JPS6092248A - アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 - Google Patents
アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法Info
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- JPS6092248A JPS6092248A JP19954183A JP19954183A JPS6092248A JP S6092248 A JPS6092248 A JP S6092248A JP 19954183 A JP19954183 A JP 19954183A JP 19954183 A JP19954183 A JP 19954183A JP S6092248 A JPS6092248 A JP S6092248A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学活性アミノプロパンジオール類の立体配
置を反転する方法に関するものである。
置を反転する方法に関するものである。
更に詳しくは、一般式
木
（式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１は０１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。）で表わされる光学活性アミノプロ
パンジオール類を、一般式 （式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。Ｒ２はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基
、ベンジル基、または置換ベンジル基を示す。）で表わ
される光学活性エポキシ化合物に誘導し、次いで水、あ
るいは塩基性水溶液と反応させることを特徴とする、一
般式 （式中、半は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１−Ｃ４の低級
アルキル基を示す。）で表わされる光学活性アミノプロ
パンジオール類に立体配置を反転する方法に関するもの
である。
アルキル基を示す。）で表わされる光学活性アミノプロ
パンジオール類を、一般式 （式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。Ｒ２はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基
、ベンジル基、または置換ベンジル基を示す。）で表わ
される光学活性エポキシ化合物に誘導し、次いで水、あ
るいは塩基性水溶液と反応させることを特徴とする、一
般式 （式中、半は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１−Ｃ４の低級
アルキル基を示す。）で表わされる光学活性アミノプロ
パンジオール類に立体配置を反転する方法に関するもの
である。
光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールに関して、そ
の立体配置がｆｓ１体の「ヒ合物は光学活性のβ−受容
体遮断薬の有用な合成中間体であることが知られている
。Ｎの置換基についてはイソプロピル基およびｔ−ブチ
ル基が薬効の面から重要である。
の立体配置がｆｓ１体の「ヒ合物は光学活性のβ−受容
体遮断薬の有用な合成中間体であることが知られている
。Ｎの置換基についてはイソプロピル基およびｔ−ブチ
ル基が薬効の面から重要である。
一般に、不斉炭素を有する化合物を、光学分割、あるい
は不斉加水分解によって得た場合、工業的には不必要な
光学異性体をラセミ化させて、もう一度利用するか、望
ましくは不必要な光学異性体を必要な光学異性体に反転
させる方法が必須である。一般式ｆＩｌで表わされる光
学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールの有効な所望と
する光学活性体への反転方法の報告例はなく、さらに有
効なラセミ化方法さえ見出されていない。また光学活性
２−アミノアルコール類の立体配置を変換する方法とし
ては特開昭４９−７５５４５．特開昭５５−２０７８５
が知られているが、光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジ
オールには適用できなかつた。
は不斉加水分解によって得た場合、工業的には不必要な
光学異性体をラセミ化させて、もう一度利用するか、望
ましくは不必要な光学異性体を必要な光学異性体に反転
させる方法が必須である。一般式ｆＩｌで表わされる光
学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールの有効な所望と
する光学活性体への反転方法の報告例はなく、さらに有
効なラセミ化方法さえ見出されていない。また光学活性
２−アミノアルコール類の立体配置を変換する方法とし
ては特開昭４９−７５５４５．特開昭５５−２０７８５
が知られているが、光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジ
オールには適用できなかつた。
本発明者らは、この点に関し検討し、光学活性なＮ−置
換アミノプロパンジオールから誘導されるエポキシ化合
物を水あるいは塩基性水溶液で処理すると驚くべきこと
