JPS61124942A - フオトマスクブランク及びその製造方法 - Google Patents
フオトマスクブランク及びその製造方法Info
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- JPS61124942A JPS61124942A JP59246297A JP24629784A JPS61124942A JP S61124942 A JPS61124942 A JP S61124942A JP 59246297 A JP59246297 A JP 59246297A JP 24629784 A JP24629784 A JP 24629784A JP S61124942 A JPS61124942 A JP S61124942A
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- Japan
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- corner
- film
- glass substrate
- shielding film
- light
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は集積回路製造用マスク基板に使用するフォトマ
スクブランク及びその製造方法に関するものである。
スクブランク及びその製造方法に関するものである。
［従来の技術及びその問題点］
従来フォトマスクブランクはガラス基板を基板トレーに
セットし、スパッタ法または真空蒸着法によって上記ガ
ラス基板面に金属クロムなどの遮光膜をコーティングす
ることによって製造されている。かかるフォトマスクブ
ランク用のガラス基板又はフォトマスクブランクにおい
ては遮光膜をコーティングする面を指定するため、ある
いは遮光膜のコーテイング面の識別のため、あるいは使
用されるガラス基板の種類。
セットし、スパッタ法または真空蒸着法によって上記ガ
ラス基板面に金属クロムなどの遮光膜をコーティングす
ることによって製造されている。かかるフォトマスクブ
ランク用のガラス基板又はフォトマスクブランクにおい
ては遮光膜をコーティングする面を指定するため、ある
いは遮光膜のコーテイング面の識別のため、あるいは使
用されるガラス基板の種類。
例えばソーダ五ｉ紛ラス、低膨張ガラスあるいは石英ガ
ラスなどの種類を識別のために識別マークとして通常Ｓ
Ｅ Ｍ Ｉ （ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＥｇｕｉ
ｐｍｅｎｔ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎ
５ｔｉｔｕｔｅ。
ラスなどの種類を識別のために識別マークとして通常Ｓ
Ｅ Ｍ Ｉ （ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＥｇｕｉ
ｐｍｅｎｔ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎ
５ｔｉｔｕｔｅ。
Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）の規格のようにガラス基板
の膜付番す面と反対側の面のコーナー部をｎ断じてなる
ノツチマークを付けることが知られている。
の膜付番す面と反対側の面のコーナー部をｎ断じてなる
ノツチマークを付けることが知られている。
一方、フォトマスクブランクの遮光膜は、ガラス基板を
基板トレーに多数枚セットしてスパッタリング法もしく
は真空蒸着法で成膜されるが１例えばスパッタリング法
の場合には導入ガスの流れやロフト内のインピーダンス
の変化のため同一ロット内でも基板トレー内にセットさ
れた場所によって膜質が変化し、また真空蒸着法の場合
も種々の要因により膜質の変化は避けられないという難
点がある。そこで同一ロット内における均一な膜組成を
得るためガラス基板の基板トレー上にセットされた位置
を知り、その位置の差に応じて成膜条件を調整する必要
があるが、ガラス基板の基板トレー上にセットされた位
