JPS61107511A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61107511A JPS61107511A JP22951184A JP22951184A JPS61107511A JP S61107511 A JPS61107511 A JP S61107511A JP 22951184 A JP22951184 A JP 22951184A JP 22951184 A JP22951184 A JP 22951184A JP S61107511 A JPS61107511 A JP S61107511A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- curvature
- radius
- magnetic
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B17/00—Guiding record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor
- G11B17/32—Maintaining desired spacing between record carrier and head, e.g. by fluid-dynamic spacing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はフレキシブル磁気ディスク装置用磁気ヘッドに
関する。
関する。
（従来技術とその問題点）
近年、７レキシプル磁気デイスク装置においては高記録
密度化、高信頼性化が進められている。
密度化、高信頼性化が進められている。
従来は磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散させたも
のを基体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒
体を用い、その円周方向に記録を行う長手記録方式が用
いられている。これに対し、ＣｏＣｒ合金の蒸着膜もし
くはスパッタ膜を磁気記録媒体として用い、その厚さ方
向に残留磁化を形成して信号の記録を行う垂直磁気記録
方式を用いると高い記録密度を得られることが確認され
アイ・イー・イー・イー）ランザクジョン オンマグネ
ティクス（Ｉ Ｂ Ｅ Ｅ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ
ｏｎＭａｇｎｅｔｌｃｓ ＭＡＧ −１３ｚ ｐ
１２７２ ｐ １９７７年）実用化へ向けて研究されて
いる。
のを基体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒
体を用い、その円周方向に記録を行う長手記録方式が用
いられている。これに対し、ＣｏＣｒ合金の蒸着膜もし
くはスパッタ膜を磁気記録媒体として用い、その厚さ方
向に残留磁化を形成して信号の記録を行う垂直磁気記録
方式を用いると高い記録密度を得られることが確認され
アイ・イー・イー・イー）ランザクジョン オンマグネ
ティクス（Ｉ Ｂ Ｅ Ｅ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ
ｏｎＭａｇｎｅｔｌｃｓ ＭＡＧ −１３ｚ ｐ
１２７２ ｐ １９７７年）実用化へ向けて研究されて
いる。
Ｃｏ−Ｃｒ合金に代表される磁気記録用金属薄膜媒体を
フレキシブル磁気ディスクとして実用化するためには機
械的耐久性が問題となる。一般に７レキシプル磁気デイ
スク装置では信号の記録再生時には磁気記録媒体と磁気
ヘッドは境界摩擦状態にあるため摺動に対する機械的耐
久性が要求される。従来の塗布型磁気記録媒体において
はバインダ中に潤滑剤を混入または含浸させることによ
シ磁性層自身に潤滑性を持たせることが可能であったの
で耐久性を実現することは比較的容易であった。しかし
金属薄膜媒体の場合にはこのような手段が使えないため
、金属膜上に保護膜や潤滑層を形成したり、ヘッドスラ
イダの材質、形状等を最適化して耐久性を持たせること
が試みられている。
フレキシブル磁気ディスクとして実用化するためには機
械的耐久性が問題となる。一般に７レキシプル磁気デイ
スク装置では信号の記録再生時には磁気記録媒体と磁気
ヘッドは境界摩擦状態にあるため摺動に対する機械的耐
久性が要求される。従来の塗布型磁気記録媒体において
