JPS61110331A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61110331A JPS61110331A JP23131584A JP23131584A JPS61110331A JP S61110331 A JPS61110331 A JP S61110331A JP 23131584 A JP23131584 A JP 23131584A JP 23131584 A JP23131584 A JP 23131584A JP S61110331 A JPS61110331 A JP S61110331A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- thin
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体の改良に係り、特に耐触性、耐ヘ
ッド摺動性の向上を図ることを目的とするものである。
ッド摺動性の向上を図ることを目的とするものである。
従来より高密度記録を実現するために、金属薄膜を磁気
記録媒体に用いる研究開発が進められている。高分子フ
ィルム、アルミニウム、ガラスなどの非磁性材料の基板
上に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属またはこれらの
元素を主成分とする合金を主体とする磁性体の薄膜を真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
、電気メツキ法、化学メッキ法等で形成し、磁気記録媒
体が製造されている。しかし金属薄膜を用いた磁気記録
媒体は、耐蝕性が悪い、ヘッド等を摩耗し易い、媒体自
身も摩耗し易い、あるいはヘッドタッチが悪い等の問題
点があり、実用化に至っていない。
記録媒体に用いる研究開発が進められている。高分子フ
ィルム、アルミニウム、ガラスなどの非磁性材料の基板
上に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属またはこれらの
元素を主成分とする合金を主体とする磁性体の薄膜を真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
、電気メツキ法、化学メッキ法等で形成し、磁気記録媒
体が製造されている。しかし金属薄膜を用いた磁気記録
媒体は、耐蝕性が悪い、ヘッド等を摩耗し易い、媒体自
身も摩耗し易い、あるいはヘッドタッチが悪い等の問題
点があり、実用化に至っていない。
このような問題を解決する手段として、磁性体層上に耐
酸化性のある金属、例えばＡｕ、Ｐｔ。
酸化性のある金属、例えばＡｕ、Ｐｔ。
Ｒｈ、Ｐｄ＋ Ｃｒ、Ａｆｌ＋ Ｓｉ等の材料からなる
保護層を形成する手法（特開昭５３−４０５０５号、特
開昭５７−１７６５３７号）や磁性体膜の表面を窒化し
たり酸化したりすることによって強化する手法（特開昭
５４−１４３１１号）などが提案されている。
保護層を形成する手法（特開昭５３−４０５０５号、特
開昭５７−１７６５３７号）や磁性体膜の表面を窒化し
たり酸化したりすることによって強化する手法（特開昭
５４−１４３１１号）などが提案されている。
しかし１本発明者らの実験によると金属系の保護膜の場
合は耐摩耗性が十分とは言えず、また膜面内のピンホー
ルを通して磁性体膜が少しずつ変質する等の問題があり
、必ずしも要求を満足しているとは言い難い。磁性体膜
の表面を窒化もしくは酸化する方法は、かなり耐摺動性
、耐酸化性が向上する反面、窒化、酸化する厚さによっ
て磁性体膜の磁気的性質が変化したり、あるいは酸化。
合は耐摩耗性が十分とは言えず、また膜面内のピンホー
ルを通して磁性体膜が少しずつ変質する等の問題があり
、必ずしも要求を満足しているとは言い難い。磁性体膜
の表面を窒化もしくは酸化する方法は、かなり耐摺動性
、耐酸化性が向上する反面、窒化、酸化する厚さによっ
て磁性体膜の磁気的性質が変化したり、あるいは酸化。
窒化に際して磁性体膜がかなりの高温にさらされるので
磁気的性質が変化するといった問題点がある。
磁気的性質が変化するといった問題点がある。
本発明はこのような問題点に鑑み成されたものであり、
保！！！層材料としてＢ系材料を用いることにより磁気
記録媒体の耐触性と耐摺動性を大幅に改善することを目
的とする。
保！！！層材料としてＢ系材料を用いることにより磁気
記録媒体の耐触性と耐摺動性を大幅に改善することを目