置を知るために１忌た様なノツチマークを利用すること
ができるものの、ノツチマークの組み合せに限りがあり
これだけでは多数枚のガラス基板の位置を明確に区別す
るには不充分であった。
基板トレーに多数枚セットしてスパッタリング法もしく
は真空蒸着法で成膜されるが１例えばスパッタリング法
の場合には導入ガスの流れやロフト内のインピーダンス
の変化のため同一ロット内でも基板トレー内にセットさ
れた場所によって膜質が変化し、また真空蒸着法の場合
も種々の要因により膜質の変化は避けられないという難
点がある。そこで同一ロット内における均一な膜組成を
得るためガラス基板の基板トレー上にセットされた位置
を知り、その位置の差に応じて成膜条件を調整する必要
があるが、ガラス基板の基板トレー上にセットされた位
置を知るために１忌た様なノツチマークを利用すること
ができるものの、ノツチマークの組み合せに限りがあり
これだけでは多数枚のガラス基板の位置を明確に区別す
るには不充分であった。
本発明は、上記した点を改良し、基板トレー内のガラス
基板の位置を容易に知ることができるフォトマスクブラ
ンク及びその製造方法を提供することを第１の目的とす
るものである。更に、本発明は、前述した様なガラス基
板のコーナー部を斜断してなるノツチマークによらずに
ガラス基板の種類の識別マーク、あるいは製造メーカー
等のその他の識別マークを容易に提供できるフォトマス
クブランク及びその製造方法を提供することを第２の目
的とするものである。
基板の位置を容易に知ることができるフォトマスクブラ
ンク及びその製造方法を提供することを第１の目的とす
るものである。更に、本発明は、前述した様なガラス基
板のコーナー部を斜断してなるノツチマークによらずに
ガラス基板の種類の識別マーク、あるいは製造メーカー
等のその他の識別マークを容易に提供できるフォトマス
クブランク及びその製造方法を提供することを第２の目
的とするものである。
［問題点を解決するための手段］
本発明は前述の目的を解決すべく検討の結果発明された
ものであり、その第１の発明は多角形のガラス基板の表
面に遮光膜が吸仁されてなるフォトマスクブランクにお
いて、該ガラス基板の平面の少なくとも１つのコーナー
部に部分的に遮光膜が成膜されたコーナー成膜部分と遮
光膜が成膜されていないコーナー非成膜部分とを設は上
記コーナー成膜部分を識別マークとすることを特徴とす
るフォトマスクブランクに関するものであり、その第２
の発明は上記フォトマスクブランクを製造する方法に関
するものであって、ガラス基板をコーナーで支持する支
持部を有する基板トレーを使ってスパッタ法、または真
空蒸着法で遮光膜をｒ＆膜するフォトマスクブランクを
製造する場合に上記支持部の少なくとも１つに切り込み
及び／又は孔を設けた基板トレーを使用して遮光膜を成
膜し、該切り込みまたは孔より露出したガラス基板の平
面の少なくとも１つのコーナー部に遮光膜と同質の膜を
部分的に成膜しマークとして機能しえる部分的に成膜さ
れたコーナー成膜部分を形成する方法に関するものであ
る０本発明の好ましい態様においては、ガラス基板は正
方形である。
ものであり、その第１の発明は多角形のガラス基板の表
面に遮光膜が吸仁されてなるフォトマスクブランクにお
いて、該ガラス基板の平面の少なくとも１つのコーナー
部に部分的に遮光膜が成膜されたコーナー成膜部分と遮
光膜が成膜されていないコーナー非成膜部分とを設は上
記コーナー成膜部分を識別マークとすることを特徴とす
るフォトマスクブランクに関するものであり、その第２
の発明は上記フォトマスクブランクを製造する方法に関
するものであって、ガラス基板をコーナーで支持する支
持部を有する基板トレーを使ってスパッタ法、または真
空蒸着法で遮光膜をｒ＆膜するフォトマスクブランクを
製造する場合に上記支持部の少なくとも１つに切り込み
及び／又は孔を設けた基板トレーを使用して遮光膜を成
膜し、該切り込みまたは孔より露出したガラス基板の平
面の少なくとも１つのコーナー部に遮光膜と同質の膜を
部分的に成膜しマークとして機能しえる部分的に成膜さ
れたコーナー成膜部分を形成する方法に関するものであ
る０本発明の好ましい態様においては、ガラス基板は正
方形である。
