JPS61117401A - 磁気スケ−ルの製造方法 - Google Patents
磁気スケ−ルの製造方法Info
- Publication number
- JPS61117401A JPS61117401A JP23968584A JP23968584A JPS61117401A JP S61117401 A JPS61117401 A JP S61117401A JP 23968584 A JP23968584 A JP 23968584A JP 23968584 A JP23968584 A JP 23968584A JP S61117401 A JPS61117401 A JP S61117401A
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- JP
- Japan
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- sheet
- magnetic
- stage
- aging
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- Pending
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、リニアまたはロータリー磁気エンコーダに使
用される長尺状または円板状の磁気スケールの新規な製
造方法に関するものである。
用される長尺状または円板状の磁気スケールの新規な製
造方法に関するものである。
（発明の背景）
リニアまたはロータリー磁気エンコーダは、長尺状また
は円板状の磁気スケールとそのスケールに刻まれた磁気
目盛を読み取るための磁気ヘッドからなり、磁気スケー
ルは、長尺状または円板状の磁性材料に長手方向または
円周方向に沿って所定ピンチで着磁することにより磁気
目盛を刻んだものである。
は円板状の磁気スケールとそのスケールに刻まれた磁気
目盛を読み取るための磁気ヘッドからなり、磁気スケー
ルは、長尺状または円板状の磁性材料に長手方向または
円周方向に沿って所定ピンチで着磁することにより磁気
目盛を刻んだものである。
従来、磁気目盛の磁化の方向は、水平方向つま
第６り板面内であったが、最近、目盛の高宏度化を目的
として垂直方向つまり板厚方向に磁化すること
のＵが提案されたく特開昭５６−２９１１５号公報参
″ さｔ照）、（資 そして、前記特開昭５６−２９１１５号公報に
４開示された製造方法によれば、主として加工の容
ルＣ易なスピノーダル分解型のＦｅ −Ｃｒ −
Ｃｏ系磁性材料 （情を用いて、この磁性材料
の鋳造物を、 オ第１工程：圧延
により薄板とする工程 気道に付した
後、順序は問わないが、 理さ第
２工程：所定形状に切断する工程
化層第３工程；溶体化処理工程
磁りに付し、その後、順次
摺Ｖ第４工程：前記所定形状の薄板の板厚方
向に磁場 着磁を印加した状態で加熱する磁気異
方性 効等化処理工程
去す第５工程二時効工程
太き工程：前記所定形状の薄板の板厚方
向に磁化を示す磁気目盛を着磁する工程 １工程に付すことにより、磁気スケールが製造、るので
ある。
第６り板面内であったが、最近、目盛の高宏度化を目的
として垂直方向つまり板厚方向に磁化すること
のＵが提案されたく特開昭５６−２９１１５号公報参
″ さｔ照）、（資 そして、前記特開昭５６−２９１１５号公報に
４開示された製造方法によれば、主として加工の容
ルＣ易なスピノーダル分解型のＦｅ −Ｃｒ −
Ｃｏ系磁性材料 （情を用いて、この磁性材料
の鋳造物を、 オ第１工程：圧延
により薄板とする工程 気道に付した
後、順序は問わないが、 理さ第
２工程：所定形状に切断する工程
化層第３工程；溶体化処理工程
磁りに付し、その後、順次
摺Ｖ第４工程：前記所定形状の薄板の板厚方
向に磁場 着磁を印加した状態で加熱する磁気異
方性 効等化処理工程
去す第５工程二時効工程
太き工程：前記所定形状の薄板の板厚方
向に磁化を示す磁気目盛を着磁する工程 １工程に付すことにより、磁気スケールが製造、るので
ある。
１明の目的）
発明の・目的は、このような従来の磁気スケ−製造方法
を改良することにある。
を改良することにある。
１明の概要）
発明者らは、鋭意研究の結果、第４工程＝磁・方性化処
理および第５工程二時効工程で熱処れた際に表面に薄く
酸化層が生成し、この酸が、（イ）磁気特性を低下させ
、また（口）目盛の高密度化を妨げ、更に（ハ）ヘッド
をさせた際にヘッドを著しく摩耗し、その結果のとき並
びにスケールとして使用したときのを低下させることを
発見し、この酸化層を除ることにより、磁気スケールと
しての性能が（向上することを見い出し、本発明を成す
にて処理して磁気スケールを製造する。
理および第５工程二時効工程で熱処れた際に表面に薄く
酸化層が生成し、この酸が、（イ）磁気特性を低下させ
、また（口）目盛の高密度化を妨げ、更に（ハ）ヘッド
をさせた際にヘッドを著しく摩耗し、その結果のとき並
びにスケールとして使用したときのを低下させることを
発見し、この酸化層を除ることにより、磁気スケールと
しての性能が（向上することを見い出し、本発明を成す
