JPS6092309A - 極薄重合体膜の製造法 - Google Patents
極薄重合体膜の製造法Info
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- JPS6092309A JPS6092309A JP20055983A JP20055983A JPS6092309A JP S6092309 A JPS6092309 A JP S6092309A JP 20055983 A JP20055983 A JP 20055983A JP 20055983 A JP20055983 A JP 20055983A JP S6092309 A JPS6092309 A JP S6092309A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は極薄重合体膜の製造法に関する。さらに詳しく
は混合気体に対し高透過性を有する極薄を素など)を分
離、濃縮する手段として、高分子薄膜を用いる方法が注
目されつつある。たとえば高分子膜の材料としてポリジ
メチルシロキサン、ポリジメチルシロキサン−ポリカー
ボネートブロック共重合体(米国特許3980456号
、同3874986号)、ポリジメチルシロキサン共重
合体(特開昭56−26504号など)およびオレフィ
ン系ポリマーたとえばポリ(4−メチルペンテン−1)
(特開昭57−4203号)が知られている。しかしこ
nらは特定気体(たとえば酸素)の透過係数(Pot)
、透過係数比(分離係数) (pO2/Pn2)および
薄膜化しうるための加工性のすべてを満足しうるもので
はなかった。
は混合気体に対し高透過性を有する極薄を素など)を分
離、濃縮する手段として、高分子薄膜を用いる方法が注
目されつつある。たとえば高分子膜の材料としてポリジ
メチルシロキサン、ポリジメチルシロキサン−ポリカー
ボネートブロック共重合体(米国特許3980456号
、同3874986号)、ポリジメチルシロキサン共重
合体(特開昭56−26504号など)およびオレフィ
ン系ポリマーたとえばポリ(4−メチルペンテン−1)
(特開昭57−4203号)が知られている。しかしこ
nらは特定気体(たとえば酸素)の透過係数(Pot)
、透過係数比(分離係数) (pO2/Pn2)および
薄膜化しうるための加工性のすべてを満足しうるもので
はなかった。
本発明者らはすぐれた透過係数および、分離係数を備え
た極薄重合体膜を得るべく鋭意検討した結果、本発明に
到達した。すなわち本発明は膜形成性重合体の炭化水素
溶液を水面」二に展開して薄重合体膜を製造する方法に
おいて、該重合体の少くとも一部として一般式 (式中、RはCl−1の直鎖または分岐のアルキル基で
ある)で示される繰返し111位を有する1−モノアル
キルジメチルシリルプロピン重合体を用い、珪つ該溶液
[1月こ非イオン界面活性剤を存在させることを特徴と
する極薄重合体膜の製造法である。
た極薄重合体膜を得るべく鋭意検討した結果、本発明に
到達した。すなわち本発明は膜形成性重合体の炭化水素
溶液を水面」二に展開して薄重合体膜を製造する方法に
おいて、該重合体の少くとも一部として一般式 (式中、RはCl−1の直鎖または分岐のアルキル基で
ある)で示される繰返し111位を有する1−モノアル
キルジメチルシリルプロピン重合体を用い、珪つ該溶液
[1月こ非イオン界面活性剤を存在させることを特徴と
する極薄重合体膜の製造法である。
一般式(1)においてR1のCl−1の直鎖状または分
岐状のアルキル基としては直鎖アルキル基たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル基など;分岐状のアルキ
ル基たとえばイソブチル基、ターシャリ−ブチル基など
があげられる。
岐状のアルキル基としては直鎖アルキル基たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル基など;分岐状のアルキ
ル基たとえばイソブチル基、ターシャリ−ブチル基など
があげられる。
一般式(1)で示される繰返し単位を有する重合体を得
るのに用いられる1−モノアルキルジメチルシリルプロ
ピンとしては1−トリメチルシリルプロピン、1−モノ