本発明の別の好ましい態様においては、基板トレーはガ
ラス基板を複数個セットしうるようになっており、それ
ぞれの基板セット部のガラス基板のコーナー部を支持す
る支持部に設けられた所定形状の切り込みまたは孔は基
板セ−／ ト部ごとに、その形状あるいはその組合せが
異なっており、それにより成膜後切り込みまたは穴の形
状に応じて形成されたコーナー成膜部分がマークとして
機能し、このコーナー成膜部分から基板トレー上のどの
セット部で成膜されているか、あるいは基板トレーの進
行方向がわかるようにされている。
ラス基板を複数個セットしうるようになっており、それ
ぞれの基板セット部のガラス基板のコーナー部を支持す
る支持部に設けられた所定形状の切り込みまたは孔は基
板セ−／ ト部ごとに、その形状あるいはその組合せが
異なっており、それにより成膜後切り込みまたは穴の形
状に応じて形成されたコーナー成膜部分がマークとして
機能し、このコーナー成膜部分から基板トレー上のどの
セット部で成膜されているか、あるいは基板トレーの進
行方向がわかるようにされている。
［実施例］
以下、本発明を図面に従って説明する。
第１．２．４図は１本発明に係るフォトマスクブランク
の具体例を示したものであり、１はフォトマスクブラン
ク、２はガラス基板、３は遮光膜、４はガラス基板２の
コーナー部Ａに部分的に遮光膜が成膜されたコーナー成
膜部分、ｓＪＪガラス基板の２のコーナー部Ａに遮光膜
が成膜されていないコーナー非成膜部分を示す。
の具体例を示したものであり、１はフォトマスクブラン
ク、２はガラス基板、３は遮光膜、４はガラス基板２の
コーナー部Ａに部分的に遮光膜が成膜されたコーナー成
膜部分、ｓＪＪガラス基板の２のコーナー部Ａに遮光膜
が成膜されていないコーナー非成膜部分を示す。
本発明のおいて、ガラス基板２としては、正方形、長方
形等の四角形、五角形、あるいは六角形等の多角形のソ
ーダーテイム・シリケートガラス等の普通ガラス板、ア
ルミノシリケートガラス等低膨張性ガラス、あるいは石
英ガラスからなるものが使用される。かかるガラス基板
２の表面にはフォトマスクブランクを作るために、例え
ば金属クロム、あるいはＣ，Ｎ、Ｂ等を含有する金属ク
ロムからなる遮光膜が形成される。この遮光膜の上層、
あるいは上下層には、シリコンのウェハーとフォトマス
クブランクとの間で多重反射が起り、パターニングの際
の解像度が低下するのを防止するために反射防止膜を形
成してもよい。
形等の四角形、五角形、あるいは六角形等の多角形のソ
ーダーテイム・シリケートガラス等の普通ガラス板、ア
ルミノシリケートガラス等低膨張性ガラス、あるいは石
英ガラスからなるものが使用される。かかるガラス基板
２の表面にはフォトマスクブランクを作るために、例え
ば金属クロム、あるいはＣ，Ｎ、Ｂ等を含有する金属ク
ロムからなる遮光膜が形成される。この遮光膜の上層、
あるいは上下層には、シリコンのウェハーとフォトマス
クブランクとの間で多重反射が起り、パターニングの際
の解像度が低下するのを防止するために反射防止膜を形
成してもよい。
上記したフォトマスクブランクの遮光膜は、例えば第３
図の様に多角形のガラス基板に相当する大きさのくり抜
き部６が形成され、かつ多角形のガテセ基板をコーナー
で支持するためにくり抜き部６のコーナー部に支持部７
が形成された基板トレー８の上記くり抜き部６に遮光膜
を形成するガラス基板をセットし、これを真空槽の中に
入れ、真空槽内を真空にした後、上記基板トレー８をタ
ーゲット９上を通過させ、スパッタリング法により上記
ガラス基板の下面に成膜される。かかる方法により製造
されたフォトマスクブランクは、ガラス基板のコーナー
部に基板トレー８のくり抜き部６のコーナー部に設けら
れた支持部７に相当する遮光膜が形成されていない部分
を有する０本発明においては。
図の様に多角形のガラス基板に相当する大きさのくり抜
き部６が形成され、かつ多角形のガテセ基板をコーナー
で支持するためにくり抜き部６のコーナー部に支持部７
が形成された基板トレー８の上記くり抜き部６に遮光膜
を形成するガラス基板をセットし、これを真空槽の中に
入れ、真空槽内を真空にした後、上記基板トレー８をタ
ーゲット９上を通過させ、スパッタリング法により上記
