JPS61110441A - マイクロエレクトロニツク素子を電気的に接続するための変形可能のマルチ結合の製法 - Google Patents
マイクロエレクトロニツク素子を電気的に接続するための変形可能のマルチ結合の製法Info
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- JPS61110441A JPS61110441A JP60243051A JP24305185A JPS61110441A JP S61110441 A JPS61110441 A JP S61110441A JP 60243051 A JP60243051 A JP 60243051A JP 24305185 A JP24305185 A JP 24305185A JP S61110441 A JPS61110441 A JP S61110441A
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野:
本発明はマイクロエレクトロニック素子を電気的に接続
するための変形可能のマルチ結合の製法に関する。
するための変形可能のマルチ結合の製法に関する。
従来の技術:
モノリシック集積マイクロ回路のマイクロ接触部を製造
するため細い金属線の1端をチップの接触部と結合し、
チップと結合すべきチップホルダの接続電極を他−と結
合することは公知であり、その際変形可能のマルチ結合
が発生する(ケストナ、ハルゾライターテヒノロr−、
フオーデルフエアラーク、ウルップルク、198088
〜89ページ参照、Kaestner、 Halble
iter−Technologie、 Vogel −
Verlag、 wllrzburg )。
するため細い金属線の1端をチップの接触部と結合し、
チップと結合すべきチップホルダの接続電極を他−と結
合することは公知であり、その際変形可能のマルチ結合
が発生する(ケストナ、ハルゾライターテヒノロr−、
フオーデルフエアラーク、ウルップルク、198088
〜89ページ参照、Kaestner、 Halble
iter−Technologie、 Vogel −
Verlag、 wllrzburg )。
この場合チップホルダ上の接続電極はチップの接触部よ
り著しく大きい間隔を有することができ、したがって接
続電極はゾラグ接触として形成することができる。それ
によって大きい電子回路ユニットへ容易に組込および取
りはずししうる差込可能のパーツが得られるけれど、そ
のために必要な組込面積はチップ面積の数倍になる。
り著しく大きい間隔を有することができ、したがって接
続電極はゾラグ接触として形成することができる。それ
によって大きい電子回路ユニットへ容易に組込および取
りはずししうる差込可能のパーツが得られるけれど、そ
のために必要な組込面積はチップ面積の数倍になる。
さらに接触部をチップの全表面にわたって分布させ、多
数のチップを接触部によって直接結合導線を多層に含む
共通のセラミック基板へはんだ付することが公知である
(フリップ−チップボンディングたとえばり、 S、ボ
ルドマン、P。
数のチップを接触部によって直接結合導線を多層に含む
共通のセラミック基板へはんだ付することが公知である
(フリップ−チップボンディングたとえばり、 S、ボ
ルドマン、P。
A、 )ツタ、ソリッドステートテクノロジー第26巻
、第6篇、1986年91〜97ページ参照、L、 S
、 Goldman、 P、 A、 Totta、 5
olidState Technology )それに
よって他の組込法より著しく高い集積密度および著しく
早い信号伝送時間を達成することができる。この組込法
の場合チップの裏面は機械的または電気的構造物がない
ので、付加的に裏面を圧着した金属円筒を介して水で冷
却する可能性が生ずる。
、第6篇、1986年91〜97ページ参照、L、 S
、 Goldman、 P、 A、 Totta、 5
olidState Technology )それに
よって他の組込法より著しく高い集積密度および著しく
早い信号伝送時間を達成することができる。この組込法
の場合チップの裏面は機械的または電気的構造物がない
ので、付加的に裏面を圧着した金属円筒を介して水で冷
却する可能性が生ずる。
しかしチップをセラミック基板へ直接はんだ付すること
はチップと基板材料の膨張係数が異なるため、温度変化
の際チップが大きいほどはんだ結合の機械的負荷が大き
くなる。それゆえさらにチップ表面を拡大し、導体およ
び結合構造をさらに微細にしようとする場合、固いはん
だ結合破壊の危険が著しく増大する。
はチップと基板材料の膨張係数が異なるため、温度変化
の際チップが大きいほどはんだ結合の機械的負荷が大き
くなる。それゆえさらにチップ表面を拡大し、導体およ
び結合構造をさらに微細にしようとする場合、固いはん
だ結合破壊の危険が著しく増大する。
発明が解決しようとする問題点:
本発明の目的はできるだけ小さい所要スペースでチップ
および基板または互いに結合すべき他の同様に形成した
エレクトロニック素子の熱膨張の差を補償する、マイク
ロエレクトロニック素子を電気的に接続するための、一
定限度内で変形しうるマルチ結合を製造することである
。
および基板または互いに結合すべき他の同様に形成した
エレクトロニック素子の熱膨張の差を補償する、マイク
ロエレクトロニック素子を電気的に接続するための、一
定限度内で変形しうるマルチ結合を製造することである
。
問題点を解決するための手段:
この目的は本発明により特許請求の範囲第1項特徴部に
記載の手段によって解決される。
記載の手段によって解決される。
作用:
本発明の方法によれば十分な限界内で変形しうる多数の