エチルジメチルシリルプロピン、1−モノ−n−プロピ
ルジメチルシリルプロピン、1−モノ−ローフチルジメ
チルシリルプロピンなどがあげられる。これらのうちで
好ましいものは1−1リメチルシリルプロピンである。
るのに用いられる1−モノアルキルジメチルシリルプロ
ピンとしては1−トリメチルシリルプロピン、1−モノ
エチルジメチルシリルプロピン、1−モノ−n−プロピ
ルジメチルシリルプロピン、1−モノ−ローフチルジメ
チルシリルプロピンなどがあげられる。これらのうちで
好ましいものは1−1リメチルシリルプロピンである。
1−トリメチルシリルプロピンは市販のモノマー(米国
のベトラーク社製品、チッソ社sp開発部製品T372
8 )を使用することができる。この重合体を得る方法
としては」二記をV族遷移金属であるニオブ(Nb)、
タンタル(Ta)に基ずく触媒(たとえばNb(Ji、
TaC25、NbBr1、TaBr1 )の存在下、ま
た溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素1.2−
ジクサフタン、4塩化炭素などの塩素系溶剤など)の存
在下、通常30°C〜1(川°Cで12〜36時間重合
することにより得ることができる。また、特願昭58−
84626号明細書に記載の方法によっても得ることが
できる。
のベトラーク社製品、チッソ社sp開発部製品T372
8 )を使用することができる。この重合体を得る方法
としては」二記をV族遷移金属であるニオブ(Nb)、
タンタル(Ta)に基ずく触媒(たとえばNb(Ji、
TaC25、NbBr1、TaBr1 )の存在下、ま
た溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素1.2−
ジクサフタン、4塩化炭素などの塩素系溶剤など)の存
在下、通常30°C〜1(川°Cで12〜36時間重合
することにより得ることができる。また、特願昭58−
84626号明細書に記載の方法によっても得ることが
できる。
得られた重合体は白色繊維状あるいは粉末状のポリマー
である。その数平均分子量は光散乱法で通常10000
以上、好ましくは10万以上である。
である。その数平均分子量は光散乱法で通常10000
以上、好ましくは10万以上である。
本発明において1−モノアルキルジメチルシリルプロピ
ン重合体は必要により他の重合体を併用することができ
る。他の重合体としては1−アルキン重合体(ターシャ
リ−ブチルアセチレン、ネオペンチルアセチレン、ター
シャリ−ペンチルアセチレンなどの重合体、好ましくは
ターシャリ−ブチルアセチレン重合体)、ビニルオルガ
ノシラン重合体(ビニルトリメチルシラン、ビニルトリ
エチルシラン、ビニルトリプロピルシランなどの重合体
、好ましくはビニルトリメチルシラン重合体)、ポリオ
ルガノシロキサン(ジメチルシロキサン、ポリメチルフ
ェニルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンなど)、
セルロース系重合体((5) エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、トリ
アセチルセルロースなど、好ましくはエチルセルロース
)、d−オレフィン系重合体(4−メチルペンテン−1
の重合体など)、アルギルスルホン重合体(α−オレフ
ィンとSO2の共重合体、好ましくはアルキル基が炭素
数として10〜20の長鎖アルキルスルホンの重合体な
ど)、第3級アミン含有重合体(ビニルピリジン重合体
、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート重合体、
N1N−ジメチルアミノスチレン重合体など、好ましく
はビニルピリジン重合体)などがあげられる。
ン重合体は必要により他の重合体を併用することができ
る。他の重合体としては1−アルキン重合体(ターシャ
リ−ブチルアセチレン、ネオペンチルアセチレン、ター
シャリ−ペンチルアセチレンなどの重合体、好ましくは
ターシャリ−ブチルアセチレン重合体)、ビニルオルガ
ノシラン重合体(ビニルトリメチルシラン、ビニルトリ
エチルシラン、ビニルトリプロピルシランなどの重合体
、好ましくはビニルトリメチルシラン重合体)、ポリオ
