JPS62283413A - 磁気記録媒体用保護膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体の改良に係り、特に耐ヘツド摺動
性の改良された磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

高密度磁気記録を実現するために、連続磁性膜を記録媒
体に用いる研究開発が進められている。

高分子フィルム、アルミニウム、ガラスなどの非磁性材
料の基板上に、Ｆｅ、Ｇｏ、Ｎｊ等の強磁性金属を主成
分とする合金や化合物の薄膜を真空蒸着法、スパッタリ
ング法、メッキ法等で形成することにより、磁気記録媒
体が製造されろ。しかし、磁性膜表面に記録再生用のヘ
ッドを直接接触させると、磁性膜表面が摩耗したり、ヘ
ッドも損傷し易いという問題がある。

このような問題を解決する手段として、磁性膜表面にＳ
ｉＯｘ　、　Ａ　ＱｚＯｓ、　Ｃｒｚｏｓ、　Ｓ　ｉ　
Ｃ。

Ｔ　’ｒ　Ｃなどの硬質材料から成る保護層を形成した
り（特開昭５０−１０４６０２．特開昭５８−１３０４
３７）　、あるいはＡｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ（１等
の金属膜を保護層として形成する方法（特開昭５３−４
０５０５　。

特開昭５７−１７６５３７）などが提案されている。

しかし、本発明者らの実験によると金Ｊに系の保護膜の
場合は耐摩耗性が十分とは言い難く、また化合物系の硬
質材料の場合は衝撃力に弱く、さらにヘッドを損傷し易
いといった問題点があることがわかった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

保護膜に必要な条件は、磁性膜を保護するとともにヘッ
ドも撰傷し薙いことである。前記従来技術は、両目的を
達成するための十分な配慮がされておらず、磁性膜の保
護作用が不十分であったり。

ヘッドを傷つけ易いといった問題点が残っていた。

本発明は、磁性膜に十分な保護作用を与えると同時にヘ
ッドを傷つけ難い保護膜を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

磁性膜は一般にＦｅ、Ｇｏ、Ｎｉなどを主成分とする合
金や化合物から成る。その上に形成される保護膜は、磁
性膜に対する親和性を増して付着強度を上げると同時に
磁性膜に歪を与えないことが必要である。このためには
、Ｈｉ磁性膜構成する元素と同程度のもしくは比較的大
きい原子サイズを持つ元素を主成分とする保護膜がこの
条件を満たすことになる。一方、保護膜は磁性膜に耐蝕
性を与えること、耐摩耗性を与えること、あるいは磁気
ヘッドに対して滑性を与えるためには、保護膜は緻密で
高強度を持つことが必要となる。保護膜の緻密性と高強
度性はヘッドもしくは外気に触れる保護膜表面部で特に
要求される。この様な性質は、原子サイズの小さい元素
、もしくはその化合物、混合物で実現可能で、例えば、
Ｃ，Ｒ，Ｎ。

○、Ｓｘなどが相当する０本発明は保！［の膜厚方向で
元素の分布状態を、前記観点で変えることにより、磁性
膜に保護作用を与えると同時に対ヘツド滑性を満足させ
るものである。

〔作用〕

例えば、Ａ、８２種の元素から成る保護膜を磁性膜上に
設ける場合、磁性膜に接する側ではＢに比べて相対的に
原子サイズの大きいＡの濃度を高くし、磁性膜から離れ
るにつれてＡの濃度を下げてＢの濃度を増すことによっ
て前記目的を達成できる。：３元素以上から成る保護膜
の場合、保護膜の単位体積あたりの原子密度を磁性膜に
接する部分から表面に向って連続的に増大させることに
よって前記目的を達成できる。保護膜の形フルとじては
、膜組成を膜厚方向で連続的に変え易い非晶質が望まし
いが、非晶質に結晶質が混っていても良い。保護膜厚と
しては５０〜２０００人、望ましくは１００〜３００人
である。また、膜の両面近傍で比較したとき原子密度が
少なくとも５％以上変化していることが望ましい。

〔実施例〕

実施例１ 基板としてポリイミドフィルムを用いて、連続スパッタ
法によって第１図に示す磁気記録媒体を作製した。】Ｏ
−’Ｔｏｒｒ以下にスパッタ装置ペルジャーを真空排気
した後、１０−３τＱｒｒのＡｒを導入し、フィルム基
板温度１２０℃でパーマロイを０．５ｐｍ　、Ｓｉを０
．０２μｍ　、Ｃｏ−２０ｗｔＣｒを０．２μｍ　スパ
ッタ蒸着した。試料移動機構により、保護膜形成室に移
し、ＳｉをＣの２つのターゲットの同時スパッタ法によ
り５ｉｘＣ＋−８保護膜を２００人形成した。ここでＳ
ｉとＣの原子サイズはＣの方が小さい。２つのターゲッ
トに加えるスパッタ出力を制御して膜厚方向でＸの値を
変化させた。試料として保護膜の組成Ｘを形成初期（Ｘ
、）から形成終期（ｘ２）にむかって変化させた。Ｘの
変化量Δｘ＝ｘｚ　−ｘｔ　を変えた５種類の試料を作
製した。これらの試料は保護膜以外の磁性膜形成条件等
は同一とした。