はバインダ中に潤滑剤を混入または含浸させることによ
シ磁性層自身に潤滑性を持たせることが可能であったの
で耐久性を実現することは比較的容易であった。しかし
金属薄膜媒体の場合にはこのような手段が使えないため
、金属膜上に保護膜や潤滑層を形成したり、ヘッドスラ
イダの材質、形状等を最適化して耐久性を持たせること
が試みられている。
ヘッドスライダの形状は、磁気ヘッドを媒体の片側にし
か設けず、媒体の片面に信号を記録する片面用のフレキ
シブル磁気ディスク装置においては通常球面のものが用
いられ、その曲率半径は５０鰭〜６０ｍ１１１である。
か設けず、媒体の片面に信号を記録する片面用のフレキ
シブル磁気ディスク装置においては通常球面のものが用
いられ、その曲率半径は５０鰭〜６０ｍ１１１である。
このような形状のへラドスライダでは媒体もしくはヘッ
ドスライダ自身に傷がつき易く、十分な耐久性が得られ
ない、といった問題点があった。
ドスライダ自身に傷がつき易く、十分な耐久性が得られ
ない、といった問題点があった。
（発明の目的）
本発明の目的は、ヘッドスライダの形状を最適化するこ
とによシ、媒体を傷つけにくり、高耐久性を実現する磁
気ヘッドを提供することにある。
とによシ、媒体を傷つけにくり、高耐久性を実現する磁
気ヘッドを提供することにある。
（発明の構成）
本発明の磁気ヘッドは磁気記録媒体と摺動する部分の曲
率半径が１０１１１以上４０１１１１以下であることを
特徴とする。
率半径が１０１１１以上４０１１１１以下であることを
特徴とする。
（構成の詳細な説明）
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図に本発明の磁気ヘッドを示す。１が磁気へラドで
あシ、７レキシプル磁気デイスク２と接触しておシ、反
対側からパッド３によって加圧されている。磁気ヘッド
１は電磁変換エレメント部４とスライダ部５よシ成シ、
媒体と接触・摺動する部分は球面に研磨され、その曲率
半径は１０１１１１〜４０１１１の範囲である。
あシ、７レキシプル磁気デイスク２と接触しておシ、反
対側からパッド３によって加圧されている。磁気ヘッド
１は電磁変換エレメント部４とスライダ部５よシ成シ、
媒体と接触・摺動する部分は球面に研磨され、その曲率
半径は１０１１１１〜４０１１１の範囲である。
本発明に係る電磁変換エレメントとしてはフェライト、
パーマロイ、センダスト等の軟磁性体をコア材料として
用いたリング屋磁気ヘッド、コア・巻き線・ヘッド空隙
等を薄膜プロセスを用いて形成した薄膜磁気ヘッド、磁
気抵抗効果を利用して信号の再生を行う磁気抵抗効果ヘ
ッド等がある。
パーマロイ、センダスト等の軟磁性体をコア材料として
用いたリング屋磁気ヘッド、コア・巻き線・ヘッド空隙
等を薄膜プロセスを用いて形成した薄膜磁気ヘッド、磁
気抵抗効果を利用して信号の再生を行う磁気抵抗効果ヘ
ッド等がある。
スライダ部の材料としてはチタン酸バリウム、チタン酸
カルシウム、アルミナ、シリコンカーパ 、
、イト、チタンカーバイト等のセラミックス、セラミッ
クガラス、ガラス等の材料がある。
カルシウム、アルミナ、シリコンカーパ 、
、イト、チタンカーバイト等のセラミックス、セラミッ
クガラス、ガラス等の材料がある。
電磁変換エレメント部はスライダ部と接着剤、あるいは
ガラスボンディング等によって接着され、磁気ヘッドと
なる。磁気ヘッドの媒体と接触・摺動する部分は球面に
研磨される。
ガラスボンディング等によって接着され、磁気ヘッドと
なる。磁気ヘッドの媒体と接触・摺動する部分は球面に
研磨される。
次に磁気ヘッドの媒体と接触・摺動する部分の曲率半径
を１０ｆｉ以上４０ｍ以下の範囲に限定した理由を説明
する。
を１０ｆｉ以上４０ｍ以下の範囲に限定した理由を説明
する。
第２図は透明ガラススライダを用いて耐久性と媒体接触
径を測定した結果である。透明ガラスを磁気ヘッドと同
じ形状に加工し、第２図の横軸に示した範囲で摺動部の
曲率半径を変化させた。この透明スライダをＣｏＣｒ金
属薄膜スライダと摺動させ、透明スライダ側から顕微鏡
で観察し、耐久性として媒体に傷を生じるまでの摺動回
数、媒体接触径として媒体と接触している部分の直径を
測定した。耐久性は実線で、媒体接触径は破線で示しで
ある。
径を測定した結果である。透明ガラスを磁気ヘッドと同
じ形状に加工し、第２図の横軸に示した範囲で摺動部の
曲率半径を変化させた。この透明スライダをＣｏＣｒ金
属薄膜スライダと摺動させ、透明スライダ側から顕微鏡