ガラス基板の下面に成膜される。かかる方法により製造
されたフォトマスクブランクは、ガラス基板のコーナー
部に基板トレー８のくり抜き部６のコーナー部に設けら
れた支持部７に相当する遮光膜が形成されていない部分
を有する０本発明においては。
かかるガラス基板のコーナー部の支持部７に相当する部
分を利用して各種目的のための識別マークを形成するも
のである。即ち、上記したガラス基板のコーナー孤に部
分的に遮光膜が成形されたコーナー成膜部分と遮光膜が
成膜されていないコーナー非成膜部分とを設け、これに
より種々の識別マークとして機能しえる様にしたもので
ある。
分を利用して各種目的のための識別マークを形成するも
のである。即ち、上記したガラス基板のコーナー孤に部
分的に遮光膜が成形されたコーナー成膜部分と遮光膜が
成膜されていないコーナー非成膜部分とを設け、これに
より種々の識別マークとして機能しえる様にしたもので
ある。
上記したガラス五層のコーナー部に部分的に遮光膜が成
膜されたコーナー成膜部分の形状としては、マークとし
て機能しえる形状であればよいものであり、特に限定さ
れるものではない、又、コーナー成膜部分は、多角形の
ガラス基板の少なくとも１つのコーナー部に形成すれば
よいものであり、１つのコーナー部のみに形成してもよ
いし、あるいは又２つないし全部のコーナー部に形成し
てもよい、又コーナー成膜部分は、遮光膜と分離して形
成してもよいし、あるいは又遮光膜と連続して設けても
よい。
膜されたコーナー成膜部分の形状としては、マークとし
て機能しえる形状であればよいものであり、特に限定さ
れるものではない、又、コーナー成膜部分は、多角形の
ガラス基板の少なくとも１つのコーナー部に形成すれば
よいものであり、１つのコーナー部のみに形成してもよ
いし、あるいは又２つないし全部のコーナー部に形成し
てもよい、又コーナー成膜部分は、遮光膜と分離して形
成してもよいし、あるいは又遮光膜と連続して設けても
よい。
第４図は、コーナー部にコーナー成膜部分が設けられた
本発明に係わるフォトマスクブランクの他の具体例のい
くつかを示したものであり、同図の（ａ）は、四角形の
ガラス基板２のコーナー部Ａに円形状のコーナー成形部
分４を形成した例であり、同図（ｂ）は同上のガラス基
板２の１つのコーナー部Ｂｌに四角形のコーナー成膜部
分４を、他のコーナー部Ｂ２に遮光膜３と連続したくさ
び型状のコーナー成膜部分４を形成した例であり、同）
−は同上のガラス基板２の１つのコーナー１１１ｃＩに
円形状のコーナー成膜部分４を、他の２つのコーナー部
Ｃ２，Ｃ３に遮光Ｍ３と連続した四角形状のコーナー成
膜部分を形成した例であり、同図の（ｄ）は同上のガラ
ス基板２の２つのコーナー部ＤＩ。
本発明に係わるフォトマスクブランクの他の具体例のい
くつかを示したものであり、同図の（ａ）は、四角形の
ガラス基板２のコーナー部Ａに円形状のコーナー成形部
分４を形成した例であり、同図（ｂ）は同上のガラス基
板２の１つのコーナー部Ｂｌに四角形のコーナー成膜部
分４を、他のコーナー部Ｂ２に遮光膜３と連続したくさ
び型状のコーナー成膜部分４を形成した例であり、同）
−は同上のガラス基板２の１つのコーナー１１１ｃＩに
円形状のコーナー成膜部分４を、他の２つのコーナー部
Ｃ２，Ｃ３に遮光Ｍ３と連続した四角形状のコーナー成
膜部分を形成した例であり、同図の（ｄ）は同上のガラ
ス基板２の２つのコーナー部ＤＩ。
Ｄ２に三角形状のコーナー成膜部分を形成した例であり
、同図（ｓ）は同上のガラス基板２の２つのコーナー部
Ｅｌ、Ｅ２に円形状のコーナー成膜部分４を形成し、も
う１つのコーナー部Ｅ３に三角形状のコーナー成膜部分
を形成した例であり、同図（Ｑは同上のガラス基板２の
２つのコーナー部Ｆｌ、Ｆ２に円形状のコーナー成膜部
分を形成し、残りの２つのコーナー部Ｆ３に遮光膜３と
連続したくさび型状のコーナー成膜部分４を形成した例
である。第４図に示した例からも明らかな様に、コーナ
ー成膜部分の形状、コーナー成膜部分を形成するコーナ
ー部の位置及びこれらの各種組合せにより多数の識別マ
ークの形成が可能となる。
、同図（ｓ）は同上のガラス基板２の２つのコーナー部
Ｅｌ、Ｅ２に円形状のコーナー成膜部分４を形成し、も