的とする。
保護層に必要な条件は、耐蝕性があり磁性層を保護する
こと、磁気ヘッドに対して滑性があること、および電磁
変換特性の低下を抑えるため膜厚はできるだけ小さいこ
と（１ｏｏｏÅ以下）である。
こと、磁気ヘッドに対して滑性があること、および電磁
変換特性の低下を抑えるため膜厚はできるだけ小さいこ
と（１ｏｏｏÅ以下）である。
非磁性基板上に形成された磁性体膜の表面には一般にミ
クロな起伏がある。保！！！膜は前記条件を満すことに
加えて、このミクロな起伏の上に強固に付着しているこ
とが必要であり、望ましくは保護膜を形成することによ
りミクロな起伏が平坦化されることである。ミクロな起
伏の大きさは磁性体膜を構成する微結晶粒子が垂直配向
した柱状晶から成る垂直磁化膜の場合に最も大きくなり
、例えばＧｏ基合金膜からなる垂直磁化膜でその表面に
は周期２００〜５００人、深さ５０〜２００人の起伏が
存在する。微結晶粒子界面が表面に露出した部分には、
原子規模（１０Å以下）の溝さ穴も存在する。この様な
起伏を持つ磁性体膜の上に形成される保護膜材料は、ミ
クロな起伏のすみずみまで回り込んで強固に付着するこ
とが必要である。
クロな起伏がある。保！！！膜は前記条件を満すことに
加えて、このミクロな起伏の上に強固に付着しているこ
とが必要であり、望ましくは保護膜を形成することによ
りミクロな起伏が平坦化されることである。ミクロな起
伏の大きさは磁性体膜を構成する微結晶粒子が垂直配向
した柱状晶から成る垂直磁化膜の場合に最も大きくなり
、例えばＧｏ基合金膜からなる垂直磁化膜でその表面に
は周期２００〜５００人、深さ５０〜２００人の起伏が
存在する。微結晶粒子界面が表面に露出した部分には、
原子規模（１０Å以下）の溝さ穴も存在する。この様な
起伏を持つ磁性体膜の上に形成される保護膜材料は、ミ
クロな起伏のすみずみまで回り込んで強固に付着するこ
とが必要である。
本発明者らの実験によると、保護膜材料としてホウ素（
Ｂ）系の材料を用いると特に優れた効果が得られること
がわかった。これはＢ［子の大きさが磁性体膜を構成す
るＦａ、Ｎｉ、Ｇｏなどの強磁性体原子の大きさに比べ
て十分小さく、ミクロな窪みの中まで容易に浸入し易い
こと、Ｂは金属原子との親和性が良く磁性体膜に強固に
付着することによる。また、蒸着法、スパッター法、イ
オンプレーティング法等のいわゆる乾式法で形成した磁
性体膜上にＢ系材料の保護膜を設けた場合に特に強固な
付着力が得られる。さらにＢ系材料は緻密で硬く、表面
を滑らかにでき、ヘッドに対する耐摩耗性と滑性が特に
優れている。またＢ系材料を磁性体膜表面にスパッタ法
等で形成すると非晶質状の膜が得易く、２００〜５００
人程度の厚さの保護膜を形成することにより磁性体膜の
表面のミクロな起伏が平坦化される傾向が認められる。
Ｂ）系の材料を用いると特に優れた効果が得られること
がわかった。これはＢ［子の大きさが磁性体膜を構成す
るＦａ、Ｎｉ、Ｇｏなどの強磁性体原子の大きさに比べ
て十分小さく、ミクロな窪みの中まで容易に浸入し易い
こと、Ｂは金属原子との親和性が良く磁性体膜に強固に
付着することによる。また、蒸着法、スパッター法、イ
オンプレーティング法等のいわゆる乾式法で形成した磁
性体膜上にＢ系材料の保護膜を設けた場合に特に強固な
付着力が得られる。さらにＢ系材料は緻密で硬く、表面
を滑らかにでき、ヘッドに対する耐摩耗性と滑性が特に
優れている。またＢ系材料を磁性体膜表面にスパッタ法
等で形成すると非晶質状の膜が得易く、２００〜５００
人程度の厚さの保護膜を形成することにより磁性体膜の
表面のミクロな起伏が平坦化される傾向が認められる。
本発明で述べているＢ系材料とは単体のＢ。
Ｂ、Ｃ、Ｂ、Ｓｉ ｒ Ｂ＊Ｓｉ であり、これら
の材料間の混晶も含まれる。
の材料間の混晶も含まれる。
以下本発明を実施例によって説明する。
実施例
基板としてポリイミドフィルムを用いて、スパッタ法に
よって第１図に示す構造の磁気記録媒体を作製した。ス
パッタ装置の試料室を５ Ｘ １０−’Ｐａまで真空排
気した後０．３ ＰａのＡｒガスを導入し、高周波出
力４Ｗ／ｄ、基板温度１００℃の条件でＣｏ−２０ｗｔ
・％Ｃｒ合金を０．３μｍ厚スパッタ蒸着した。ついで
試料室の真空を破らずにスパッタターゲットをＢに変換
し、同様の条件で２００人厚０保護層を形成した。以下
Ｂターゲットの代りにＢ４Ｃｒ ＢａＳ ｌ 、Ｂｓ
Ｓ １ターゲツトを用いて同様の条件で保護層がこれら
の材料から成る磁気記録媒体を作製した。