に不斉炭素の立体配置が反転すると同時に、−挙に所望
する立体配置を有するＮ−置換アミノプロパンジオール
が生成することを見出して本発明を完成させた。
換アミノプロパンジオールから誘導されるエポキシ化合
物を水あるいは塩基性水溶液で処理すると驚くべきこと
に不斉炭素の立体配置が反転すると同時に、−挙に所望
する立体配置を有するＮ−置換アミノプロパンジオール
が生成することを見出して本発明を完成させた。
具体的に本発明の反転方法を式で示すと式１の通りに表
わされる。
わされる。
式１
（）
（式中、記号は前記と同一）
本発明における反転工程の出発物質の化合物（Ｉｌ、牽
号は前記と同一）で表わされる光学活性Ｎ−置換アミノ
プロパンジオール化合物は、本出願人の特許出願（特願
昭５７−１４１５７４．同５７−１４１５７５、同５７
−１９０５８５）により得られる光学活性５−ヒドロキ
シメチル−Ｎ−置換オキサゾリジン−２−オンをアルカ
リ加水分解して容易に取得できる。
プロパンジオール化合物は、本出願人の特許出願（特願
昭５７−１４１５７４．同５７−１４１５７５、同５７
−１９０５８５）により得られる光学活性５−ヒドロキ
シメチル−Ｎ−置換オキサゾリジン−２−オンをアルカ
リ加水分解して容易に取得できる。
次に、立体配置の保持された光学活性エポキシ化合物ｆ
ｉｌへの変換方法は種々の公知の反応を組み合わせて達
成できる。例えば式２および式３の方法によって行われ
る。
ｉｌへの変換方法は種々の公知の反応を組み合わせて達
成できる。例えば式２および式３の方法によって行われ
る。
式２
（）
式８
０Ｈ
＊ Ｈ塩基
ＣＨ３Ｃ６Ｈ５５Ｏ２０ＣＨ２−ＣＨＣＨ２ＮＲ１−一
→即ち、式２に示すように、光学活性Ｎ−置換アミノプ
ロパンジオールをＨＢｒ−酢酸と反応させ、次いでナト
リウムメチラート等の塩基でエポキシ誘導体に変換し、
ついでクロル炭酸アルキルやクロル炭酸ベンジル等でア
ミノ基をカルバメート基にして光学活性のエポキシ化合
物（ＩＩ）を得ることができる。式８では、ＨＢｒ−酢
酸の替りにｐ−トルエンスルホニルクロリド等で光学活
性のトシレート体に誘導し、ついでナトリウムメチラー
ト等の塩基で式２と同様のエポキシ誘導体に変換できる
。これらの光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールか
ら化合物（Ｉ）のエポキシ化合物に変換する工程では不
斉炭素の立体配置は保持されている。
→即ち、式２に示すように、光学活性Ｎ−置換アミノプ
ロパンジオールをＨＢｒ−酢酸と反応させ、次いでナト
リウムメチラート等の塩基でエポキシ誘導体に変換し、
ついでクロル炭酸アルキルやクロル炭酸ベンジル等でア
ミノ基をカルバメート基にして光学活性のエポキシ化合
物（ＩＩ）を得ることができる。式８では、ＨＢｒ−酢
酸の替りにｐ−トルエンスルホニルクロリド等で光学活
性のトシレート体に誘導し、ついでナトリウムメチラー
ト等の塩基で式２と同様のエポキシ誘導体に変換できる
。これらの光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールか
ら化合物（Ｉ）のエポキシ化合物に変換する工程では不
斉炭素の立体配置は保持されている。
本発明における反転工程の原料の光学活性エポキシ化合
物（Ｉ）の置換基Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基か
ら選択することができる。たとえばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル。
物（Ｉ）の置換基Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基か
ら選択することができる。たとえばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル。
ｔ−ブチル基等が挙げられるが、薬効の高いβ−受容体
遮断薬に対応するアルキル基としてイソプロピル基とｔ
−ブチル基が好適である。化合物徂１の置換基Ｒ２はア
ミノ基をカルバメート基にする際の試薬により規定され
る。この試薬としてはクロル炭酸メチル、クロル炭酸エ
チル、クロル炭酸ベンジル又は、クロル炭酸置換ベンジ
ルが使用できる。これらに対応する置換基Ｒ２はメチル
、エチル、ベンジルおよび置換ベンジル基である。置換
ベンジル基としてはｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジル、０−メトキシベンジル、ｏ−ニトロベンジル
等の置換ベンジル基が使用できる。
遮断薬に対応するアルキル基としてイソプロピル基とｔ
−ブチル基が好適である。化合物徂１の置換基Ｒ２はア
ミノ基をカルバメート基にする際の試薬により規定され
る。この試薬としてはクロル炭酸メチル、クロル炭酸エ
チル、クロル炭酸ベンジル又は、クロル炭酸置換ベンジ
ルが使用できる。これらに対応する置換基Ｒ２はメチル
、エチル、ベンジルおよび置換ベンジル基である。置換
ベンジル基としてはｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジル、０−メトキシベンジル、ｏ−ニトロベンジル
等の置換ベンジル基が使用できる。
上記の光学活性エポキシ化合物（ＩＩ）のアミノ基の置
換基Ｒ２は反転工程において脱離する基であり、工業的
には、Ｒ２がメチルｉよびエチル基が好ましい。
換基Ｒ２は反転工程において脱離する基であり、工業的