ルガノシロキサン(ジメチルシロキサン、ポリメチルフ
ェニルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンなど)、
セルロース系重合体((5) エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、トリ
アセチルセルロースなど、好ましくはエチルセルロース
)、d−オレフィン系重合体(4−メチルペンテン−1
の重合体など)、アルギルスルホン重合体(α−オレフ
ィンとSO2の共重合体、好ましくはアルキル基が炭素
数として10〜20の長鎖アルキルスルホンの重合体な
ど)、第3級アミン含有重合体(ビニルピリジン重合体
、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート重合体、
N1N−ジメチルアミノスチレン重合体など、好ましく
はビニルピリジン重合体)などがあげられる。
モノアルキルジメチルシリルプロピン重合体と第2成分
(他の重合体)を併用する場合、モノアルキルジメチル
シリルプロピン重合体の含量は通常50重量%以上好ま
しくは70重量%以」二である。
(他の重合体)を併用する場合、モノアルキルジメチル
シリルプロピン重合体の含量は通常50重量%以上好ま
しくは70重量%以」二である。
本発明における炭化水素溶液の調製に用いられる炭化水
素系溶剤としては沸点が通常30〜99°C1好ましく
は35〜70°Cのものである。具体的には直鎖または
分岐状の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素系溶剤−(
n−ペンタン、n−ヘキサン、イAI ソヘキサン、n−へブタン、n−オクタン、イソオクタ
ン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、石油エーテルなどし
好ましいものはn−ヘキサンおよび石油エーテJl/)
脂環式炭化水素系溶剤(シクロヘキサン、! シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサンなど、好ましくはシクロヘキセン)、芳香族炭
化水素系溶剤(ベンゼン、トルエン、0、mlまたはP
−キシレン、スチレン、エチルベンゼン、ナフタリンな
ど好ましくはベンセンおよびトルエン)、ハロゲン化炭
化水素系溶剤(4塩化炭素、1.2.3−1−リクロロ
プロパン、トリクロロエチレン、クロロホルム、クロル
ベンセ′ン、クロロエチルベンセン、など好ましくは1
,2.3−) IJクロロプロパン)およびこれらの2
種以上の混合物があげられる。
素系溶剤としては沸点が通常30〜99°C1好ましく
は35〜70°Cのものである。具体的には直鎖または
分岐状の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素系溶剤−(
n−ペンタン、n−ヘキサン、イAI ソヘキサン、n−へブタン、n−オクタン、イソオクタ
ン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、石油エーテルなどし
好ましいものはn−ヘキサンおよび石油エーテJl/)
脂環式炭化水素系溶剤(シクロヘキサン、! シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサンなど、好ましくはシクロヘキセン)、芳香族炭
化水素系溶剤(ベンゼン、トルエン、0、mlまたはP
−キシレン、スチレン、エチルベンゼン、ナフタリンな
ど好ましくはベンセンおよびトルエン)、ハロゲン化炭
化水素系溶剤(4塩化炭素、1.2.3−1−リクロロ
プロパン、トリクロロエチレン、クロロホルム、クロル
ベンセ′ン、クロロエチルベンセン、など好ましくは1
,2.3−) IJクロロプロパン)およびこれらの2
種以上の混合物があげられる。
本発明における溶液中の1−モノアルキルジメチルシリ
ルプロピ、ン重合体および必要により他の重合体の濃度
は通常001〜50重量%好ましくは0.5〜2.0重
量%である。yH′J度が0.01重量%未満では水面
−にに展開し薄膜形だするのに長時間かかり連続膜生産