う１つのコーナー部Ｅ３に三角形状のコーナー成膜部分
を形成した例であり、同図（Ｑは同上のガラス基板２の
２つのコーナー部Ｆｌ、Ｆ２に円形状のコーナー成膜部
分を形成し、残りの２つのコーナー部Ｆ３に遮光膜３と
連続したくさび型状のコーナー成膜部分４を形成した例
である。第４図に示した例からも明らかな様に、コーナ
ー成膜部分の形状、コーナー成膜部分を形成するコーナ
ー部の位置及びこれらの各種組合せにより多数の識別マ
ークの形成が可能となる。
次に本発明のフォトマスクブランク４１造する方法につ
いて説明する。
いて説明する。
第５図は１本発明のフォトマスクブランクを製造する際
に使用する成膜用のガラス基板をセットする基板トレー
８を示したものであって、かかる基板トレーにガラス基
板をセットし、これをスパッター装置や真空装置の真空
槽内へ挿入し、常法に従ってガラス基板表面に遮光膜を
形成する。上記基板トレー８は６枚の正方形のガラス基
板をセットできる様にガラス基板の寸法に応じた正方形
くり抜き部６が設けられており、かかる正方形のくり抜
き部６の４つのコーナー部には支持部７が設けられ、か
かる支持部７の上にガラス基板１０を載置することによ
り、ガラス基板ｌＯを基板トレー８内にセットされる様
になっている。上記支持部７には第５図の様に所定形状
の貫通した孔１１及び又は切り込み１２が形成されてお
り、かかる孔１１及び又は切り込み１２の形成された支
持部を有する基板トレー８にガラス基板１０をセット盈
シこれを真空槽内へ入れ、スパッター法。
に使用する成膜用のガラス基板をセットする基板トレー
８を示したものであって、かかる基板トレーにガラス基
板をセットし、これをスパッター装置や真空装置の真空
槽内へ挿入し、常法に従ってガラス基板表面に遮光膜を
形成する。上記基板トレー８は６枚の正方形のガラス基
板をセットできる様にガラス基板の寸法に応じた正方形
くり抜き部６が設けられており、かかる正方形のくり抜
き部６の４つのコーナー部には支持部７が設けられ、か
かる支持部７の上にガラス基板１０を載置することによ
り、ガラス基板ｌＯを基板トレー８内にセットされる様
になっている。上記支持部７には第５図の様に所定形状
の貫通した孔１１及び又は切り込み１２が形成されてお
り、かかる孔１１及び又は切り込み１２の形成された支
持部を有する基板トレー８にガラス基板１０をセット盈
シこれを真空槽内へ入れ、スパッター法。
あるいは真空蒸看法によってガラス基板の下方から遮光
膜を形成することにより、ガラス基板ｌＯのコーナー部
に上記支持部の孔１１及び又は切り込み１２に応じた遮
光膜と同一の材質からなるコーナー成膜部分が形成され
、−力支持部の孔及び／又は切り込み以外の部分は遮光
膜が成膜されずコーナー非成膜部分となり、上記コーナ
ー成膜部分とコーナー非成膜部分との組み合せにより識
別マークを得ることができる。
膜を形成することにより、ガラス基板ｌＯのコーナー部
に上記支持部の孔１１及び又は切り込み１２に応じた遮
光膜と同一の材質からなるコーナー成膜部分が形成され
、−力支持部の孔及び／又は切り込み以外の部分は遮光
膜が成膜されずコーナー非成膜部分となり、上記コーナ
ー成膜部分とコーナー非成膜部分との組み合せにより識
別マークを得ることができる。
なお１本発明のフォトマスクブランクは１次の様にして
製造することもできる。即ち基板トレー８にセットされ
たガラス基板上面のコーナー部に所定形状の孔及び又は
切り込みを形成した遮蔽フィルムあるいは遮蔽板を密着
して、あるいは所定間隔をおいて設け、この基板トレー
をスパッター装置あるいは真空装置の真空槽内へ入れて
上記ガラス基板の上面に遮光膜を形成することにより、
上記孔及び又は切り込みに応じたガラス基板のコーナー
部にコーナー成膜部分とコーナー成膜部分を形成して本
発明のフォトマスクブランクを製造することもできる。
製造することもできる。即ち基板トレー８にセットされ
たガラス基板上面のコーナー部に所定形状の孔及び又は
切り込みを形成した遮蔽フィルムあるいは遮蔽板を密着
して、あるいは所定間隔をおいて設け、この基板トレー
をスパッター装置あるいは真空装置の真空槽内へ入れて
上記ガラス基板の上面に遮光膜を形成することにより、