結合要素を、マイクロエレクトロニック素子のスペース
の小さい組込に必要なきわめて小さい寸法および間隔を
もって、いっしょに製造して固定することが可能になる
。臨界的熱膨張平面内の十分な変形性にもかかわらず、
このように製造したマルチ結合はこれと垂直の方向には
十分に剛性であり、たとえば前記水冷の際冷却円筒の圧
着圧力を吸収することができる。さらに本発明により製
造した電気的マルチ結合によれば結合要素によって得ら
れるチップと基板の間の空間へガスを吹込む強制冷却の
可能性が開かれる。
結合要素を、マイクロエレクトロニック素子のスペース
の小さい組込に必要なきわめて小さい寸法および間隔を
もって、いっしょに製造して固定することが可能になる
。臨界的熱膨張平面内の十分な変形性にもかかわらず、
このように製造したマルチ結合はこれと垂直の方向には
十分に剛性であり、たとえば前記水冷の際冷却円筒の圧
着圧力を吸収することができる。さらに本発明により製
造した電気的マルチ結合によれば結合要素によって得ら
れるチップと基板の間の空間へガスを吹込む強制冷却の
可能性が開かれる。
実施例:
次に本発明の実施例を図面により説明する。
第1図はポリメチルメタクリラート(PMMA )から
なる以下にはレジスト板1と称する板状材料の断面を大
きく拡大して示す。レゾスト板1は約500μ口の厚さ
を有し、X線マスク(図示されず)を介してシンクロト
ロンのエネルギーの高いX線により所定の約300μm
のラスタ間隔で局部的に照射され、直径約60μmの円
筒範、囲1aが発生し、その溶解性はレジスト板1の照
射されない範囲より著しく上昇する。
なる以下にはレジスト板1と称する板状材料の断面を大
きく拡大して示す。レゾスト板1は約500μ口の厚さ
を有し、X線マスク(図示されず)を介してシンクロト
ロンのエネルギーの高いX線により所定の約300μm
のラスタ間隔で局部的に照射され、直径約60μmの円
筒範、囲1aが発生し、その溶解性はレジスト板1の照
射されない範囲より著しく上昇する。
次にレゾスト板の両側からそれぞれもう1回局部照射が
同じラスタで行われるけれど、その浸透深さは小さく、
その直径は約70μmである。
同じラスタで行われるけれど、その浸透深さは小さく、
その直径は約70μmである。
このように照射して可溶性になった範囲1a。
lb、1cはたとえば西独公開特許公報第303911
0号に記載される現像剤によって除去されるので、結合
要素のパターン2を有する型が発生し、この場合パター
ン2は端部に短い拡大部(第2図)を有する。次の工程
でパタン2は電気メッキによりニッケルで充てんされる
ので、細い変形可能の中間部3aおよび太い端部3b、
3cを有する結合要素3が発生する(第5図)。さらに
第6図から明らかなようにレゾスト板1の1面の一部1
dは適当な浸透深さの放射線照射および引続く溶出によ
って除去されるので、結合要素の太い端部範囲3cが露
出する。結合要素3の太い端部範囲3Cをセラミック基
板4の相当する挿入孔4aへ挿入し、それによって固定
する(第4図)。挿入孔4aは一部鉛/スズ合金4bで
充てんされ、この合金は後の加熱の際結合要素3と多層
からなる基板4の導体路5の間の電気的結合を保証する
。
0号に記載される現像剤によって除去されるので、結合
要素のパターン2を有する型が発生し、この場合パター
ン2は端部に短い拡大部(第2図)を有する。次の工程
でパタン2は電気メッキによりニッケルで充てんされる
ので、細い変形可能の中間部3aおよび太い端部3b、
3cを有する結合要素3が発生する(第5図)。さらに
第6図から明らかなようにレゾスト板1の1面の一部1
dは適当な浸透深さの放射線照射および引続く溶出によ
って除去されるので、結合要素の太い端部範囲3cが露
出する。結合要素3の太い端部範囲3Cをセラミック基
板4の相当する挿入孔4aへ挿入し、それによって固定
する(第4図)。挿入孔4aは一部鉛/スズ合金4bで
充てんされ、この合金は後の加熱の際結合要素3と多層
からなる基板4の導体路5の間の電気的結合を保証する
。
次にレジスト板1の残りの材料は溶剤で除去される。基
板4に固定した結合要素3の太い端部範囲3bへ同じラ
スタに配置したけんだビードを備える接続部6を有する
チップ7を配置し、全配置を炉内で加熱し、結合要素3
は基板4の導体路5および接続部6とはんだ結合される
。
板4に固定した結合要素3の太い端部範囲3bへ同じラ
スタに配置したけんだビードを備える接続部6を有する
チップ7を配置し、全配置を炉内で加熱し、結合要素3
は基板4の導体路5および接続部6とはんだ結合される
。
その際結合要素3はその変形可能の中間部3aによりチ
ップと基板の異なる熱膨張を補償する。
ップと基板の異なる熱膨張を補償する。
前記固定法の代りに基板4の導体路5を電気メッキ電極
として使用することもできる。どの場合結合要素のパタ
ーン2を有する型をパターン2が基板4の挿入孔4aと
1線になるように基板4へ直接配置する。パターン2の
電気メッキによる充てん後レジスト板1の材料を除去し
、結合要素3をチップIの接続部6とはんだ付けする。
として使用することもできる。どの場合結合要素のパタ
ーン2を有する型をパターン2が基板4の挿入孔4aと
1線になるように基板4へ直接配置する。パターン2の
電気メッキによる充てん後レジスト板1の材料を除去し
、結合要素3をチップIの接続部6とはんだ付けする。
いずれの場合にもチップと基板の間に冷却ガスの吹抜け
を可能にする中間空間が発生する。
を可能にする中間空間が発生する。
本発明のもう1つの実施例によれば結合要素はいわゆる
フォーミング法で製造される。この場合フォーミング材
料を母工具で多数成形し、次に得られた2次型を電気メ