上記試料から円板状のディスクを切り抜き、いずれも同
一の液体潤滑剤を１５０人厚塗布した後。

ディスク駆動装置にとりつけ、Ｍ　ｎ　−７：　ｒｌフ
ェライトとＣｏ　Ｎ　ｂ　７．ｎ合金膜を磁性材料に用
いたヘッドで摺動試験を行った。ヘッドの荷重は１５ｇ
、試料のヘッドに対する相対速度２ｍ／ｓで、記録再生
出力が初期の７０％に低下するまでの回１転数をｆｉｌ
ｌｌ定した。第２図にＳ　１　ｘ　Ｃ：　ｊ−ｘの膜厚
方向でのＸの値の変化の大きさくΔＸ）と１回転数の関
係を示す。膜厚方向でＣ濃度が増大している試料の方が
耐摺動性が優れていることを示している。

実施例２ 実施例１と同様な磁気記録媒体で、保護膜材料としてＴ
　ｉ　ｘ　ＣＬ−ｘを用いた以外は同様の試料を作製し
た。膜厚方向で原子サイズの小さいＣの濃度が増大する
程耐摺動性が向上する傾向を確認した。

実施例３ 基板として表面にアルミナ膜を形成したアルミニウム合
金円板を用いた。実施例１に述べたのと同様の方法で、
Ｃｒを０．３μｍ　、Ｇｏ−Ｎｉ合金を０．１　ｐｍ　
を形成した後、ＡＱｚＯａとＢａ　Ｃの２つのターゲッ
トを用いた同時スパッタ法により２００人厚０保護膜を
形成した。膜厚が増加するにつれてＢ４Ｃターゲットに
加えるパワーを変えることによって、保護膜の組成を変
えた。保護膜構成元素の原子サイズの順はＡ　Ｉｌｌ　
＞Ｏ＞Ｃ＞）１である。保護膜の組成をｘＡＱｚＯ＋＋
　（１−Ｘ）８４Ｃで表わしたときの膜形成初期のＸの
値をｘｔ、膜形成終期の値をｘ２で表わし、Δｘ　＝　
ｙｃ　ｚＸＩ　と摺動強度の関係を測定した結果を第３
図に示す。なお、摺動強度は実施例［と同様である。

保護膜の組成はオージェ電子分光法とイオンマイクロア
ナライザー法を併用することによって決定した６図に示
す通り、保護膜厚の増大につれてＢ。

Ｃの占める割合が大きくなる程、即ち、原子サイズの小
さい元素に富んでくる程、耐摺動強度が増大することが
確認された。

〔発明の効果〕

上述したように、本発明によれば耐摺動性に優れた磁気
記録媒体用保護膜が得られろ、これは。

（１）磁性膜に接する側の保護膜の構成元素を磁性膜の
元素に近い比較的原子サイズの大きい元素とすることに
より、原子サイズのミスマツチ等によって生ずる歪、応
力を下げて良好な接着界面を形成できたこと、および（
２）ヘッドに接触する保護膜表面付近の構成元素を原子
サイズの小さい元素を主とすることにより１表面付近が
緻密で平滑化されて、ヘッドに対する滑性が増大したも
のと解釈できる。磁気記録媒体用の保護膜厚は記録再生
出力のスペーシング損失との関係から２０００Å以下に
規定され、望ましくは３００Å以下である。

この膜厚の範囲で保護膜表面に向って原子サイズの小さ
い元素のａ度分布を増大させることで、上述の効果が得
られる。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明による磁気記録媒体用保護膜の一実施例
を示す断面図、第２図、第３図は保護膜の組成変化と耐
摺動強度の関係を示す図である。 １・・・基板、２・・・パーマロイ膜、３・・・Ｓｉ膜
、４・・・磁性膜、５・・・保護膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に形成された磁性膜上に設けられた２
   種類以上の元素から成る保護膜において、膜厚方向で元
   素分布濃度が異なることを特徴とする磁気記録媒体用保
   護膜。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体用保護膜
   において、保護膜を構成する元素のうち原子半径の小さ
   い元素の濃度分布が原子半径の大きい元素の分布に比べ
   て膜の表面方向へ向つて増加していることを特徴とする
   磁気記録媒体用保護膜。