上記孔及び又は切り込みに応じたガラス基板のコーナー
部にコーナー成膜部分とコーナー成膜部分を形成して本
発明のフォトマスクブランクを製造することもできる。
〔発明の作用及び効果Ｊ
以上の様に、本発明のフォトマスクブランクは、ガラス
基板のコーナー部に遮光膜と同一の材料によりなる識別
マークとして機能しえるコーナー成膜部分が設けられた
ものであるので、かかるコーナー成膜部分をガラス基板
への遮光膜の成膜時に同時に形成することがｃきる。従
って、ＩＩ＆１１５１時の基板トレー内のガラス基板の
位置を上記遮光膜の成膜と同時に形成されるコーナー成
膜部分の形状１位置２組み合せ等の違いにより識別する
様にすれば、基板トレーの各ガラス基板の位置の違いに
ょる成膜条件をｙｔｍすることが容易となり、生産管理
上に役だだせることができる。
基板のコーナー部に遮光膜と同一の材料によりなる識別
マークとして機能しえるコーナー成膜部分が設けられた
ものであるので、かかるコーナー成膜部分をガラス基板
への遮光膜の成膜時に同時に形成することがｃきる。従
って、ＩＩ＆１１５１時の基板トレー内のガラス基板の
位置を上記遮光膜の成膜と同時に形成されるコーナー成
膜部分の形状１位置２組み合せ等の違いにより識別する
様にすれば、基板トレーの各ガラス基板の位置の違いに
ょる成膜条件をｙｔｍすることが容易となり、生産管理
上に役だだせることができる。
又、上記コーナー成膜部分をその形状、位置、組み合せ
によりガラス基板の種類やフォトマスクブランクの製造
元、販売元等表示にも利用でき、かかるコーナ４ｓ部分
を従来のノツチマークにｉｉ！き換えることもできる。
によりガラス基板の種類やフォトマスクブランクの製造
元、販売元等表示にも利用でき、かかるコーナ４ｓ部分
を従来のノツチマークにｉｉ！き換えることもできる。
この場合には、ガラス基板のコーナー部の開所加工とい
う工程が不要となり、ガラス基板の破損原因や傷の原因
を少なくすることができる。
う工程が不要となり、ガラス基板の破損原因や傷の原因
を少なくすることができる。
しかも、未発明のフォトマスクブランクの製造方法によ
れば、ガラス基板面への遮光膜の成膜と同時にガラス基
板のコーナー部へのコーナー成膜部分の形成が行なえる
ので、識別マークとしてのコーナー成膜部分の形成が極
めて容易である。特に、特別な処理なしに識別マークが
得られるという大きな利点が得られる。
れば、ガラス基板面への遮光膜の成膜と同時にガラス基
板のコーナー部へのコーナー成膜部分の形成が行なえる
ので、識別マークとしてのコーナー成膜部分の形成が極
めて容易である。特に、特別な処理なしに識別マークが
得られるという大きな利点が得られる。
第１図及び第４図は、本発明に係るフォトマスクブラン
クの平面図であり、第２図は第１図のＢ−Ｃ線動面図、
第３１１！Ｊは、本発明の製法を示す説明図、第５図は
本発明の製法において使用する基板トレーの平面図、第
６図は第５図のＤ−Ｅ線断面図、第７図は第５図のＦ−
Ｇ線断面図を示す。 −′ｌＩ ｌ ：フォトマスクブランク、、 Ｉ」ｑ、ｒｏニガラ
ス基板 ３：遮光膜、 ４ ：コーナー成膜部分。 ５ ：コーナー非成膜部分、 ８ ：くり抜き部。 ７ ：支持部、 ８ ：基板トレー、 ｌｌ：孔、１２
：ｊＦＪり込み 第１＠ 巣 ２ 図 寮 ３ 図 第 ４ 回 葉 ５ 目 察６ 図 ｒ １５／／６７
クの平面図であり、第２図は第１図のＢ−Ｃ線動面図、
第３１１！Ｊは、本発明の製法を示す説明図、第５図は
本発明の製法において使用する基板トレーの平面図、第
６図は第５図のＤ−Ｅ線断面図、第７図は第５図のＦ−
Ｇ線断面図を示す。 −′ｌＩ ｌ ：フォトマスクブランク、、 Ｉ」ｑ、ｒｏニガラ
ス基板 ３：遮光膜、 ４ ：コーナー成膜部分。 ５ ：コーナー非成膜部分、 ８ ：くり抜き部。 ７ ：支持部、 ８ ：基板トレー、 ｌｌ：孔、１２
：ｊＦＪり込み 第１＠ 巣 ２ 図 寮 ３ 図 第 ４ 回 葉 ５ 目 察６ 図 ｒ １５／／６７
Claims (2)
- （１）多角形のガラス基板の表面に遮光膜が成膜されて
なるフォトマスクブランクにおいて該ガラス基板の平面