には、Ｒ２がメチルｉよびエチル基が好ましい。
これらの光学活性エポキシ化合物（ＩＩ）を水あるいは
塩基性水溶液で処理することにより反転したＮ−置換ア
ミノプロパンジオールに変換させることができる。
塩基性水溶液で処理することにより反転したＮ−置換ア
ミノプロパンジオールに変換させることができる。
本発明で使用する塩基としては、水酸化す） ＩＪウム
、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
、水酸化アルミニウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム
等の無機塩基が使用できる。溶媒としては水が好ましい
が、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素；メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類；塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素；ジオキサンエ
チルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類お
よびジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル等の極性溶媒と水との混合系も使用でき
る。
、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
、水酸化アルミニウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム
等の無機塩基が使用できる。溶媒としては水が好ましい
が、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素；メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類；塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素；ジオキサンエ
チルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類お
よびジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル等の極性溶媒と水との混合系も使用でき
る。
反応は均−系でも不均一系でも進行し、反応温度は室温
から使用する溶媒の還流温度まで選択することができる
。好ましくは室温から約５０℃の範囲である。
から使用する溶媒の還流温度まで選択することができる
。好ましくは室温から約５０℃の範囲である。
本反応において塩基を使用する場合は、反応系の規定度
が約３規定まで使用できる。これらの反応条件で本反応
を実施すると、反応は数時間から４８時間の範囲で終了
できる。反応後、反応液を水酸化ナトリウム水溶液など
のアルカリ水溶液でアルカリ性にして、塩化メチレンや
酢酸エチルなどの有機溶媒で反応物を抽出できる。分液
した有機層を減圧下に濃縮することにより目的とする立
体配置が反転した光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオ
ールが得られる。目的物が結晶の場合は、析出する結晶
を濾過することにより容易に取得することができる。必
要によってはアセトン等の溶媒で再結晶し精製すること
もできる。また、目的物が液体の場合は、そのままでは
純度の高いものが得られるが、必要に応じて蒸留あるい
はカラムにより精製することもできる。
が約３規定まで使用できる。これらの反応条件で本反応
を実施すると、反応は数時間から４８時間の範囲で終了
できる。反応後、反応液を水酸化ナトリウム水溶液など
のアルカリ水溶液でアルカリ性にして、塩化メチレンや
酢酸エチルなどの有機溶媒で反応物を抽出できる。分液
した有機層を減圧下に濃縮することにより目的とする立
体配置が反転した光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオ
ールが得られる。目的物が結晶の場合は、析出する結晶
を濾過することにより容易に取得することができる。必
要によってはアセトン等の溶媒で再結晶し精製すること
もできる。また、目的物が液体の場合は、そのままでは
純度の高いものが得られるが、必要に応じて蒸留あるい
はカラムにより精製することもできる。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
参考例１
（５Ｒ）−８−ｔ−ブチル−５−ヒドロギシメチルーオ
キサゾリンン−２−オン〔α） 、 ＝−４４，７゜（
Ｃ＝ １ 、 ＣＨＣｆａ） ８．Ｏｇを６Ｎ−ＮａＯ
Ｈ８０ｍＪに溶かし、９５℃で３時間撹拌する。反応後
、反応液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧
留去すると（Ｒ） −８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−
ジヒドロキシプロパンの白色結晶２．４７が得られる。
キサゾリンン−２−オン〔α） 、 ＝−４４，７゜（
Ｃ＝ １ 、 ＣＨＣｆａ） ８．Ｏｇを６Ｎ−ＮａＯ
Ｈ８０ｍＪに溶かし、９５℃で３時間撹拌する。反応後
、反応液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧
留去すると（Ｒ） −８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−
ジヒドロキシプロパンの白色結晶２．４７が得られる。
〔α） ＝＋８１°（Ｃ＝ １ 、 ＩＮ ＨＣｆ）ｍ
−Ｉ）＝ ８４°〜８５℃ ”ＨＮＭＲ（ＣＤＣｆａ 、９０ＭＨｚ）δｐｐｍＨＯ
−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−ＮＨ−）、８．４５〜
８．７５（３Ｈ，ＨＯＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ） −）参考
例２ （５Ｒ）−８−イソプロピル−５−ヒドロキシメチル−
オキサゾリジン−２−オン〔α） ＝−５７，６゜（Ｃ
＝ １ 、 ＣＨＣｆａ） ４．０９を６ Ｎ−ＮａＯ
Ｈ３０ｍｅにとかし、９０℃で８時間撹拌する。反応後
、反応液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧
留去するとｆＲｌ−８−イソプロピルアミノ−１，２−
ジヒドロキシプロパンの液体３．０７が得られる。
−Ｉ）＝ ８４°〜８５℃ ”ＨＮＭＲ（ＣＤＣｆａ 、９０ＭＨｚ）δｐｐｍＨＯ
−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−ＮＨ−）、８．４５〜
８．７５（３Ｈ，ＨＯＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ） −）参考
例２ （５Ｒ）−８−イソプロピル−５−ヒドロキシメチル−
オキサゾリジン−２−オン〔α） ＝−５７，６゜（Ｃ
＝ １ 、 ＣＨＣｆａ） ４．０９を６ Ｎ−ＮａＯ
Ｈ３０ｍｅにとかし、９０℃で８時間撹拌する。反応後
、反応液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧
留去するとｆＲｌ−８−イソプロピルアミノ−１，２−
ジヒドロキシプロパンの液体３．０７が得られる。
〔α］ ＝＋８８．９°（Ｃ＝１ 、ＩＮ ＨＣｆ）ｂ
、ｐ＝９７°Ｃ（１ｍｍＨｇ） ＩＨＮＭＲＣＣＤＣ１５，９０ＭＨｚ）δｐｐｍ１．０
２〜１．１８（６Ｈ，ｄ 、ＣＨ（ＣＨ３）２）２．４
５〜２．９０ （８Ｈ、−ＣＨ２ＮＨ−）３．４０〜８
．９０ （６Ｈ、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨＣ
＜）実施例１ 参考例１で得られた（Ｒ）−８−ｔ−ブチルアミノ−１
，２−ジヒドロキシプロパン２．４７を臭化水素−酢酸
溶液（２５％） ４０ ｍｌに加え、室温で３時間撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮すると結晶が析出する
。この結晶をエーテルで洗浄して（Ｒ）−２−アセトキ
シ−１−ブロモ−３−【−ブチルアミノプロパンのＨＢ
ｒ塩４．９ｇが得られる。（Ｒ）−２−アセトキシ−１
−ブロモ−ａ−を−ブチルアミノプロパンのＨＢｒ塩２
グをメタノール１０ｍｊ’に溶かし、この溶液にナトリ
ウムメトキシド（２８％メタノール溶液）２．５Ｐを冷
却しながら滴下する。滴下後３０分撹拌する。反応後、
反応液を減圧濃縮する。水２０ｍｐを加え塩化メチレン
で抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−８−
１−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパンの液体が
得られる。これを全量、塩化メチレン５ｍｌにとかし、
さらに水５ｍｌ！ 加えたものに、クロル炭酸エチル０
．８７を塩化メチレン５ｍｌにとかした溶液と炭酸カリ
ウム１．１２を水５ｍＪにとかした溶液を冷却下、同時
に滴下し、室温で３時間撹拌する。反応後、反応液に２
ＮＮａＯＨｌＯｍｆを加えて塩化メチレンで抽出する。
、ｐ＝９７°Ｃ（１ｍｍＨｇ） ＩＨＮＭＲＣＣＤＣ１５，９０ＭＨｚ）δｐｐｍ１．０
２〜１．１８（６Ｈ，ｄ 、ＣＨ（ＣＨ３）２）２．４
５〜２．９０ （８Ｈ、−ＣＨ２ＮＨ−）３．４０〜８
．９０ （６Ｈ、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨＣ
＜）実施例１ 参考例１で得られた（Ｒ）−８−ｔ−ブチルアミノ−１
，２−ジヒドロキシプロパン２．４７を臭化水素−酢酸
溶液（２５％） ４０ ｍｌに加え、室温で３時間撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮すると結晶が析出する
。この結晶をエーテルで洗浄して（Ｒ）−２−アセトキ
シ−１−ブロモ−３−【−ブチルアミノプロパンのＨＢ
ｒ塩４．９ｇが得られる。（Ｒ）−２−アセトキシ−１
−ブロモ−ａ−を−ブチルアミノプロパンのＨＢｒ塩２
グをメタノール１０ｍｊ’に溶かし、この溶液にナトリ
ウムメトキシド（２８％メタノール溶液）２．５Ｐを冷
却しながら滴下する。滴下後３０分撹拌する。反応後、
反応液を減圧濃縮する。水２０ｍｐを加え塩化メチレン
で抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−８−
１−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパンの液体が
得られる。これを全量、塩化メチレン５ｍｌにとかし、