よって第１図に示す構造の磁気記録媒体を作製した。ス
パッタ装置の試料室を５ Ｘ １０−’Ｐａまで真空排
気した後０．３ ＰａのＡｒガスを導入し、高周波出
力４Ｗ／ｄ、基板温度１００℃の条件でＣｏ−２０ｗｔ
・％Ｃｒ合金を０．３μｍ厚スパッタ蒸着した。ついで
試料室の真空を破らずにスパッタターゲットをＢに変換
し、同様の条件で２００人厚０保護層を形成した。以下
Ｂターゲットの代りにＢ４Ｃｒ ＢａＳ ｌ 、Ｂｓ
Ｓ １ターゲツトを用いて同様の条件で保護層がこれら
の材料から成る磁気記録媒体を作製した。
比較試料として、保護層を設けないもの、および保護層
がＣｒから成る類似の構造を持つ試料を作製した。
がＣｒから成る類似の構造を持つ試料を作製した。
これらの試料について、以下の耐摺動および耐蝕性テス
トを行なった。耐摺動テストは、各試料からディスク試
料を切り出し、ディスク回転装置にセットした後、荷重
１０ｇのヘッドを接触させてディスクを１．５ｍ／ｓの
速度で連続回転させ、磁気記録媒体に傷が生じるまでの
回転の数を測定した。耐蝕性テストは試料を湿度９０％
、温度６０’Ｃの環境中に１ケ月放置した後、その表面
を光学顕微鏡で検査することによって行なった。結果を
第１表にまとめて示す。なお耐蝕性テストにおいて０は
磁性膜に腐蝕が全く認められなかった場合、Δは光学顕
微鏡で変色が認められた場合、×は肉眼で明らかに変色
が認められた場合を示す。
トを行なった。耐摺動テストは、各試料からディスク試
料を切り出し、ディスク回転装置にセットした後、荷重
１０ｇのヘッドを接触させてディスクを１．５ｍ／ｓの
速度で連続回転させ、磁気記録媒体に傷が生じるまでの
回転の数を測定した。耐蝕性テストは試料を湿度９０％
、温度６０’Ｃの環境中に１ケ月放置した後、その表面
を光学顕微鏡で検査することによって行なった。結果を
第１表にまとめて示す。なお耐蝕性テストにおいて０は
磁性膜に腐蝕が全く認められなかった場合、Δは光学顕
微鏡で変色が認められた場合、×は肉眼で明らかに変色
が認められた場合を示す。
第１表
このようにＢ系材料の保護膜を設けた磁気記録媒体の耐
摺動性と耐蝕性はすぐれていることが判明した。
摺動性と耐蝕性はすぐれていることが判明した。
Ｂ系材料の保護膜を２００人形成した試料と保護膜を形
成しない試料表面を走査型電子ｉ［微鏡で１ｌｉＩ察し
比較したところ、保護膜を形成した試料表面の方が起伏
が少なく平滑であることが判った。
成しない試料表面を走査型電子ｉ［微鏡で１ｌｉＩ察し
比較したところ、保護膜を形成した試料表面の方が起伏
が少なく平滑であることが判った。
また保護膜の膜厚が大きいほど耐摺動性が向上する傾向
が認められたが、磁気記録媒体とヘッド間の距離が増大
すると電磁変換特性が低下した。電磁変換特性を落さず
、しかも耐摺動性の良い膜厚の範囲は１００〜８００人
、さらに望ましくは１５０〜３００人であった。
が認められたが、磁気記録媒体とヘッド間の距離が増大
すると電磁変換特性が低下した。電磁変換特性を落さず
、しかも耐摺動性の良い膜厚の範囲は１００〜８００人
、さらに望ましくは１５０〜３００人であった。
また、本実施例では磁性薄膜を形成した後間−装置内で
連続してＢ系材料の保護膜を設けた場合について述べた
が、磁性薄膜の形成後別の装置に試料を移してから保護
膜を形成しても良い、しかし、接着強度の大きい保護膜
を形成するには磁性簿膜表面を空気にさらすことなく連
続して保護膜を形成するのが望ましいことが実験の結果
明らかになった。
連続してＢ系材料の保護膜を設けた場合について述べた
が、磁性薄膜の形成後別の装置に試料を移してから保護
膜を形成しても良い、しかし、接着強度の大きい保護膜
を形成するには磁性簿膜表面を空気にさらすことなく連
続して保護膜を形成するのが望ましいことが実験の結果
明らかになった。
さらに磁性体薄膜としてＣｏＣｒ合金以外のＣＯ基合金
、Ｆａ基合金、Ｎｉ基合金の場合にもＢＩ Ｂ４Ｃ＋
Ｂ＊Ｓｉ 、Ｂ、Ｓｉ のいずれかの材料から成る
保護膜を設けることにより、耐摺動性と耐蝕性が向上し
た。 Ｂ、ＣとＢ４Ｓｉ の混晶であるＲ４Ｓｉ＊Ｃ
ｔ−ｍ等でも同等の効果が認められた。
、Ｆａ基合金、Ｎｉ基合金の場合にもＢＩ Ｂ４Ｃ＋
Ｂ＊Ｓｉ 、Ｂ、Ｓｉ のいずれかの材料から成る
保護膜を設けることにより、耐摺動性と耐蝕性が向上し
た。 Ｂ、ＣとＢ４Ｓｉ の混晶であるＲ４Ｓｉ＊Ｃ
ｔ−ｍ等でも同等の効果が認められた。
ここでは磁性体膜と保護膜の形成をスパッタ法で行なっ