で観察し、耐久性として媒体に傷を生じるまでの摺動回
数、媒体接触径として媒体と接触している部分の直径を
測定した。耐久性は実線で、媒体接触径は破線で示しで
ある。
第２図よ）耐久性に関しては曲率半径４Ｑｍ以下が望ま
しいことがわかる。
しいことがわかる。
しかしながら媒体接触径は曲率半径の減少と供に直線的
に小さくなっておシ、有限のトラック幅で媒体と安定に
接触して信号の記録再生を行うためには曲率半径の最小
値があることがわかる。現在のフレキシブル磁気ディス
ク装置ではトラック幅は１６０μｍ前後であるため、曲
率半径の最小値は１０１１１１位である。
に小さくなっておシ、有限のトラック幅で媒体と安定に
接触して信号の記録再生を行うためには曲率半径の最小
値があることがわかる。現在のフレキシブル磁気ディス
ク装置ではトラック幅は１６０μｍ前後であるため、曲
率半径の最小値は１０１１１１位である。
以上の検討によシ、磁気ヘッドの媒体と摺動する部分の
曲率半径は１０Ｉ１１１Ｉ以上４０８以下が最適である
ことがわかる。
曲率半径は１０Ｉ１１１Ｉ以上４０８以下が最適である
ことがわかる。
次に実施例によυ本発明の詳細な説明する。
（実施例１）
第３図（ａ） ｊ （ｂ）は本発明をリングヘッドを用
いた磁気ヘッドに適用した例である。（、）は磁気ヘッ
ドを媒体走行面から見た図であり、９が信号記録再生用
コアであシ材質はＭｎ−Ｚｎフェライトである。
いた磁気ヘッドに適用した例である。（、）は磁気ヘッ
ドを媒体走行面から見た図であり、９が信号記録再生用
コアであシ材質はＭｎ−Ｚｎフェライトである。
１０はトンネル消去用のコアであり、材質はＭｎ−Ｚｎ
７エライトである。６．７の部分にそれぞれ信号記録再
生用、トンネル消去用のギャップが設けである。８の斜
線を施した部分はスライダ部で材質ハチタン酸バリウム
である。（ｂ）は磁気ヘッドの断面図である。１１の部
分に記録再生用のギヤッブがあり、１２がコア部、１３
がスライダ部である。１４は信号の記録再生用のコイル
である。コア部とスライダ部をエポキシ系接着剤で接着
した後、媒体走行面をアルミナ砧粒で研磨し、曲率半径
３０鱈の球面に加工し磁気ヘッドとした。
７エライトである。６．７の部分にそれぞれ信号記録再
生用、トンネル消去用のギャップが設けである。８の斜
線を施した部分はスライダ部で材質ハチタン酸バリウム
である。（ｂ）は磁気ヘッドの断面図である。１１の部
分に記録再生用のギヤッブがあり、１２がコア部、１３
がスライダ部である。１４は信号の記録再生用のコイル
である。コア部とスライダ部をエポキシ系接着剤で接着
した後、媒体走行面をアルミナ砧粒で研磨し、曲率半径
３０鱈の球面に加工し磁気ヘッドとした。
（比較例１）
実施例１と同じ材質、同じ構造を持ち、媒体走行面の曲
率半径を５０Ｍに加工したものを比較例１とした。
率半径を５０Ｍに加工したものを比較例１とした。
実施例１及び比較例１の２種のヘッドを５０μｍ厚のポ
リエステルフィルム上にスパッタリングによシ厚さ３０
００ ＸのＣｏＣｒ合金薄膜を形成した垂直磁気記録用
フレキシブルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久
性の評価を行った。実施例１と比較例２では信号の記録
再生能力は同等であったが、媒体に傷を生じるまでの摺
動回数は実施例１１ のヘッドが１００万回に
対して比較例１のヘッドは１０万回と大きな差が見られ
た。
リエステルフィルム上にスパッタリングによシ厚さ３０
００ ＸのＣｏＣｒ合金薄膜を形成した垂直磁気記録用
フレキシブルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久
性の評価を行った。実施例１と比較例２では信号の記録
再生能力は同等であったが、媒体に傷を生じるまでの摺
動回数は実施例１１ のヘッドが１００万回に
対して比較例１のヘッドは１０万回と大きな差が見られ
た。
（実施例２）
第４図（ａ） ｇ（ｂ）は本発明を主磁極励磁型磁気ヘ
ッドに適用した例である。（、）は磁気ヘッドを媒体走
行面から見た図であ）、１５が主磁極膜、１６が非磁性
基板である。１７の斜線を施しである部分はスライダ部
である。（ｂ）はその断面図で１８は主磁極膜、１９が
非磁性基板、２０はフェライトである。２１のスライダ
材で媒体走行面を形成し、２２のコイルで信号の記録再
生を行う。主磁極膜としては高透磁率を示すＣｏ−Ｚｒ