さらに水５ｍｌ！ 加えたものに、クロル炭酸エチル０
．８７を塩化メチレン５ｍｌにとかした溶液と炭酸カリ
ウム１．１２を水５ｍＪにとかした溶液を冷却下、同時
に滴下し、室温で３時間撹拌する。反応後、反応液に２
ＮＮａＯＨｌＯｍｆを加えて塩化メチレンで抽出する。
塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩
化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−Ｎ−エトキシカル
ボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロ
パン１．１７の液体を得る。
化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−Ｎ−エトキシカル
ボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロ
パン１．１７の液体を得る。
得られた（Ｒ） −Ｎ−エトキシカルボニル−３−１−
ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．０グをＮ
ａＯＨでｐ）Ｉ １２に調整した水溶液に加え、室温で
７時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを
加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。
ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．０グをＮ
ａＯＨでｐ）Ｉ １２に調整した水溶液に加え、室温で
７時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを
加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。
塩化メチレンを減圧留去すると結晶が得られる。
これをヘキサンで洗浄し沢取すると（Ｓ）−８−を−ブ
チルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶
０．６５ｇが得られる。
チルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶
０．６５ｇが得られる。
〔α）、＝−８１°（Ｃ＝１．ＩＮ ＨＣｆ）実施例２
参考例２で得られた（Ｒ） −８−イソプロピルアミノ
−１，２−ジヒドロキシプロパンａ、ｏｐをピリジン塩
酸塩２．９７とピリジン１０ｍＪを含む溶液ニドカス。
−１，２−ジヒドロキシプロパンａ、ｏｐをピリジン塩
酸塩２．９７とピリジン１０ｍＪを含む溶液ニドカス。
この溶液に冷却下、パラトルエンスルホン酸クロライド
４．４７を塩化メチレン１０ｍＪにとかした溶液を滴下
する。５時間室温で撹拌する。反応後、反応液に炭酸カ
リウム１．６７を水５０ｍ、／にして加える。この溶液
から過剰のピリジンを減圧留去した後、炭酸カリウム３
．７７加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
沢過で除いた溶液にｐ−）ルエンスルホン酸４．３７を
加え、塩化メチレンを減圧留去すると粗（Ｒ）−１，２
−ジヒドロキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−１
−ｐ−）ルエンスルホナートのｐ−トルエンスルホン酸
塩９．４９が得られる。次に、この塩をイソプロピルア
ルコールで再結して得た塩の一部５．８２をメタノール
５０ｍＪにとかし、この溶液にナトリウムメトキシド（
２８％メタノール溶液）５．２Ｆを冷却しながら滴下す
る。
４．４７を塩化メチレン１０ｍＪにとかした溶液を滴下
する。５時間室温で撹拌する。反応後、反応液に炭酸カ
リウム１．６７を水５０ｍ、／にして加える。この溶液
から過剰のピリジンを減圧留去した後、炭酸カリウム３
．７７加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
沢過で除いた溶液にｐ−）ルエンスルホン酸４．３７を
加え、塩化メチレンを減圧留去すると粗（Ｒ）−１，２
−ジヒドロキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−１
−ｐ−）ルエンスルホナートのｐ−トルエンスルホン酸
塩９．４９が得られる。次に、この塩をイソプロピルア
ルコールで再結して得た塩の一部５．８２をメタノール
５０ｍＪにとかし、この溶液にナトリウムメトキシド（
２８％メタノール溶液）５．２Ｆを冷却しながら滴下す
る。
滴下後３０分撹拌する。反応後、反応液を減圧濃縮する
。水５０ｍｆを加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メ
チレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチ
レンを減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルアミノ
−１，２−エポキシプロパンの液体が得られる。これを
全量、塩化メチレン１０ｍＪにとかし、さらに水１０ｍ
Ｉ！加えたものに、クロル炭酸エチル１．８７を塩ｒメ
チレン１０ｄにとかした溶液と炭酸カリウム２．２７を
水１０ｍ１！にとかした溶液を、冷却下、同時に滴下し
、室温で３時間撹拌する。反応後、反応液に２ＮＮａＯ