ッキにより金属で充てんする。その際第2図のようにP
MMAからなる板状材料10bに局部照射および材料の
局部除去によってパターン10がつくられ、その際この
パターンはフォーミングを考慮して1端のみに太い端部
範囲10aを有する。パターン10を電気メッキにより
ニッケルで充てンシ、その際電気メッキ電極はこのよう
に製造した1次結合要素12に支持板11として残る(
第6図)。部分11および12からなるこの母工具を使
用してエネルf−に富む放射線によってその性質を変化
しうるフォーミング材料たとえば同様PMMAによって
多数回フォーミングし、それによって互いに隣接配置し
た変形可能の結合要素のパターン14を含む板状の2次
型が得られる。この型を第6図に準じて電気メッキによ
り金属たとえばニッケルで充てんし、2次結合要素15
が発生する(第7図)。この2次結合要素15は細い変
形可能範囲15bおよび太い端部範囲15&を有し、こ
の太い範囲は2次型の一部13bを適当な浸透深さの放
射線の照射および引続く溶出によって除去した後、第4
図のように基板に固定される。型の表面13aを超える
過剰メッキによってこの方法の場合も後にチップ7の接
続部6とはんだ付けされる上側の太い端部範囲15Cを
つくることができる。
フォーミング法で製造される。この場合フォーミング材
料を母工具で多数成形し、次に得られた2次型を電気メ
ッキにより金属で充てんする。その際第2図のようにP
MMAからなる板状材料10bに局部照射および材料の
局部除去によってパターン10がつくられ、その際この
パターンはフォーミングを考慮して1端のみに太い端部
範囲10aを有する。パターン10を電気メッキにより
ニッケルで充てンシ、その際電気メッキ電極はこのよう
に製造した1次結合要素12に支持板11として残る(
第6図)。部分11および12からなるこの母工具を使
用してエネルf−に富む放射線によってその性質を変化
しうるフォーミング材料たとえば同様PMMAによって
多数回フォーミングし、それによって互いに隣接配置し
た変形可能の結合要素のパターン14を含む板状の2次
型が得られる。この型を第6図に準じて電気メッキによ
り金属たとえばニッケルで充てんし、2次結合要素15
が発生する(第7図)。この2次結合要素15は細い変
形可能範囲15bおよび太い端部範囲15&を有し、こ
の太い範囲は2次型の一部13bを適当な浸透深さの放
射線の照射および引続く溶出によって除去した後、第4
図のように基板に固定される。型の表面13aを超える
過剰メッキによってこの方法の場合も後にチップ7の接
続部6とはんだ付けされる上側の太い端部範囲15Cを
つくることができる。
端部範囲15aを基板4(第4図)K固定した後、残り
のフォーミング材料13を除去する。
のフォーミング材料13を除去する。
本発明の方法によれば高さ方向に沿って均一なまたは変
化する断面を有する柱状結合要素のみならず、種々の形
のシート状要素を製造することができる。例として第8
a図に結合要素の平面図、第8b図にその側面図が示さ
れ、これKよれば2つの互いに平行に配置したピン16
゜18が薄い板ばね17によって互いに結合される。こ
の場合少なくとも1つのビンは板ばねの高さを超えて突
出し、これはピンのパターンのみを含む別個の型を使用
してあとからビンを電気メッキにより延長することKよ
って達成される。
化する断面を有する柱状結合要素のみならず、種々の形
のシート状要素を製造することができる。例として第8
a図に結合要素の平面図、第8b図にその側面図が示さ
れ、これKよれば2つの互いに平行に配置したピン16
゜18が薄い板ばね17によって互いに結合される。こ
の場合少なくとも1つのビンは板ばねの高さを超えて突
出し、これはピンのパターンのみを含む別個の型を使用
してあとからビンを電気メッキにより延長することKよ
って達成される。
選択した例では結合すべきマイクロエレクトロニック素
子がチップおよび基板であることを前提にした。同様の
方法で他のマイクロエレクトロニック素子を結合しうろ
ことは明らかである。たとえばマイクロ回路の集積密度
をさらに上昇するため、第4図に示す基板を周縁に設け
た接触部を介して基板と結合しているもう1つのチップ
と置替えることができる。
子がチップおよび基板であることを前提にした。同様の
方法で他のマイクロエレクトロニック素子を結合しうろ
ことは明らかである。たとえばマイクロ回路の集積密度
をさらに上昇するため、第4図に示す基板を周縁に設け
た接触部を介して基板と結合しているもう1つのチップ
と置替えることができる。
第1図〜第4図は本発明の方法の工程を示す横断面図、
第5図〜第7図は製法のもう1つの実施例の断面図、第
8a図はシート状結合要素の平面図、第8b図はその側
面図である。 1・・・レジスト板、1a・・・円筒範囲、1b、1C
・・・太い範囲、2.10.14・・・パターン、3゜
12.15・・・結合要素、4・・・セラミック基板、
4a・・・挿入孔、5・・・導体路、6・・・接続部、
7・・・チップ、11・・・支持板、13・・・フォー
ミング材部 、 入 醜 K 1 駆 八 〇(塚 ヘ − ゝ 記 跪 \ + V 藝 ト
第5図〜第7図は製法のもう1つの実施例の断面図、第
8a図はシート状結合要素の平面図、第8b図はその側
面図である。 1・・・レジスト板、1a・・・円筒範囲、1b、1C
・・・太い範囲、2.10.14・・・パターン、3゜
12.15・・・結合要素、4・・・セラミック基板、
4a・・・挿入孔、5・・・導体路、6・・・接続部、
7・・・チップ、11・・・支持板、13・・・フォー
ミング材部 、 入 醜 K 1 駆 八 〇(塚 ヘ − ゝ 記 跪 \ + V 藝 ト