に不利である。また濃度が50重量・%より大になると
、重合体溶液の粘度が高くなり均一に薄膜状に展開しに
くい。
ルプロピ、ン重合体および必要により他の重合体の濃度
は通常001〜50重量%好ましくは0.5〜2.0重
量%である。yH′J度が0.01重量%未満では水面
−にに展開し薄膜形だするのに長時間かかり連続膜生産
に不利である。また濃度が50重量・%より大になると
、重合体溶液の粘度が高くなり均一に薄膜状に展開しに
くい。
本発明において炭化水素溶液中に存在させる非イオン界
面活性剤としてはHLBが1−10の範囲にある非イオ
ン型界面活性剤が好ましい。T−T r、Bの決定方法
はグリフインの方法、ディビスの方法、用lx氏の方法
などが知られておりそのいずれかの方法によりHLBが
1〜10であればよいがグリフインの方法が一般的であ
る。
面活性剤としてはHLBが1−10の範囲にある非イオ
ン型界面活性剤が好ましい。T−T r、Bの決定方法
はグリフインの方法、ディビスの方法、用lx氏の方法
などが知られておりそのいずれかの方法によりHLBが
1〜10であればよいがグリフインの方法が一般的であ
る。
このような非イオン界面活性剤としては、下記のものが
あげられる。
あげられる。
〔1〕ポリオキシアルキレン系非イオン界面活性剤活性
水素含有化合物にアルキレンオキシド〔エチレンオキシ
ド(EOと略記)、プロピレンオキシド(POと略記)
など〕が付加した形の化合物があげられる。活性水素含
有化合物としてはフェノール類、アルコール類、カルボ
ン酸U’l 、アミン類、メルカプタン類、アミド類な
どがあげられる。
水素含有化合物にアルキレンオキシド〔エチレンオキシ
ド(EOと略記)、プロピレンオキシド(POと略記)
など〕が付加した形の化合物があげられる。活性水素含
有化合物としてはフェノール類、アルコール類、カルボ
ン酸U’l 、アミン類、メルカプタン類、アミド類な
どがあげられる。
フェノール類としては炭素数通常8〜12のアルキル基
を有するアルキルフェノールまたはアルキルナフト−ル
篇 スチレン化フェノール(フェノール、アルキルフェ
ノール、アルキルナフトールフェニルフェノールなどの
フェノール類とスチレン1〜20モルとの反応生成物)
などがあげられる。
を有するアルキルフェノールまたはアルキルナフト−ル
篇 スチレン化フェノール(フェノール、アルキルフェ
ノール、アルキルナフトールフェニルフェノールなどの
フェノール類とスチレン1〜20モルとの反応生成物)
などがあげられる。
アルコール類としては炭素数8〜20、好ましくは12
〜18の直鎖または分岐の天然または合成の脂肪族アル
コール、水酸基2〜8個の多価アルコールまたはその分
子内無水物(グリセリン、ペンタエリスリトール、ソル
ビトール、ソルビタンなど)多価アルコールと下記脂肪
酸との部分エステルなどがあげられる。
〜18の直鎖または分岐の天然または合成の脂肪族アル
コール、水酸基2〜8個の多価アルコールまたはその分
子内無水物(グリセリン、ペンタエリスリトール、ソル
ビトール、ソルビタンなど)多価アルコールと下記脂肪
酸との部分エステルなどがあげられる。
カルボン酸類としては炭素数8〜20、好ましくは12
〜18の飽和または不飽和脂肪酸、カルボキシル基2〜
4個のポリカルボン酸などがあげられる。
〜18の飽和または不飽和脂肪酸、カルボキシル基2〜
4個のポリカルボン酸などがあげられる。
アミン類としては炭素数8〜20のアルキルアミン、炭
素数2〜6のアルキレンジアミン、ポリアルキレン(C
z−6)ポリアミン;メルカプタン類としては炭素数8
〜20のアルキルメルカプタン;アミドとしてはアルキ
ロールアミド(炭素数5〜20の脂肪酸とモノまたはジ
ェタノールアミンの反応物などがあげられる。
素数2〜6のアルキレンジアミン、ポリアルキレン(C
z−6)ポリアミン;メルカプタン類としては炭素数8
〜20のアルキルメルカプタン;アミドとしてはアルキ
ロールアミド(炭素数5〜20の脂肪酸とモノまたはジ
ェタノールアミンの反応物などがあげられる。
ポリオキシアルキレン系非イオン界面活性剤の具体例は
下記のとおりである。
下記のとおりである。
(1)ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルア
