JPS61101097A - セラミツク多層基板の製造方法 - Google Patents

セラミツク多層基板の製造方法

Info

Publication number
JPS61101097A
JPS61101097A JP22354684A JP22354684A JPS61101097A JP S61101097 A JPS61101097 A JP S61101097A JP 22354684 A JP22354684 A JP 22354684A JP 22354684 A JP22354684 A JP 22354684A JP S61101097 A JPS61101097 A JP S61101097A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
ceramic
metallized
green sheet
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22354684A
Other languages
English (en)
Inventor
栄田 正孝
徹 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP22354684A priority Critical patent/JPS61101097A/ja
Publication of JPS61101097A publication Critical patent/JPS61101097A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、セラミック多層醋線基板の製造方法に関する
ものである。
従来例の構成とその問題点 近年、IC,LSI用パッケージ、あるいけ、電子回路
基板でも、信頼性を重要視される場合には、セラミック
パッケージや、セラミック基板が用いられている。セラ
ミック多層配線基板には、セラミックパッケージや通常
の両面実装のセラミック基板、片面多層のセラミック基
板も含寸れる。
ところで、セラミック多層配線基板は、表穴、あるいは
各層の電気的導通性を保つために、スルーホールを設け
、その穴の中にメタライズ層を設けて、電気的導通性を
実現している。
従来、スルーホールにメタライズ層を設けるにには、真
空でタンダステン粉末ペースト等のメタライズインクを
スルーホール内に吸い込むことで行なわれていた。しか
し、このような方法では、スルーホールを完全に充填す
ることは困錐であった。特に、焼成後、スルホール部分
の表面の凹凸が顕著に現れて、メッキ処理とか、導体層
の形成、印刷抵抗体の形成に支障を生じていた。
また、特公昭56−’2434号公報に示されるように
、従来例としてはセラミックグリーンシートの1−1に
、メタライズシートを押し当てて、セラミックグリーン
シート中にメタライズシートを押し込むと同時に、スル
ーホールを導体で充填する方法があった。
以下、図面を参照しながら、従来のセラミック多層配線
基板の製造方法について説明する。第1図は、従来のセ
ラミック多層基板の製造において第1段階の工程にであ
るセラミックグリーンシートにメタライズシートを押し
込んだ構成の断面図である。第1図において1は、セラ
ミックグリーンシート、2は押し込まれたメタライズシ
ートである。押し込まれたメタライズシート2の形状は
、円柱形ではなく、円椎台形で、月つ、表面の均一性が
満たされないという欠点を有している。
さらに、押し込まれたメタライズシート2が、円椎台形
であるととは、電流量が、円椎台の形状において最小の
直径方向断面積で制約されるために、LSIやICの電
源用スルーホールにおいては、所望する押し込まれるメ
タライズシート2の直径を得るために、金型ポンチの大
きさを約1.5〜2倍にせねばならない。
このように、スルーホールが、円椎台形になる理由は、
力学上剛体とみなされるポンチが直接、セラミックグリ
ーンシート1にスルーホールヲ開けるのではなく、ポン
チと比較すれば、はるかに柔かいメタライズシート2が
、ポンチにより押し込まれた深さだけ、セラミンクグリ
ーンシートを押し出すかたちで、スルーホールを形成す
るからである。つまり、粘弾性体中における力の分散効
果で、押し込まれたメタライズシート2は、先端の方が
細い円椎台状になるのである。また、メタライズシート
2は、セラミックグリーンシート1よりも厚くなくては
ならない。これは、セラミックグリーンシート1も、ま
たメタライズシート2もシー゛ト全体にわたって完全に
均質な強度を持っているわけではないから、特に、シー
トの厚さが0.8瓢以上になると、すべてのスルーホー
ルで、完全にセラミックグリーンシート1が押し出され
てしまうとは必ずしも限らないため、すこし余分にメタ
ライズシート2を押し込まねばならない。
第2図に、従来の方法によるポンチでメタライズシート
をセラミックグリーンシート中において押し込んだ場合
の断面図を示す。
