JPS61101029A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は、塗布技術、特に半導体装置の製造においてウ
ェハにフォトレジストを塗布する工程に適用して効果の
ある技術に関する。

［背景技術］ 半導体装置の製造において？エバにフォトレジスト膜を
形成させ合方法としては次にようなものが考えられる。

すなわち、共通のレジスト受の上に設けられた二つのド
レインカップ内のスピナ上にそれぞれウェハを水平に保
持して回転させ、回転されるウェハの中央部にフォトレ
ジスト液を滴下させ、遠心力によってフォトレジスト液
をウェハの全面にわたって均一に分散させ、フォトレジ
スト膜を形成させるものである。

この場合、ウェハに滴下された余剰のフォトレジスト液
はドレインカップに連通されるレジスト受に集積されて
回収され、さらに、休止中の開放されたドレインカップ
の内壁面に付着したフォト″７ト液力）ら揮散され６有
機溶媒蒸気力“装置りを部に散逸されることを防止する
ため、レジスト、受側面のそれぞれのドレインカップ側
に排気管を接続し、レジスト部内の空間を介して各ドレ
インカップの排気が行われるようにされる。

一方、ウェハへのフォトレジスト塗布作業中にドレイン
カップ内の排気流が変化するとウェハ表面に塗布されつ
つあるフォトレジストからの有機溶媒の揮散速度が不均
一となり、フォトレジストの粘性にばらつきを生じて塗
布されるフォトレジストの膜厚が不均一となる。

このことを防止するため、塗布作業中にはドレインカッ
プの排気が一定となるように、各排気管にパルプを設け
られる。

しかしながら、上記の塗布装置では、レジスト受が共通
であるため、一方のスピナのみが稼働される場合、休止
中の他方のドレインカップ側の排気の影響を受は稼働中
のドレインカップ内に排気流に変化が生じてウェハに塗
布されるフォトレジストの膜厚が二つのドレインカップ
が同時に稼働される場合に比べて不均一になるという不
都合があることを本発明者は見いだした。

なお、塗布技術について述べられている文献としては、
株式会社工業調査会１９８３年３月１日発行［電子材料
Ｊ　１９８３年３月号、Ｐ６２〜Ｐ［発明の目的］ 本発明の目的は、塗布膜厚の均一性が良好な塗布技術を
提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

［発明の概要］ 本願において開示される発明のうち代表的なも、　　の
の概要を簡単に説明すれば、つぎの通りである。

すなわち、共通の塗布液受のそれぞれの塗布部′　　の
側に設けられ、各塗布部内の排気を調節する排気弁の少
なくとも一方の開度を相対する側の塗布部内の排気流速
に基゛づいて制御することによって、稼働中の塗布部に
おける塗布膜厚が休止中の塗布部内の排気に影響される
ことを防止した塗布技術を提供することにより前記目的
を達成するものである。

［実施例］ 第１図は本発明の一実施例であるフォトレジス６７、が
ある。

レジスト受１　（塗布液受）の上にはドレインカップ２
　（第１の塗布部）およびドレインカップ３（第２の塗
布部）が併設され、レジスト受１と連通されている。

ドレインカップ２および３内にはモータ（図示せず）に
よって回転されるスピナ４および５がそれぞれ設けられ
、ウェハ６がたとえば真空吸着の方法で固定され回転さ
れる構造とされている。

ドレインカップ２および３の上部には蓋７および８が着
脱自在に位置され、その中央部に設けられたレジスト滴
下ノズル９および１０によって適時にレジストがウェハ
６の中央に滴下されるように構成されている。

なお、ドレインカップ２の側が休止状態にされ、蓋７が
開放状態であることを示すため、Ｍ７およびレジスト滴
下ノズル９は一点鎖線で示されている。

さらに、レジスト受１のドレインカップ２および３のそ
れぞれの近傍には、排気管１１および１ト塗布装置の略
断面図である。

）および排気弁１４（第２の排気弁）が設けられている
。

ドレインカップ３のレジスト受１に連通される部分には
流速センサー５が位置され、連通部の排気流の流速が検
知されて制御部１６に伝達されるように構成されている
。

さらに、ドレインカップ３と相対する側の排気管１１に
設けられた排気弁１３には、制御部１６によって回動量
が制御されるサーボモーター７が接続され、制御部１６
による排気弁１３の開度の調整が可能なようにされ、ド
レインカップ３における排気流の流速が常に所定の値と
なるように構成されている。