ルキルフェノールまたはアルキルナフトールのEO付加
物たとえばノニルフェノールE(]21など。
ルキルフェノールまたはアルキルナフトールのEO付加
物たとえばノニルフェノールE(]21など。
(2) ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エス
テル 多価アルコールまたは分子内無水物と脂肪酸とのエステ
ルのEO付加物たとえばソルビタンモノステアレートE
Ot41゜ (3) ポリオキシエチレン脂肪酸エステル脂肪酸とポ
リエチレングリコールのエステル(モノまたはジエステ
ル)または脂肪酸のEO付加物、たとえばポリエチレン
グリコール(分子量200 )ステアリン酸モノエステ
ル、ポリエチレングリコール(分子量200)ラウリン
酸ジエステルなど。
テル 多価アルコールまたは分子内無水物と脂肪酸とのエステ
ルのEO付加物たとえばソルビタンモノステアレートE
Ot41゜ (3) ポリオキシエチレン脂肪酸エステル脂肪酸とポ
リエチレングリコールのエステル(モノまたはジエステ
ル)または脂肪酸のEO付加物、たとえばポリエチレン
グリコール(分子量200 )ステアリン酸モノエステ
ル、ポリエチレングリコール(分子量200)ラウリン
酸ジエステルなど。
(4)ポリオキシエチレンアルキルエーテル高級アルコ
ールのEO付加物たとえばオレイルアルコールEO(2
1など。
ールのEO付加物たとえばオレイルアルコールEO(2
1など。
(5) ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンポリ
オールプルロニックタイプの非イオン系界面活性剤たと
えばポリプロピレングリコール(1) P Gと略記)
(平均分子量(MW )900〜2900) のEO付
加物;テトロニックタイプの非イオン界面活性剤たとえ
ばポリオキシプロピレンアルキレンジアミンの、EO付
加物〔テトロニック(ワイアンドッl−%g) )など
。
オールプルロニックタイプの非イオン系界面活性剤たと
えばポリプロピレングリコール(1) P Gと略記)
(平均分子量(MW )900〜2900) のEO付
加物;テトロニックタイプの非イオン界面活性剤たとえ
ばポリオキシプロピレンアルキレンジアミンの、EO付
加物〔テトロニック(ワイアンドッl−%g) )など
。
〔2〕多価アルコール型非イオン界面活性剤(1) 多
価アルコール脂肪酸エステル多価アルコールまたは分子
内無水物と脂肪酸とのエステルたとえばソルビタンのオ
レイン酸エステル、ソルビタンのステアリン酸エステル
、ソルビタンのパルミチン酸エステル、ソルビタンのラ
ウリン酸エステル;エステルはそれぞれモノ、セスキま
たは、トリエステルなど。
価アルコール脂肪酸エステル多価アルコールまたは分子
内無水物と脂肪酸とのエステルたとえばソルビタンのオ
レイン酸エステル、ソルビタンのステアリン酸エステル
、ソルビタンのパルミチン酸エステル、ソルビタンのラ
ウリン酸エステル;エステルはそれぞれモノ、セスキま
たは、トリエステルなど。
これらのうちで好ましいものはポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテルであり、とくに好ましいものはノ
ニルフェノールのEOi〜5モル付加物である。
キルアリールエーテルであり、とくに好ましいものはノ
ニルフェノールのEOi〜5モル付加物である。
非イオン界面活性剤については「新・界面活性剤入門」
(藤本武彦著、昭和48年三洋化成工業発行)に記載さ
れている。
(藤本武彦著、昭和48年三洋化成工業発行)に記載さ
れている。
非イオン界面活性剤を1−モノアルキルジメチルシリル
プロピン重合体の炭化水素溶液に添加するに際し、その
添加量は該炭化水素溶液に対し通常0.0001〜0.
1重量%好ましくは0.001〜0.01重ノ 量%である。添加量が0.0001%未満では該重合体
溶液の水面」二への延展性が悪<0.1%より多いと生
成した薄膜の均一性が損なわれる。さらに非イオン界面
活性剤は重合体 に対して50重[i′1:%以下が好
ましい。
プロピン重合体の炭化水素溶液に添加するに際し、その
添加量は該炭化水素溶液に対し通常0.0001〜0.