第2図において、1はセラミックグリーンシート、2は
メタライズシート、3はポンチである。
また、たとえ、この方法では、押し込まれて反対側へ出
て来たメタライズシート2の先端も、均一の高さではな
く、表面の凹凸が激しい。メタライズシート2の先端と
セラミックグリーンシート10面が均一でないというこ
とでは々<、スべてのスルーホールにわたって電気的導
通を持たせるには、余分にメタライズシート2を押し出
さねばならないが、押し出したメタライズシート2の先
端の高さの差が大きいということであり、全体的に、セ
ラミックグリーンシート1と表面を合せようとすると、
反対側へ出てきていないメタライズシート2もあり、電
気的導通性を有し女いスルーホールも発生することが問
題なのである。そのために、余分にメタライズシート2
を押し出す必要性がちり、余分にメタライズシート2が
出た部分の上に、セラミックペーストを印刷し、焼成後
、その部分に印刷抵抗体を形成した場合、表面に±10
μm以上の変移が発生する。この±10μm以上の変移
は、決定的な抵抗値の変化となって■9れ、レーザート
リミングでも、修正することができ々いのである。
ましてや、メタライズペーストをスルーホールに吸引す
る方法では、抵抗値は、1桁以上変化してしまう。
従来の方法では、以上のような諸問題点を有していた。
発明の目的 本発明の目的は、」1記欠点に鑑みスルーホールが円椎
台状にならないために、余分に大きなスルーホールを形
成しなくてよく、表面平滑性にすぐれ、印刷抵抗体も十
分に形成出来るセラミック多層配線基板の製造方法を提
供することである。
発明の構成 本発明のセラミック多層配線基板の製造方法は、セラミ
ックグリーンシートにスルーホールを設ケた後に、導体
粉末グリーンシートをそのスルーホールに押し込むこと
を特徴とするように構成したものであり、これにより、
表面平滑性にすぐれ、印刷抵抗が形成でき、電流供給の
ために余分に大きなスルーホールを形成しなくてもよい
セラミック多層配線基板が提供できる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
[利する。
第3図、第4図は、本発明の一実施例に係るセラミック
多層配線基板の製造方法を示す断面図であり、第3図は
セラミックグリーンシートにスルーホールを開けたとこ
ろである。第3図において、1はセラミックグリーンシ
ートであり、3はポンチである。このようにして、スル
ーホールを形成したセラミックグリーンシート1の上に
、メタライズシートを装置し、それを、ポンチ3で押し
込んだ図が第4図である。第4図において、1はセラミ
ックグリーンシート、2はメタライズシート、3はポン
チである。このようにして、スルーホールが形成された
セラミックグリーンシートの−1−に、導体ペーストを
印刷し、その上にセラミックペーストを印刷するか、も
しくはセラミックシートを圧着し、これを1回ないしは
繰り返し行うことにより、セラミック多層配線基板が構
成される。
以−ヒのように、本実施例によれば、スルーホールを形
成した後に、メタライズシートを押し込むことにより、
スルーホールが円椎台状にならないし、表面が均一にな
ることを実現している。
次に、本発明の能の実施例について図面を参照しながら
説明する。
第5図は、本発明の龍の実施例に係るセラミック多層配
線基板の製造方法の中で、メタライズシートが、スルー
ホールと同じ径、同じ位置になるように孔を形成した金
属板中に押し込まれているところの斜視図である。第6
図において、4は金属板、2はメタライズシートである
以上のように構成された金属板を用いた本実施例のセラ
ミック多層配線基板の製造方法について説明する。
この金、図板を、第1図に示されたスルーホールの形成
されたセラミックグリーンシートの」二に置き、スルー
ホールの位置合せを行った後に、上から、ポンチで押し
込んで、スルーホールをメタライズシートで充填し、そ
の−hに、導体や絶縁層を印刷や圧着で形成する方法で
ある。
以上のようにすれば、メタライズシートをセラミックグ
リーンシートからはく離させる行程を省くことができる
。メタライズシートを直接セラミックグリーンシートの
」二に置くと、押し込む時に圧力がかかるから、どうし
ても、セラミックグリーンシートとメタライズシートが
、わずかながら接着してしまうのである。
捷だ、別の一実施例についても、図面を参照しながら説
明する。
第6図は、本発明の能の実施例にかかるセラミック多層
配線基板の製造方法を説明するだめの断面図である。第
6図において、1はスルーホールの形成されたセラミッ
クグリーンシート、2はメ1゜ タライズシート、3はポンチ、6は支持用金型、5は補
助金型、7も同じく補助金型であり、8は充填されてい
ないスルーホールテアル。
以上のように構成された方法を説明すると、支持金型6
の」―にセラミックグリーンシート1を置き、メタライ
ズシート2がない状態で、ポンチ3が降りて来て、セラ
ミックグリーンシート1にスルーホール8を形成する。