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、マイクロエレクトロニック素子を電気的に接続する
ための変形可能のマルチ結合の製法において、エネルギ
ーの高い放射線によつてその性質が変化する板状材料か
らこの材料の局部照射および照射により生じた材料性質
の差を利用した局部除去によつて、所定の位置に高さが
最小横方向寸法の数倍である結合要素のパターン(2)
を含む板状の型をつくり、パターン(2)を電気メッキ
により金属で充てんし、電気メッキにより得た結合要素
(3)を基板(4)または支持板(11)に固定し、型
を除去することを特徴とするマイクロエレクトロニック
素子を電気的に接続するための変形可能のマルチ結合の
製法。 2、エネルギーの高い放射線としてシンクロトロン放射
線を使用し、材料の局部的除去を液体現像剤によつて行
う特許請求の範囲第1項記載の製法。 3、支持板(11)に固定した結合要素(12)のフォ
ーミング材料(13)による繰返しフォーミングによつ
て変形可能の結合要素のパターン(14)を含む多数の
板状の型を製造し、これを電気メッキにより金属で充て
んし、電気メッキにより製造した2次結合要素(15a
)を基板(4)に固定し、2次型を除去する特許請求の
範囲第1項または第2項記載の製法。 4、結合要素または2次結合要素を電気メッキにより結
合要素を製造した後に基板(4)に固定し、そのためエ
ネルギーに富む放射線によつてその性質を変化しうる板
状材料またはフォーミング材料のさらに一部を新たな照
射によつて発生した異なる材料性質を使用して除去する
特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に
記載の製法。 5、結合要素または2次結合要素の固定を、基板(4)
を電気メッキ電極として使用することによつて実施する
特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれか1項に
記載の製法。 6、高さ全体にわたつて一定の断面を有する特許請求の
範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の製法
。 7、局部照射を順次に続く多数工程で実施し、その際板
状材料(1)の異なる範囲(1a、1c)を浸透深さの
異なる放射線で照射する特許請求の範囲第1項から第6
項までのいずれか1項に記載の製法。 8、少なくとも1つの端部範囲(3c、3b)が残りの
範囲(3a)より大きい断面を有する特許請求の範囲第
7項記載の製法。 9、それぞれ2つの互いに平行に配置したピン(8、1
6)を板ばね(17)によつて互いに結合する特許請求
の範囲第1項から第8項までのいずれか1項に記載の製
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3440109.1 | 1984-11-02 | ||
DE19843440109 DE3440109A1 (de) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | Verfahren zur herstellung verformbarer vielfach-verbindungen fuer den elektrischen anschluss mikroelektronischer bauelemente und nach diesem verfahren hergestellte vielfachverbindungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61110441A true JPS61110441A (ja) | 1986-05-28 |
JPH0482055B2 JPH0482055B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=6249359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60243051A Granted JPS61110441A (ja) | 1984-11-02 | 1985-10-31 | マイクロエレクトロニツク素子を電気的に接続するための変形可能のマルチ結合の製法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0183910A3 (ja) |
JP (1) | JPS61110441A (ja) |
DE (1) | DE3440109A1 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155633A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH01170035A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-07-05 | Amp Inc | マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 |
JPH0277138A (ja) * | 1987-10-28 | 1990-03-16 | Hitachi Ltd | 電子部品の接続構造及びそれを用いた電子装置 |
JPH03502388A (ja) * | 1988-02-05 | 1991-05-30 | レイケム・リミテッド | 単一軸状電気伝導部品の製造方法 |