1重量%好ましくは0.001〜0.01重ノ 量%である。添加量が0.0001%未満では該重合体
溶液の水面」二への延展性が悪<0.1%より多いと生
成した薄膜の均一性が損なわれる。さらに非イオン界面
活性剤は重合体 に対して50重[i′1:%以下が好
ましい。
重合体溶液を水面」二に展開する方法としては該溶液を
水面に添加ないし滴下する方法があげられる。重合体溶
液を水面に添加ないし滴下するとただちに水面」二に拡
がり極薄膜が形成される。
水面に添加ないし滴下する方法があげられる。重合体溶
液を水面に添加ないし滴下するとただちに水面」二に拡
がり極薄膜が形成される。
重合体の炭化水素溶液を水面−にに展開して重合体の極
薄膜を形成させるに際し、あらかじめ重合体溶液の温度
および水の温度を一定の温度範囲に保持しておくのが好
ましい。重合体溶液の温度は好ましくは20〜50°C
でありこの温度が20°Cより低いと重合体溶液の粘度
があがり薄膜状に拡がりにくい。重合体溶液の温度が5
0°Cより高(なると溶剤が揮発しやすく、水面−にに
展開したときしわになりやすい。−力水の温度は好まし
くは5〜30°Cとくに好ましくは10〜25°Cであ
る。この温度が5°Cより低い場合には重合体溶液は粘
度が」二昇し、薄膜状に拡がりにくくまた、この温度が
30°Cより高い場合には、溶剤が蒸発しやすくなり、
水面」二に滴下された重合体溶液は充分に自主的に拡が
りうπrい。
薄膜を形成させるに際し、あらかじめ重合体溶液の温度
および水の温度を一定の温度範囲に保持しておくのが好
ましい。重合体溶液の温度は好ましくは20〜50°C
でありこの温度が20°Cより低いと重合体溶液の粘度
があがり薄膜状に拡がりにくい。重合体溶液の温度が5
0°Cより高(なると溶剤が揮発しやすく、水面−にに
展開したときしわになりやすい。−力水の温度は好まし
くは5〜30°Cとくに好ましくは10〜25°Cであ
る。この温度が5°Cより低い場合には重合体溶液は粘
度が」二昇し、薄膜状に拡がりにくくまた、この温度が
30°Cより高い場合には、溶剤が蒸発しやすくなり、
水面」二に滴下された重合体溶液は充分に自主的に拡が
りうπrい。
本発明において、1−モノアルキルジメチルシリルプロ
ピン重合体 と他の重合体 を併用して極薄膜を得る場
合、その方法としては(1)2成分の混合物の溶液から
本発明と同様の方法で製膜することができる。水面−1
ユに流延し乾燥して形成された膜の膜厚は用いる重合体
の分子量および重合体溶液の濃度により種々変えること
ができるが、通常1μ以下(たとえば0.01〜1μ)
である。分子量が大きい重合体を低濃度で用いることに
より容易に0.1μ程度の極薄膜を作成することができ
る。
ピン重合体 と他の重合体 を併用して極薄膜を得る場
合、その方法としては(1)2成分の混合物の溶液から
本発明と同様の方法で製膜することができる。水面−1
ユに流延し乾燥して形成された膜の膜厚は用いる重合体
の分子量および重合体溶液の濃度により種々変えること
ができるが、通常1μ以下(たとえば0.01〜1μ)
である。分子量が大きい重合体を低濃度で用いることに
より容易に0.1μ程度の極薄膜を作成することができ
る。
また、高濃度の溶液を用いて−に記よりも厚い膜を形成
することもできる。
することもできる。
本発明によって得られる極薄膜はそれ自体で自立性が少
いので気体分離膜用に用いる場合には支持体が通常必要
である。この支持体としては、多孔質材たとえば和紙、
不織布、合成紙、濾紙、布1、セラミック多孔体、金属
多孔体、精密ン濾過膜、限外濾過膜などがあげられる。
いので気体分離膜用に用いる場合には支持体が通常必要
である。この支持体としては、多孔質材たとえば和紙、
不織布、合成紙、濾紙、布1、セラミック多孔体、金属
多孔体、精密ン濾過膜、限外濾過膜などがあげられる。
これらの支持体と複合化することにより気体分離用膜と
して充分に用いられる。複合化の方法は公知の方法でよ
くたとえば水面」二で形成された膜を支持体−にで加圧
密着させたり、すくいあげたり、支持体を通して吸引密
着させたりして支持体と複合化させることができる。こ
れらの支持体と膜の間に接着剤などを存在させて支持す
ることもできる。さらに支持体−にに膜を支持せしめた
ものを加熱処理してもよい。
して充分に用いられる。複合化の方法は公知の方法でよ
くたとえば水面」二で形成された膜を支持体−にで加圧
密着させたり、すくいあげたり、支持体を通して吸引密
着させたりして支持体と複合化させることができる。こ
れらの支持体と膜の間に接着剤などを存在させて支持す
ることもできる。さらに支持体−にに膜を支持せしめた
ものを加熱処理してもよい。
このようにして得られた極薄重合体膜は酸素透過係数は
通常10 ’ 〜10 ’ (CC(STP)/m、s
eelcmI−Tg )程度である。また酸素と質素と
の透過性との比は通常15〜30の範囲にある。
通常10 ’ 〜10 ’ (CC(STP)/m、s
eelcmI−Tg )程度である。また酸素と質素と
の透過性との比は通常15〜30の範囲にある。
本発明により得られる極薄膜は現在までに知られている