このように、ドレインカップ３の排気流の流速に応じて
、相対する側の排気弁１３の開度が調整され、ドレイン
カップ３の排気流の流速が所定の値に保持されることが
可能にされているため、たとえばドレインカップ２が休
止状態にあり、ドレインカップ３側のみが稼働されウェ
ハ６に対するハロに形成されるフォトレジストの膜厚が
休止中のドレインカップ２側の排気によって影響される
ことが防止される。

さらに、レジスト受１の中央部は垂直方向の仕切１８に
よって仕切られており、ドレインカップ２例の排気の影
響がより低減されている。

次に、本実施例の作用について説明する。

まず、ドレインカップ３側のＭ８が開放され、スピナ５
上にはウェハ６が位置される。

この場合、ドレインカップ２側は休止状態にある。

ウェハ６はスピナ５によって回転され、ドレインカップ
３側の排気弁１４は閉止される。

次に、レジスト滴下ノズル１０から所定量のフォトレジ
ストが回転されるウェハ６の中央部に滴下され、遠心力
によってフォトレジストはウェハ６の全面にわたって分
散される。

この時、休止中のドレインカップ２側の排気の影響によ
って、ドレインカップ３とレジスト受１との連通部に生
しる排気流の流速が流速センサ１５を介して制御部１６
に伝達され、制御部１６はこの検出された流速がドレイ
ンカップ２および３が同時に稼働状態にあるときの排気
流速値になるようにサーボモータ１７を介して排気弁１
３の開度が制御される。

この結果、ドレインカップ３内の排気状態は、ドレイン
カップ２の休止による排気流の影響を受けることが防止
され、ウェハ６に形成されるフォトレジストの膜厚は、
ドレインカップ２が同時に稼働している場合と同様に、
均一に形成される。

次に、スピナ５の回転は停止され、Ｍ８が開放されてウ
ェハ６はドレインカップ３の外部に取り出される。

この時、排気弁１４は開放され、ドレインカップ３内の
排気が行われて、ドレインカップ３の内壁面に付着した
フォトレジストから揮散される有機溶媒蒸気が外部に散
逸し火災などの原因となることが防止される。

上記の一連の操作を繰り返すことによって、ドレインカ
ップ３内に位置される複数のウェハ６には、ドレインカ
ップ２の稼働あるいは休止にかかわらず、均一なフォト
レジスト膜が形成される。

［効果］ （１）、共通の塗布液受のそれぞれの塗布部の側に設け
られ、各塗布部内の排気を調節する排気弁の少なくとも
一方の開度を相対する側の塗布部内の排気流速に基づい
て制御されるため、稼働中の塗布部における塗布膜厚が
休止中の塗布部内の排気に影響されることが防止され、
ウェハには膜厚の安定なフォトレジスト膜が均一に形成
される。

（２）、共通の塗布液受内が仕切られることにより、一
方の塗布部における排気の他方の塗布部におけるフォト
レジストの塗膜に対する影響が低減される。

（３）、前記ｆｌ）、　（２１の結果、製造される半導
体装置の特性が安定する。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

たとえば、流速センサ１５をドレインカップ２の側に設
け、相対する側の排気弁１４の制御を行わせることも可
能である。

［利用分野］ 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるフォトレジスト塗布
技術に適用した場合について説明したが、それに限定さ
れるものではなく、板状の物品に均一な塗膜を形成させ
る工程に広く適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるフォトレジスト塗布装
置の略断面図である。 １・・・レジスト受（塗布液受）、２・・・ドレインカ
ップ（第１の塗布部）、３・・・ドレインカップ（第２
の塗布部）、４．５・・・スピナ、６・・・ウェハ、７
，８・・・Ｉｆ、９．１０・・・レジスト滴下ノズル、
１１．１２・・・排気管、１３・・・排気弁（第１の排
気弁）、１４・・・排気弁（第２の排気弁）、１５・・
・流速センサ、１６・・・制御部、１７・・・サーボモ
ータ、１８・・・仕切。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、共通の塗布液受の上に設けられた、少なくとも二つ
   の第１および第２の塗布部を有する塗布装置であって、
   塗布液受のそれぞれの塗布部の側に設けられ、各塗布部
   内の排気を調節する第１および第２の排気弁の少なくと
   も一方の開度が相対する側の塗布部内の排気流速に基づ
   いて制御されることを特徴とする塗布装置。 ２、塗布液受の内部が仕切られていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の塗布装置。 ３、塗布液がフォトレジストであることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の塗布装置。