US6129559A (en) * | 1996-01-19 | 2000-10-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Microconnector and method of manufacturing the same |
US7692521B1 (en) | 2005-05-12 | 2010-04-06 | Microassembly Technologies, Inc. | High force MEMS device |
US7750462B1 (en) | 1999-10-12 | 2010-07-06 | Microassembly Technologies, Inc. | Microelectromechanical systems using thermocompression bonding |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2643754B1 (fr) * | 1989-02-28 | 1993-09-17 | Thomson Brandt Armements | Procede de realisation d'une connexion a plat |
US20020096421A1 (en) | 2000-11-29 | 2002-07-25 | Cohn Michael B. | MEMS device with integral packaging |
CH708113B1 (de) | 2007-09-13 | 2014-12-15 | Stéphane Von Gunten | Anker für eine Uhrenhemmung. |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1387587A (en) * | 1971-07-22 | 1975-03-19 | Plessey Co Ltd | Electrical interconnectors and connector assemblies |
US4067104A (en) * | 1977-02-24 | 1978-01-10 | Rockwell International Corporation | Method of fabricating an array of flexible metallic interconnects for coupling microelectronics components |
DE3039110A1 (de) * | 1980-10-16 | 1982-05-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren fuer die spannungsfreie entwicklung von bestrahlten polymethylmetacrylatschichten |
-
1984
- 1984-11-02 DE DE19843440109 patent/DE3440109A1/de active Granted
-
1985
- 1985-07-20 EP EP85109108A patent/EP0183910A3/de not_active Withdrawn
- 1985-10-31 JP JP60243051A patent/JPS61110441A/ja active Granted
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277138A (ja) * | 1987-10-28 | 1990-03-16 | Hitachi Ltd | 電子部品の接続構造及びそれを用いた電子装置 |
JPH01170035A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-07-05 | Amp Inc | マイクロ入出力ピンおよびその製造方法 |
JPH01155633A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH03502388A (ja) * | 1988-02-05 | 1991-05-30 | レイケム・リミテッド | 単一軸状電気伝導部品の製造方法 |
US6129559A (en) * | 1996-01-19 | 2000-10-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Microconnector and method of manufacturing the same |
US7750462B1 (en) | 1999-10-12 | 2010-07-06 | Microassembly Technologies, Inc. | Microelectromechanical systems using thermocompression bonding |
US7692521B1 (en) | 2005-05-12 | 2010-04-06 | Microassembly Technologies, Inc. | High force MEMS device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0482055B2 (ja) | 1992-12-25 |
DE3440109C2 (ja) | 1987-05-27 |
EP0183910A3 (de) | 1989-01-04 |
EP0183910A2 (de) | 1986-06-11 |
DE3440109A1 (de) | 1986-05-07 |
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