酸素富化膜として画期的に秀れており、実用化に際して
中文満足な性能を示すものである。
酸素富化膜として画期的に秀れており、実用化に際して
中文満足な性能を示すものである。
また他の重合体を併用することにより分離係数を高める
ことができる。
ことができる。
本発明により得られる極薄重合体膜は気体透過性、分離
係数及び薄膜化特性がいずれも優nているものである。
係数及び薄膜化特性がいずれも優nているものである。
すなわち、ポリジメチルシロキサンに匹敵しうるほどの
分離性をもち、気体の透過係数がポリジメチルシロキサ
ンより引越して優れ、オレフィン系ポリマーと同等以−
1−かつ薄膜化が容易に行えるものである。
分離性をもち、気体の透過係数がポリジメチルシロキサ
ンより引越して優れ、オレフィン系ポリマーと同等以−
1−かつ薄膜化が容易に行えるものである。
なお、本発明の製造法は、非イオン界面活性剤を使用し
ない場合と比較して (1) 比較的高濃度の重合体濃度(1重量%以」二)
で行うことができる。
ない場合と比較して (1) 比較的高濃度の重合体濃度(1重量%以」二)
で行うことができる。
(2) 適薄膜の形成を比1咬的短時間(通常1分以内
)に行うことができる。従って生産性が高く、連続成膜
に適している。
)に行うことができる。従って生産性が高く、連続成膜
に適している。
(3) 重合体濃度を比較的高濃度(1重17(以−1
−%)に設定しても極薄膜に均一性があり、ピンホール
などが生じることがない。非イオン界面活性剤を使用し
ない場合は比較的高濃度で実施すると極薄膜は多少不均
一性であり、そのため生成した極薄膜にピンホールなど
が生じ易い。
−%)に設定しても極薄膜に均一性があり、ピンホール
などが生じることがない。非イオン界面活性剤を使用し
ない場合は比較的高濃度で実施すると極薄膜は多少不均
一性であり、そのため生成した極薄膜にピンホールなど
が生じ易い。
水素等の広範囲の種類の溶剤を使用することができる。
などの点ではすぐれている。
本発明の方法により得られた極薄膜は気体分離に有用で
ある。つまり空気から酸素富化空気を製造するのに適し
、ボイラー各種加熱炉(焼成炉、! ガラス溶解炉など)、各種エンジンなどに応用し、省エ
ネ効果が期待される。さらにこの酸素富化空気は清浄で
あるので、未熟児の保育箱、呼吸器疾患患者の治療器と
して、あるいは人工肺、人工えうに使用でき、また超L
SI用クリーンルームのタストフリーの空気としても使
用できる。
ある。つまり空気から酸素富化空気を製造するのに適し
、ボイラー各種加熱炉(焼成炉、! ガラス溶解炉など)、各種エンジンなどに応用し、省エ
ネ効果が期待される。さらにこの酸素富化空気は清浄で
あるので、未熟児の保育箱、呼吸器疾患患者の治療器と
して、あるいは人工肺、人工えうに使用でき、また超L
SI用クリーンルームのタストフリーの空気としても使
用できる。
さらに、気体分離膜としてはアンモニアプラントのアン
モニアパージガスからの水素の回収、CI化学における
H2とCOの分離、天然ガスからのヘリウム回収、など
に利用できる。一方バイオマスから生成される水−アル
コール混合物をパーベーパレイジョン法により、アルコ
ールを選択的に分離するのにも使用可能である。
モニアパージガスからの水素の回収、CI化学における
H2とCOの分離、天然ガスからのヘリウム回収、など
に利用できる。一方バイオマスから生成される水−アル
コール混合物をパーベーパレイジョン法により、アルコ
ールを選択的に分離するのにも使用可能である。
以下実施例により本発明をさらに説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例、1〜7
1−トリメチルシリルプロピン重合体(以下PMSPと
いう) (PMSPの極限粘度はトルエン30°Cにお
いて6.9である)を用いPMS P単独または他の重
合体を混合して表1に示す炭化水素溶剤に1.5重量%
の溶液を調製した。さらに表1に示す非イオン型界面活
性剤(HLBを表示)を重合体の炭化水素溶液に対し、
0.005重量%になるように添加して展開溶液を調製
し、温度を20°Cに保持した。その展開溶液0.4y
を1辺が30 、、四方の底面積をもつ、ステンレス製
水浴(イオン交換水を使用。水温15°Cに固定する)
−1−に静かに添加した。
いう) (PMSPの極限粘度はトルエン30°Cにお
いて6.9である)を用いPMS P単独または他の重
合体を混合して表1に示す炭化水素溶剤に1.5重量%
の溶液を調製した。さらに表1に示す非イオン型界面活
性剤(HLBを表示)を重合体の炭化水素溶液に対し、
0.005重量%になるように添加して展開溶液を調製
し、温度を20°Cに保持した。その展開溶液0.4y
を1辺が30 、、四方の底面積をもつ、ステンレス製
水浴(イオン交換水を使用。水温15°Cに固定する)
−1−に静かに添加した。
重合体溶液は自主的に円形に広がり、約5秒後に極薄膜
が生成した。得られた極薄膜の膜面積力)らの平均膜厚
を表1に示した。
が生成した。得られた極薄膜の膜面積力)らの平均膜厚
を表1に示した。
表1
実情例8
実情例1で作成した極薄膜をジュラガード2400(ポ