にて処理して磁気スケールを製造する。
第１工程：圧延加工により例えば厚さ０．３〜３Ｉｌ１
１１の薄尋反とする。
１１の薄尋反とする。
第２工程二前記薄板を例えば長さ５０〜１０００ｍｍの
長尺状または例えば直径１０〜５０ｍｐｍの円板状に切
断する。
長尺状または例えば直径１０〜５０ｍｐｍの円板状に切
断する。
第３工程；長尺状または円板状の薄板を例えば約ｔｏｏ
ｏ〜１３００℃で約２０〜４０分加熱することにより溶
体化処理を行う、溶体化処理は、（イ）次の磁気異方性
化処理の際のスピノーダル分解のための均一化を目的と
して行うが、（ロ）圧延により、薄板の板面方向に磁気
異方性が形成され、その結果、後の工程で垂直磁化目盛
を着磁することが難しくなるので、この板面方向の磁気
異方性を消去する目的でも行なう。
ｏ〜１３００℃で約２０〜４０分加熱することにより溶
体化処理を行う、溶体化処理は、（イ）次の磁気異方性
化処理の際のスピノーダル分解のための均一化を目的と
して行うが、（ロ）圧延により、薄板の板面方向に磁気
異方性が形成され、その結果、後の工程で垂直磁化目盛
を着磁することが難しくなるので、この板面方向の磁気
異方性を消去する目的でも行なう。
第４工程：前記薄板を板厚方向に例えば約３０００〜４
０００エルステツドの磁場を印加した状態で例えハｅｓ
ｏ〜６９０℃に３０〜６０分加熱することにより磁気異
方性化処理を行う。
０００エルステツドの磁場を印加した状態で例えハｅｓ
ｏ〜６９０℃に３０〜６０分加熱することにより磁気異
方性化処理を行う。
第５工程：磁気異方性化処理工程の後、室温まで戻すこ
となく、そのまま多段時効の第１段階部度例えば６２０
℃にまで放冷し、或いは一旦室温まで冷却した後、例え
ば 第１段階：６２０℃×１時間 第２段階：６００℃×１時間 第３段階＝５８０℃×１時間 第４段階＝５６０℃×１時間 第５段階二５４０℃×４時間 の如き多段時効、或いは 第１段階：６００℃×２時間 第２段階：５８０℃×４時間 の如き多段時効を行う０時効は多段時効に限ることなく
場合により１段の時効でもよい。
となく、そのまま多段時効の第１段階部度例えば６２０
℃にまで放冷し、或いは一旦室温まで冷却した後、例え
ば 第１段階：６２０℃×１時間 第２段階：６００℃×１時間 第３段階＝５８０℃×１時間 第４段階＝５６０℃×１時間 第５段階二５４０℃×４時間 の如き多段時効、或いは 第１段階：６００℃×２時間 第２段階：５８０℃×４時間 の如き多段時効を行う０時効は多段時効に限ることなく
場合により１段の時効でもよい。
また時効の条件は磁性合金の組成で多少変わってくる。
第６工程：時効処理された長尺状または円板状薄板に青
磁用の磁気へラドを用いて第１図に示すように所定ピッ
チ例えば１０〜１（１０ミクロンのピッチで板厚方向に
磁気目盛を着磁する。なお、６１１化の向きは一目盛ご
とに上向き下向きに変える。
磁用の磁気へラドを用いて第１図に示すように所定ピッ
チ例えば１０〜１（１０ミクロンのピッチで板厚方向に
磁気目盛を着磁する。なお、６１１化の向きは一目盛ご
とに上向き下向きに変える。
こうして得られた磁気スケールは、本発明者らの知見に
よると、表面に黒色に近い薄い酸化層を存しており、こ
の酸化層の厚さは５〜５０ミクロンに達し、そしてこの
酸化層は主として異方性化処理および時効処理によって
生成することがわかった。
よると、表面に黒色に近い薄い酸化層を存しており、こ
の酸化層の厚さは５〜５０ミクロンに達し、そしてこの
酸化層は主として異方性化処理および時効処理によって
生成することがわかった。
そこで本発明では、第５工程と第６工程との間に、第７
工程として表面酸化層を除去する工程を設ける０表面酸
化層の除去は、ここでは精密研磨用の砥石を用いて研磨
することにより行なう。
工程として表面酸化層を除去する工程を設ける０表面酸
化層の除去は、ここでは精密研磨用の砥石を用いて研磨
することにより行なう。
その後、ここではポリッンング加工により表面粗さを０
．０１−０．５ミクロンの鏡面に近い平滑面に仕上げる
。
．０１−０．５ミクロンの鏡面に近い平滑面に仕上げる
。
こうして得られた磁気スケールは、酸化層の除去前は、
目盛が１４０ミクロンのピッチより細かくなると正確な
目盛を刻むことができなかったのに対して、本発明に従
い研削、ラッピング加工を行った後は、１０ミクロンま
でのピッチで正確な目盛を形成することができた。
目盛が１４０ミクロンのピッチより細かくなると正確な
目盛を刻むことができなかったのに対して、本発明に従
い研削、ラッピング加工を行った後は、１０ミクロンま
でのピッチで正確な目盛を形成することができた。
（発明の効果）
以上のとおり、本発明によれば、表面酸化層を研削除去
することにより、磁気スケールの磁気特性が向上し、そ
の結果、より細かいピッチで目盛を精度よく刻むことが
でき、そのためエンコーダとしての分解能が格段に向上
する。
することにより、磁気スケールの磁気特性が向上し、そ
の結果、より細かいピッチで目盛を精度よく刻むことが
でき、そのためエンコーダとしての分解能が格段に向上
する。
第１図は、所定形状の薄板状磁性材料に板厚方向に磁気