次に、ポンチ3が1−1胃した時に、メタライズシート
2を補助金型6の1−に置き、補助金ffIJ、 7で
おさえた後で、深さを調整しながら、ポンチ3でメタラ
イズシート2をスルーホール8の中へ押し込む方法であ
る。
以」―のようにすれば、連続的にスルーホール8の充填
が可能となる。それはセラミックシート1をテープ状に
して、移動させてはILめ、そして、メタライズシート
2もNC制御の移動装置で位置の移動制御をすればよい
からである。
なお、スルーホールが、直接表面に出て良い場合は、印
刷あるいは圧着により多層化してから、スルーホールを
形成し、メタライズシ一トヲ押シ込む方法でもよい。さ
らに、片面にもしくは、両面に印刷、圧着し、多層化を
つつけてもよい。
なお、実施例では使用したセラミックシートは、90%
 、92%、96%アルミナグリーンシートと、Ca 
OM q OA I 203S 102系のガラス粉末
グリーンシートを用いた。
寸だ、メタライズシートとしては、タンダステン粉末、
モリブデン粉末、およびタンダステンに16%のアルミ
ナ粉末を混合したグリーンシート、ならびに、ニッケル
粉末、チタン粉末グリーンシートを用いた。使用できる
粉末のシートは、ポリビニルブチラール系、ポリアクリ
ル系、ポリビニル系、ポリウレタン系の有機バインダー
とジオクチルフタレート、ジブチルフタレート等の有機
系Ill’ IvJ 剤、、!: トルエン、イソプロ
ピルアルコール、エタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル
などの有機溶媒と共にボールミル内で混合後、ポリエス
テルフィルムの上に塗工して、乾燥すれば、シート状に
なるものであり、セラミック多層基板を構成できるもの
であればどんな粉末シートでも本発明には使用できる。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明は、セラミック
グリーンシートの−4−に、タンダステンペースト等の
導体ペーストを印刷するか、もしくはセラミックシート
を圧着する行程を1回ないしは繰り返し行うセラミック
多層配線基板の製造法におけるセラミックグリーンシー
トの表裏、あるいは各層の電気的導通性を保つだめのス
ルーホールの充填において、セラミックグリーンシート
にスルーホールを設けた後に、タンダステン等の導体粉
末グリーンシートをそのスルーホールに押し込むように
構成しているので、スルーホールをほぼ円椎状充填でき
るので、電流イ」(給等のためにスルーホールを大きく
する必要がなく、シかも、表面平滑性に優れたセラミッ
ク多層配線基板が得られるという効果がある。また、こ
れらの効果により従来、凹凸が激しく形成が不可能であ
−〕たスルーホール上のセラミック面にも印h111抵
抗が形成可能となり、回路の小型化に対しては大きな効
果がある。特にスルーホールが多い場合は、この効果は
かなり大きい。
さらに、タンダステンシート等のメタライズシートを金
属板上、あるいは、内部に保持することにより、セラミ
ックグリーンシートとメタライズシートをはりNtさせ
る工程が省略でき、製造コストを下げられるという効果
があり、さらに、均等な間隔で、スルーホールを形成し
たセラミックグリーンシートのスルーホールを充填する
場合、NC制御により、シートを移動させて、1枚のメ
タライズシートをすくなくとも2回以上利用できる。
このように本発明は、コスト低減の−Fからも有効であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図はそれぞれ従来のセラミ、り多層4線基
板の製造法を説明した断面図、第3図。 第4図は本発明の一実施例におけるセラミック多層配線
基板の製造方法を説明する断面図、第5図は同斜視図、
第6図は本発明の他の実施例におけるセラミック多層量
線基板の製造方法を説明する断面図である。 1・・・・・・セラミックグリーンシート、2・・・・
・・メタライズシート、3・・・・・・ポンチ、4・・
・・・・金型、5゜7・・・・・・補助金型、6・・・
・・・支持金型、8・・・・・・スルーホール。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第3
図 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミックグリーンシートにスルーホールを設け
    た後に、導体粉末グリーンシートをそのスルーホールに
    押し込むことを特徴とするセラミック多層基板の製造方
    法。
  2. (2)金属性ポンチによりタンダステン等の導体粉末グ
    リーンシートであるところのメタライズシートを押し込
    むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のセラミ
    ック多層基板の製造方法。
  3. (3)導体粉末グリーンシートが、スルーホールと同じ