−Ｎｂスパッタ膜を用い、フェライト材としてはＭｎ−
Ｚｎフェライトを用いた。スライダ材と非磁性基板とし
てはＡｔ、ｏ、 −Ｔｉｃ焼結体を用いた。各部分をエ
ポキシ系の接着剤で接着して組み立てた後、媒体走行面
をダイヤそンド砧粒で研磨し、曲率半径２０１１ｍの球
面に加工した。
ッドに適用した例である。（、）は磁気ヘッドを媒体走
行面から見た図であ）、１５が主磁極膜、１６が非磁性
基板である。１７の斜線を施しである部分はスライダ部
である。（ｂ）はその断面図で１８は主磁極膜、１９が
非磁性基板、２０はフェライトである。２１のスライダ
材で媒体走行面を形成し、２２のコイルで信号の記録再
生を行う。主磁極膜としては高透磁率を示すＣｏ−Ｚｒ
−Ｎｂスパッタ膜を用い、フェライト材としてはＭｎ−
Ｚｎフェライトを用いた。スライダ材と非磁性基板とし
てはＡｔ、ｏ、 −Ｔｉｃ焼結体を用いた。各部分をエ
ポキシ系の接着剤で接着して組み立てた後、媒体走行面
をダイヤそンド砧粒で研磨し、曲率半径２０１１ｍの球
面に加工した。
（比較例２）
実施例２と同じ材質、同じ構造を持ち、媒体走行面の曲
率半径を５０ｍに加工したものを比較例
、８：２とした。
率半径を５０ｍに加工したものを比較例
、８：２とした。
実施例２及び比較例２のヘッドを５０μｍ厚のポリニス
テルトにスパッタリングによシ厚さｓｏｏ。
テルトにスパッタリングによシ厚さｓｏｏ。
λのＮｉＦｅ合金膜を形成し、さらにその上に３０００
１のＣｏＣｒ合金膜を形成した垂直磁気記録用フレキシ
ブルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久性の評価
を行った。実施例２と比較例２では信号の記録再生能力
は同等であったが、媒体に傷を生じるまでの摺動回数は
実施例２が１６０万回に対して比較例２は３０万回と大
きな差があった。
１のＣｏＣｒ合金膜を形成した垂直磁気記録用フレキシ
ブルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久性の評価
を行った。実施例２と比較例２では信号の記録再生能力
は同等であったが、媒体に傷を生じるまでの摺動回数は
実施例２が１６０万回に対して比較例２は３０万回と大
きな差があった。
（実施例３）
第５図は本発明を薄膜ヘッドに適用した例である。２３
は高透磁率薄膜層であり２４はコイル、２５はギャップ
形成層である。２６は非磁性基板であり、２７は非磁性
保護膜層、２８はスライダである。コアとなる高透磁率
層としてはスパッタリングで形成したパーマロイ膜を用
い、コイル部はメッキ法による銅を用いた。ギャップ形
成層には７オ°トレジストを用いた。非磁性基板とスラ
イダには人１２０３ Ｔ ｉ Ｃ焼結体を用いた。ま
た非磁性保護膜層はＡＩ、Ｏ，をスパッタリングで形成
した基板上にコア部、巻き線部、ヘッドギツプ部を形成
した後保護膜層を形成し、平坦に研磨した後裔エレメン
トに切シ出し、スライダ部をエポキシ系接着剤で接着し
て磁気ヘッドとした。さらに媒体走行面をダイヤモンド
砧粒で研磨し、曲率半径４０諷の球面とした。
は高透磁率薄膜層であり２４はコイル、２５はギャップ
形成層である。２６は非磁性基板であり、２７は非磁性
保護膜層、２８はスライダである。コアとなる高透磁率
層としてはスパッタリングで形成したパーマロイ膜を用
い、コイル部はメッキ法による銅を用いた。ギャップ形
成層には７オ°トレジストを用いた。非磁性基板とスラ
イダには人１２０３ Ｔ ｉ Ｃ焼結体を用いた。ま
た非磁性保護膜層はＡＩ、Ｏ，をスパッタリングで形成
した基板上にコア部、巻き線部、ヘッドギツプ部を形成
した後保護膜層を形成し、平坦に研磨した後裔エレメン
トに切シ出し、スライダ部をエポキシ系接着剤で接着し
て磁気ヘッドとした。さらに媒体走行面をダイヤモンド
砧粒で研磨し、曲率半径４０諷の球面とした。
（比較例３）
実施例３と同じ材質、同じ構造を持ち、媒体走行面の曲
率半径を５Ｑ＋ｗに加工したものを比較例３とした。
率半径を５Ｑ＋ｗに加工したものを比較例３とした。
実施例３及び比較例３のヘッドを３０μｍ厚のポリイミ
ドフィルム上にスパッタリングによシ厚さ５０００Ｘの
Ｎｌｃｅ合金膜を形成し、さらにその上に２０００Ｘ厚
のＣｏＣｒ合金膜を形成した垂直磁気記録用フレキシブ
ルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久性の評価を
行った。実施例３と比較例３ヤは信号の記録再生能力は