目盛を着磁する方法を示す慨念図である。 〔主要部分の符号の説明〕
目盛を着磁する方法を示す慨念図である。 〔主要部分の符号の説明〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 永久磁性材料の鋳造物を、 第１工程：圧延により薄板とする工程 に付した後、順序は問わないが、 第２工程：所定形状に切断する工程 第３工程：溶体化処理工程 に付し、その後、順次 第４工程：前記所定形状の薄板の板厚方向に磁場を印加
した状態で加熱する磁気異 方性化処理工程 第５工程：時効工程 第６工程：前記所定形状の薄板の板厚方向に磁化を示す
磁気目盛を着磁する工程 の諸工程に付すことにより磁気スケールを製造する方法
に於いて、 前記第５工程と第６工程との間に 第７工程として表面酸化層を除去する工程を付加したこ
とを特徴とする磁気スケールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23968584A JPS61117401A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23968584A JPS61117401A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61117401A true JPS61117401A (ja) | 1986-06-04 |
Family
ID=17048386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23968584A Pending JPS61117401A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61117401A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023255A1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-03-21 | Ultimate Clip, Inc. | Eyeglass accessory frame, eyeglass device, and method of forming a magnetic eyeglass appliance |
| US9136072B2 (en) | 2009-10-09 | 2015-09-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Indicator apparatus |
| US10072943B2 (en) | 2011-03-03 | 2018-09-11 | Rls Merilna Tehnika D.O.O. | Method of scale substrate manufacture |
-
1984
- 1984-11-14 JP JP23968584A patent/JPS61117401A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023255A1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-03-21 | Ultimate Clip, Inc. | Eyeglass accessory frame, eyeglass device, and method of forming a magnetic eyeglass appliance |
| US6412942B1 (en) | 2000-09-15 | 2002-07-02 | Ultimate Clip, Inc. | Eyeglass accessory frame, eyeglass device, and method of forming a magnetic eyeglass appliance |
| US7140728B2 (en) | 2000-09-15 | 2006-11-28 | Ultimate Clip, Inc. | Method of forming magnetic eyeglass appliance |
| US7296888B2 (en) | 2000-09-15 | 2007-11-20 | Elite Optik Us Lp | Eyeglass appliance, eyeglass component and eyeglass frame |
| US9136072B2 (en) | 2009-10-09 | 2015-09-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Indicator apparatus |
| US10072943B2 (en) | 2011-03-03 | 2018-09-11 | Rls Merilna Tehnika D.O.O. | Method of scale substrate manufacture |
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