た場合について述べたが、蒸着法で膜の形成を行なって
も同様の効果が認められた。また非磁性基板としてＡＱ
、ガラス等を用いても同様に耐摺動性と耐蝕性が向上す
る効果が認められた。
た場合について述べたが、蒸着法で膜の形成を行なって
も同様の効果が認められた。また非磁性基板としてＡＱ
、ガラス等を用いても同様に耐摺動性と耐蝕性が向上す
る効果が認められた。
以上述べたように本発明による磁気記録媒体は非磁性体
の基板上に直接もしくは何らかの中間層を介して形成し
た磁性体薄膜上にさらに耐摺動性と耐蝕性が優れた保護
層を形成したものである。
の基板上に直接もしくは何らかの中間層を介して形成し
た磁性体薄膜上にさらに耐摺動性と耐蝕性が優れた保護
層を形成したものである。
従って本発明は磁気ヘッドとの滑り性を改善した長寿命
の磁気記録媒体を得るために有用なものである。
の磁気記録媒体を得るために有用なものである。
第１図は本発明の一実施例による磁気記録媒体の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
Claims (1)
- １、非磁性基板上に蒸着法、スパッター法若しくはイオ
ンプレーティング法により磁性金属薄膜を形成してなる
磁気記録媒体において、前記磁性金属薄膜上にＢ、Ｂ＿
４Ｃ、Ｂ＿４Ｓｉ、Ｂ＿６Ｓｉの群から選ばれた少なく
とも１種の材料から成る薄膜で覆つたことを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23131584A JPS61110331A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23131584A JPS61110331A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61110331A true JPS61110331A (ja) | 1986-05-28 |
Family
ID=16921703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23131584A Pending JPS61110331A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61110331A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552204A (en) * | 1995-01-13 | 1996-09-03 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk with boron carbide overcoat layer |
-
1984
- 1984-11-05 JP JP23131584A patent/JPS61110331A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552204A (en) * | 1995-01-13 | 1996-09-03 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk with boron carbide overcoat layer |
| US5750231A (en) * | 1995-01-13 | 1998-05-12 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk with boron carbide overcoat layer |
| US5897931A (en) * | 1995-01-13 | 1999-04-27 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk with boron carbide overcoat layer |
| US6010601A (en) * | 1995-01-13 | 2000-01-04 | International Business Machines Corporation | Method of making magnetic disk with boron carbide overcoat layer and adhesion layer |
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