Ｈ２０ｍｆ加えて塩化メチレンで抽出する。
。水５０ｍｆを加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メ
チレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチ
レンを減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルアミノ
−１，２−エポキシプロパンの液体が得られる。これを
全量、塩化メチレン１０ｍＪにとかし、さらに水１０ｍ
Ｉ！加えたものに、クロル炭酸エチル１．８７を塩ｒメ
チレン１０ｄにとかした溶液と炭酸カリウム２．２７を
水１０ｍ１！にとかした溶液を、冷却下、同時に滴下し
、室温で３時間撹拌する。反応後、反応液に２ＮＮａＯ
Ｈ２０ｍｆ加えて塩化メチレンで抽出する。
塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩
化メチレンを減圧留去すると、（Ｒ） −Ｎ −エトキ
シカルボニル−３−イソプロピルアミノ−１，２−エポ
キシプロパンの液体を１．８７得る。
化メチレンを減圧留去すると、（Ｒ） −Ｎ −エトキ
シカルボニル−３−イソプロピルアミノ−１，２−エポ
キシプロパンの液体を１．８７得る。
得られた（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３−イソプ
ロピルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．０７をＮ
ａＯＨでｐＨ１２に調整した水溶液に加え、室温で６時
間撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを加え
、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去する
と液体０，６５７を得る。このものを、さらに蒸留によ
り精製すると（Ｓ）−８−イソプロピルアミノ−１，２
−ジヒドロキシプロパンの液体０．５ＥＮ’を得る。
ロピルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．０７をＮ
ａＯＨでｐＨ１２に調整した水溶液に加え、室温で６時
間撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを加え
、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去する
と液体０，６５７を得る。このものを、さらに蒸留によ
り精製すると（Ｓ）−８−イソプロピルアミノ−１，２
−ジヒドロキシプロパンの液体０．５ＥＮ’を得る。
〔α）、＝−３８，９°（Ｃ＝１．ＩＮ ＨＣＩり実施
例３ 実施例１と同様にして得られる（Ｒ１−Ｎ−エトキシカ
ルボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプ
ロパン１．Ｏｙを水１０ｍ１に加え４８時間室温で撹拌
する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを加え塩化メ
チレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が
得られる。これをヘキサンで洗浄し沢取すると（Ｓ）−
８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン
の白色結晶０．６５７が得られる。
例３ 実施例１と同様にして得られる（Ｒ１−Ｎ−エトキシカ
ルボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプ
ロパン１．Ｏｙを水１０ｍ１に加え４８時間室温で撹拌
する。反応後、反応液に水酸化ナトリウムを加え塩化メ
チレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が
得られる。これをヘキサンで洗浄し沢取すると（Ｓ）−
８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン
の白色結晶０．６５７が得られる。
〔α） ＝−３１°（Ｃ＝１．ＩＮ ＨＣＩり実施例４
実施例１と同様にして得られる（Ｒ） −Ｎ−エトキシ
カルボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシ
プロパン１．０ｇを０．０１Ｎ Ｋ２ＣＯａ２０ｍＪに
加え、１０時間室温で撹拌する。反応後、反応液に水酸
化ナトリウムを加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると結晶が得られる。これをヘキサンで
洸浄し沢取すると（Ｓ）−８−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶０．６０５’が得
られる。
カルボニル−８−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシ
プロパン１．０ｇを０．０１Ｎ Ｋ２ＣＯａ２０ｍＪに
加え、１０時間室温で撹拌する。反応後、反応液に水酸
化ナトリウムを加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると結晶が得られる。これをヘキサンで
洸浄し沢取すると（Ｓ）−８−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶０．６０５’が得
