネート誘導体とモ
ノメチルアミン、ジメチルアミンまたはＮ・Ｏ−
ジメチルヒドロキシルアミンとを反応させること
を特徴とする一般式〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは前述のと
おりである。R₁は水素原子、メチル基またはメ
トキシ基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体の製造法。６一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいはそ
の炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄
原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−ヒドロキシウ
レア誘導体をメチル化反応させることを特徴とす
る一般式〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは前述のと
おりである。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ
−メチルウレア誘導体の製造法。７一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいはそ
の炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄
原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされるアニリン誘導体とＮ−メトキシ−Ｎ
−メチルカルバミルクロリド、Ｎ・Ｎ−ジメチル
カルバミルクロリドまたはメチルイソシアネート
とを反応させることを特徴とする一般式〔式中、R₂、R₃、ｎ、Ｘ、ＹおよびＺは前述のと
おりである。R₁は水素原子、メチル基またはメ
トキシ基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体の製造法。８一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｚは直鎖または分岐したC₂〜C₈のアルキレ
ン基、あるいはその炭素鎖の末端もしくは中に酸
素原子または硫黄原子を含む直鎖または分岐した
C₁〜C₇のアルキレン基を示す。Ａはハロゲン原
子を示す。〕で表わされるハライド誘導体と一般式〔式中、R₁は水素原子、メチル基またはメトキシ
基を示す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示
す。Ｑはヒドロキシ基またはメルカプト基を示
す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体とを反応させることを特徴とする一般式〔式中、R₁、R₂、R₃、ｎ、ＸおよびＺは前述のと
おりである。Ｙは酸素原子または硫黄原子を示
す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体の製造法。９一般式〔式中、R₁は水素原子、メチル基またはメトキシ
基を示す。R₂は水素原子を示す。R₃は同一かま
たは相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基、または
トリフルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数
を示す。Ｘは水素原子または硫黄原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいは炭
素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄原子
を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアルキレ
ン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る除草剤。１０ N′−フエニル−Ｎ−メチルウレア誘導体
が一般式〔式中、R₁はメチル基またはメトキシ基を示す。
R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは相異な
り、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキルチオ基またはトリフルオロ
メチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。Ｙは
酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖または
分岐したC₂〜C₈のアルキレン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体である特許請求の範囲第９項に記載の除草
剤。１１ N′−フエニル−Ｎ−メチルウレア誘導体
が一般式〔式中、R₁はメチル基またはメトキシ基を示す。
R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは相異な
り、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキルチオ基、またはトリフルオ
ロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚはその炭素
鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄原子を
有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアルキレン
基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メチルウレア
誘導体である特許請求の範囲第９項に記載の除草
剤。１２ N′−フエニル−Ｎ−メチルウレア誘導体
が一般式〔式中、R₂は水素原子を示す。R₃は同一かまたは
相異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、低級アルキルチオ基またはトリフ
ルオロメチル基を示し、ｎは０〜５の整数を示
す。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｙ
は酸素原子または硫黄原子を示す。Ｚは直鎖また
は分岐したC₂〜C₈のアルキレン基、あるいはそ
の炭素鎖の末端もしくは中に酸素原子または硫黄
原子を有する直鎖または分岐したC₁〜C₇のアル
キレン基を示す。〕で表わされるN′−フエニル−Ｎ−メトキシ−Ｎ
−メチルウレア誘導体である特許請求の範囲第９
項に記載の除草剤。