同等であったが、媒体に傷を生じるまでの時間は実施例
３が１５０万回に対して比較例３は２０万回と大きな差
が見られた。
ドフィルム上にスパッタリングによシ厚さ５０００Ｘの
Ｎｌｃｅ合金膜を形成し、さらにその上に２０００Ｘ厚
のＣｏＣｒ合金膜を形成した垂直磁気記録用フレキシブ
ルディスクと摺動し、信号の記録再生、耐久性の評価を
行った。実施例３と比較例３ヤは信号の記録再生能力は
同等であったが、媒体に傷を生じるまでの時間は実施例
３が１５０万回に対して比較例３は２０万回と大きな差
が見られた。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明の媒体と摺動する部分の曲
率半径を１０８以上４０１１１以下とすることを特徴と
する磁気ヘッドは媒体を傷つけにくく高い耐久性が得ら
れることが確認された。
率半径を１０８以上４０１１１以下とすることを特徴と
する磁気ヘッドは媒体を傷つけにくく高い耐久性が得ら
れることが確認された。
第１図は磁気へ、ドの概略図である。第２図は曲率半径
による媒体の耐久性と媒体接触径の変化を示したグラフ
である。第３図（ａ） ｔ（ｂ）、第４図（、） 。 （ｂ）、第５図は本発明の実施例の磁気ヘッドを示す概
略図である。 １・・・磁気ヘッド、２・・・媒体、３・・・パッド、
４・・・電磁変換エレメント部、５・−・スライダ部、
６．１１・・・記録再生用ギャップ、７・・・トンネル
消去用ギャップ、８．１３・・・スライダ部、９）１２
・・・記録再生用コア、ｌＯ・・・トンネル消去用コア
、１４・・・コイル、１５．１８・・・主磁極膜、１６
．１９・・・非磁性基板、１７．２１・・・スライダ部
、２０・・・フェライト、２２・・・コイル、２３・・
・高透磁率薄膜、２４・・・コイル、２５・・・ギャッ
プ形成層、２７・・・保護膜、九 面寸久小生 （Ｘ ＩＯ’１ＥＪ） 媒４本撞ＰＩ虫オ蚕（π辺） 声３図 （ｂ、） 簡４図 Ｉ＾ （α） Ｃｂ） 第５図 ２Ａ ２７ ２６
による媒体の耐久性と媒体接触径の変化を示したグラフ
である。第３図（ａ） ｔ（ｂ）、第４図（、） 。 （ｂ）、第５図は本発明の実施例の磁気ヘッドを示す概
略図である。 １・・・磁気ヘッド、２・・・媒体、３・・・パッド、
４・・・電磁変換エレメント部、５・−・スライダ部、
６．１１・・・記録再生用ギャップ、７・・・トンネル
消去用ギャップ、８．１３・・・スライダ部、９）１２
・・・記録再生用コア、ｌＯ・・・トンネル消去用コア
、１４・・・コイル、１５．１８・・・主磁極膜、１６
．１９・・・非磁性基板、１７．２１・・・スライダ部
、２０・・・フェライト、２２・・・コイル、２３・・
・高透磁率薄膜、２４・・・コイル、２５・・・ギャッ
プ形成層、２７・・・保護膜、九 面寸久小生 （Ｘ ＩＯ’１ＥＪ） 媒４本撞ＰＩ虫オ蚕（π辺） 声３図 （ｂ、） 簡４図 Ｉ＾ （α） Ｃｂ） 第５図 ２Ａ ２７ ２６
Claims (1)
- 電磁変換エレメントを含み、回転する可撓性の磁気記録
媒体と摺動して信号の記録再生を行う磁気ヘッドにおい
て、該磁気記録媒体と摺動する部分の曲率半径が１０ｍ
ｍ以上４０ｍｍ以下であることを特徴とする磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22951184A JPS61107511A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22951184A JPS61107511A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107511A true JPS61107511A (ja) | 1986-05-26 |
Family
ID=16893318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22951184A Pending JPS61107511A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107511A (ja) |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP22951184A patent/JPS61107511A/ja active Pending
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