リプロピレン多孔膜)」二にとり出し乾燥して複合膜を
作成しt:。
リプロピレン多孔膜)」二にとり出し乾燥して複合膜を
作成しt:。
得られた複合膜の気体透過早は(CC(STP)/L′
、、+。
、、+。
see、(7)Hg)を測定したところ、酸素透過量は
3.2X1.OFl盗素透過量は1.8X10 ”であ
った。
3.2X1.OFl盗素透過量は1.8X10 ”であ
った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 重合体の少くとも一部として一般式 (式中、RはC1−4の直鎖または分岐のアルキル基で
ある)で示される繰返し単位を有する1−モノアルキル
ジメチルシリルプロピン重合体を用い、且つ該溶液中に
非イオン界面活性剤を存在させるが0.0001〜0.
1重量%である特許請求の範囲第1項記載の製造法。 3、該炭化水素溶液の該重合体濃度が0.01〜5.0
重量%である特許請求の範囲 第1項または第2項記載
の製造法。 4、非イオン界面活性剤のI−I L 13が1〜10
である特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれか記載の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20055983A JPS6092309A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | 極薄重合体膜の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20055983A JPS6092309A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | 極薄重合体膜の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6092309A true JPS6092309A (ja) | 1985-05-23 |
JPH0339541B2 JPH0339541B2 (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=16426322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20055983A Granted JPS6092309A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | 極薄重合体膜の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6092309A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2688335A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-10 | Cogema | Procede de piegeage du ruthenium gazeux sur de la polyvinylpyridine, utilisable en particulier pour recuperer le ruthenium radioactif provenant de combustibles nucleaires irradies. |
CN114432892A (zh) * | 2020-10-31 | 2022-05-06 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种渗透汽化膜的制备方法 |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP20055983A patent/JPS6092309A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2688335A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-10 | Cogema | Procede de piegeage du ruthenium gazeux sur de la polyvinylpyridine, utilisable en particulier pour recuperer le ruthenium radioactif provenant de combustibles nucleaires irradies. |
CN114432892A (zh) * | 2020-10-31 | 2022-05-06 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种渗透汽化膜的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0339541B2 (ja) | 1991-06-14 |
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