られる。
〔α’ｌ］ ＝−８１° （Ｃ＝１．ＩＮ Ｈｃｌ）実
施例５ 実施例１と同様にして得られた（Ｒ） −８−ｔ −ブ
チルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．（ｌをアセ
トン５ｍ７？にとかじ、さらに水５ ｍＪを加えたもの
にクロル炭酸エチル０，８ｇをアセトン５ｍＪにとかし
た溶液と、炭酸カリウム１．１７を水５ｍｆにとかした
溶液を、冷却下、同時に滴加し、室温で１２時間撹拌す
る。反応後、反応液からアセトンを減圧留去し、水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると結晶が得られる。これをヘキサンで
洸浄し、沢取すると（Ｓ）−８−ｔ ブチルアミノ−１
，２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶０．７７が得ら
れる。
施例５ 実施例１と同様にして得られた（Ｒ） −８−ｔ −ブ
チルアミノ−１，２−エポキシプロパン１．（ｌをアセ
トン５ｍ７？にとかじ、さらに水５ ｍＪを加えたもの
にクロル炭酸エチル０，８ｇをアセトン５ｍＪにとかし
た溶液と、炭酸カリウム１．１７を水５ｍｆにとかした
溶液を、冷却下、同時に滴加し、室温で１２時間撹拌す
る。反応後、反応液からアセトンを減圧留去し、水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると結晶が得られる。これをヘキサンで
洸浄し、沢取すると（Ｓ）−８−ｔ ブチルアミノ−１
，２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶０．７７が得ら
れる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）一般式 （式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。） で表わされる光学活性アミノプロパンジオール類を、一
般式 （式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。Ｒ２はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基
またはベンジル基を示す。）で表わされる光学活性エポ
キシ化合物に誘導し、次いで水あるいは塩基性水溶液と
反応させることを特徴とする、一般式 （式中、米は不斉炭素を示す。Ｒ１はＣ１〜Ｃ４の低級
アルキル基を示す。） で表わされる光学活性アミノプロパンジオール類に立体
配置を反転する方法。 （２１Ｒ１がインプロピル基、又はｔ−ブチル基である
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ＋３Ｊ Ｒ２がメチル基、又はエチル基である特許請求
の範囲第１項記載の方法。 （４）反転の際の溶媒が水である特許請求の範囲第１項
記載の方法。 （５）塩基性水溶液の塩基が無機塩基である特許請求の
範囲第１項記載の方法。 （６）無機塩基が水酸化アルカリ又は炭酸アルカリであ
る特許請求の範囲第５項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19954183A JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19954183A JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092248A true JPS6092248A (ja) | 1985-05-23 |
| JPH0480896B2 JPH0480896B2 (ja) | 1992-12-21 |
Family
ID=16409537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19954183A Granted JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092248A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070045A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Nisshin Pharma Inc. | 光学活性な６－ホルミル－１,４－ベンゾジオキシン－２－カルボン酸誘導体の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP19954183A patent/JPS6092248A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070045A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Nisshin Pharma Inc. | 光学活性な６－ホルミル－１,４－ベンゾジオキシン－２－カルボン酸誘導体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0480896B2 (ja) | 1992-12-21 |
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