    径、同じ位置になるように孔を形成した金属板の上記孔
    に保持された特許請求の範囲第1項記載のセラミック多
    層基板の製造方法。
JP22354684A 1984-10-24 1984-10-24 セラミツク多層基板の製造方法 Pending JPS61101097A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22354684A JPS61101097A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 セラミツク多層基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22354684A JPS61101097A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 セラミツク多層基板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61101097A true JPS61101097A (ja) 1986-05-19

Family

ID=16799848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22354684A Pending JPS61101097A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 セラミツク多層基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61101097A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103753125A (zh) * 2013-12-17 2014-04-30 中山名创力电子有限公司 一种由焊接不良材料制成的电子焊接件的制造工艺

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103753125A (zh) * 2013-12-17 2014-04-30 中山名创力电子有限公司 一种由焊接不良材料制成的电子焊接件的制造工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2794960B2 (ja) 焼結導体配線基板とその製造方法
US3549784A (en) Ceramic-metallic composite substrate
JPS62501181A (ja) 寸法の安定した内部接続板の製造方法
US6607780B1 (en) Process of forming a ceramic structure using a support sheet
US7186307B2 (en) Method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board
US6002951A (en) Multi-layer ceramic substrate having high TC superconductor circuitry
JPS61101097A (ja) セラミツク多層基板の製造方法
EP0132615B1 (en) Method of making a matrix print head
JP3294294B2 (ja) セラミックス基板及びそのメタライズ方法
JPH0766555A (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2737652B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP3252534B2 (ja) 基板への導電パターン形成方法
JP3186355B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法
JP3469072B2 (ja) スクリーン印刷によるパターン形成方法及び装置
JP3493358B2 (ja) セラミックス基板及びそのメタライズ方法
JPS61270896A (ja) セラミツク基板の製造方法
JPS59151496A (ja) セラミツク多層配線基板の製造方法
JPH0722752A (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2003110214A (ja) プリント配線基板構造及びその製造方法
JP2569716B2 (ja) 多層厚膜ic基板の製造法
JP2976088B2 (ja) 側面電極を有する表面実装用部品とその製造方法
JPS63156393A (ja) セラミツク多層回路基板の製造方法
JPS59141293A (ja) 多層配線基板
JPH0645762A (ja) 多層セラミック基板とその製造方法
JPS6134992A (ja) 厚膜回路形成法