の少なくとも１つのコー ナー部に部分的に遮光膜が成膜されたコー ナー成膜部分と遮光膜が成膜されていない コーナー非成膜部分とを設けた上記コーナー成膜部分を
識別マークとすることを特徴とするフォトマスクブラン
ク。 - （２）多角形のガラス基板をコーナーで支持する支持部
材を有する基板トレーに載置してスパッタ法、または真
空蒸着法により上記ガラス基板面に遮光膜を成膜するフ
ォトマスクブランクの製造方法において上記支持部の少
なくとも１つに切りこみ及び／又は孔を設けた基板トレ
ーを使用して遮光膜を成膜し該切りこみまたは孔より露
出したガラス基板の平面の少なくとも１つのコーナー部
に遮光膜と同質の膜を部分的に成膜しコーナー成膜部分
を形成することを特徴とするフォトマスクブランクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59246297A JPS61124942A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | フオトマスクブランク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59246297A JPS61124942A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | フオトマスクブランク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61124942A true JPS61124942A (ja) | 1986-06-12 |
Family
ID=17146457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59246297A Pending JPS61124942A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | フオトマスクブランク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61124942A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012256038A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-27 | Hoya Corp | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 |
| JP2017044758A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 旭硝子株式会社 | Ｅｕｖｌマスクブランク用ガラス基板、およびその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5840552A (ja) * | 1981-09-03 | 1983-03-09 | Nec Corp | メタルマスク基板 |
-
1984
- 1984-11-22 JP JP59246297A patent/JPS61124942A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5840552A (ja) * | 1981-09-03 | 1983-03-09 | Nec Corp | メタルマスク基板 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012256038A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-27 | Hoya Corp | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 |
| JP2017044758A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 旭硝子株式会社 | Ｅｕｖｌマスクブランク用ガラス基板、およびその製造方法 |
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